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最新专利技术
  • 一种感应式可视化翻转计时器
    一种感应式可视化翻转计时器_福州三立电子有限公司_202610245381.2
    本发明涉及翻转计时器技术领域，公开了一种感应式可视化翻转计时器。通过六轴姿态传感器获取翻转角度、翻转角速度和姿态保持时长数据，对翻转动作进行分级识别，将翻转角度划分为微调角度区间、切换角度区间和复位角度区间，将翻转速度划分为一级翻转和二级翻...
    2026-04-10
  • 一种表体和可穿戴设备
    一种表体和可穿戴设备_华为技术有限公司_202411375083.2
    本申请提供了一种表体和可穿戴设备，该表体包括壳体和柔性显示屏。其中，柔性显示屏和壳体固定连接。壳体包括第一壳体以及可相对第一壳体转动的第二壳体。柔性显示屏可以随壳体的转动相对弯折，从而使在显示屏尺寸增大的情况下用户佩戴更为舒适，以提升用户体...
    2026-04-10
  • 多时区同步显示时钟及跨时区时间协同方法
    多时区同步显示时钟及跨时区时间协同方法_徐之恒_202511949539.6
    本发明公开了一种多时区同步显示时钟及跨时区时间协同方法，包括时钟运行机构、24小时标识的显示表盘，和使数个时区指针保持相对角度位置固定并同步转动的同步机构；同步机构上、表盘中心与每一时间标识连线相交位置分别均设置一指针固定点；数个能够区别的...
    2026-04-10
  • 一种基于飞秒激光加工计算全息的方法
    一种基于飞秒激光加工计算全息的方法_南昌大学_202511947503.4
    本发明属于激光加工技术领域，具体的说是一种基于飞秒激光加工计算全息的方法，包括以下步骤：步骤一：根据光学检测需求，设计适配飞秒激光在石英玻璃衬底上加工的CGH图案；步骤二：设置飞秒激光器的加工参数，利用其非热加工特性减少石英玻璃衬底的晶格损...
    2026-04-10
  • 图像形成装置及显示方法
    图像形成装置及显示方法_夏普株式会社_202511267706.9
    本发明的目的之一在于，当检测到传感器的污渍时，能够根据图像形成装置的状态，对向用户通知的消息的显示进行控制。图像形成装置包括：传感器；清洁机构，其对所述传感器进行清洁；显示部；作业执行部；检测部，其检测所述传感器的污渍；以及控制部，其在所述...
    2026-04-10
  • 一种对准装置和掩膜版对准系统
    一种对准装置和掩膜版对准系统_上海新毅东半导体科技有限公司_202512057561.6
    本申请提供一种对准装置和掩膜版对准系统，涉及半导体技术领域，包括基板，基板上设置有反射镜组件、固定镜头组件、粗对准组件、精对准组件和相机组件，反射镜组件、固定镜头组件、粗对准组件和相机组件用于形成粗对准光路，反射镜组件、固定镜头组件、精对准...
    2026-04-10
  • 实现显影液均匀分布的方法
    实现显影液均匀分布的方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202610229589.5
    本发明提供了一种实现显影液均匀分布的方法，包括：提供第一控片，第一控片上形成有正性光阻层，采用喷淋显影设备在第一控片的正性光阻层上喷淋显影液进行显影；测定喷淋显影设备的两个喷嘴的不同角度组合下，第一控片的正性光阻层显影前后的膜厚损失的标准差...
    2026-04-10
  • 一种晶圆处理装置
    一种晶圆处理装置_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202411361564.8
    本发明提供了一种晶圆处理装置，包括承载机构、移动机构、喷涂机构和驱动机构；所述承载机构沿第一方向排布设置，所述承载机构用于承载晶圆，所述移动机构与所述承载机构相对设置。本发明中喷涂机构与承载机构相邻设置，喷涂机构移动至喷涂区域的行程相对传统...
    2026-04-10
  • 用于蓝宝石光学窗口的金属网栅曝光系统及方法
    用于蓝宝石光学窗口的金属网栅曝光系统及方法_青岛华芯晶电科技有限公司_202610258097.9
    本发明涉及光学窗口技术领域，尤其涉及用于蓝宝石光学窗口的金属网栅曝光系统及方法，该方法的步骤包括：获取蓝宝石光学窗口的基底特征数据、光刻胶特征数据、曝光光源特征数据以及金属网栅的图形结构特征数据；进行驻波效应预测，确定驻波效应影响下的曝光剂...
    2026-04-10
  • 线路板图像精准定位曝光设备
    线路板图像精准定位曝光设备_江西世邦电路有限公司_202610251442.6
    本发明涉及线路板生产装置领域，公开了线路板图像精准定位曝光设备，包括封闭箱，封闭箱的中间固定连接有基座板，基座板上连接有运输和定位线路板的移动机构，且封闭箱上连接有移位组件，移位组件的移动端固定连接有曝光组件，且移动机构的底部设置有位于封闭...
    2026-04-10
  • 一种采用并行数字微镜阵列的扫描式曝光方法及系统
    一种采用并行数字微镜阵列的扫描式曝光方法及系统_东莞市和川机械设备科技有限公司_202610245740.4
    本发明公开了一种采用并行数字微镜阵列的扫描式曝光方法及系统，涉及光刻曝光与掩模无掩模直写技术领域，包括通过基准靶标曝光的检测配准方法建立并行数字微镜初始映射；根据并行数字微镜初始映射生成分块畸变场参数表，基于分块畸变场参数表确定微标记插入位...
    2026-04-10
  • 通过调控光刻掺杂窗口以改善功率器件击穿一致性的方法
    通过调控光刻掺杂窗口以改善功率器件击穿一致性的方法_上海鼎泰匠芯科技有限公司_202610222819.5
    本发明提供一种通过调控光刻掺杂窗口以改善功率器件击穿一致性的方法，包括获取光刻曝光参数与掺杂区图形开口尺寸的对应关系；提供一半导体衬底；提供一掩膜版，掩膜版上定义有在终端区形成掺杂区的目标图形；基于对应关系，设定目标光刻曝光参数；利用掩膜版...
    2026-04-10
  • 原位检测与照明系统及微纳加工方法
    原位检测与照明系统及微纳加工方法_中国科学院光电技术研究所_202610190217.6
    本公开提供了一种原位检测与照明系统及微纳加工方法，可应用于曝光照明技术领域。该系统包括物镜、紫外照明组件、可见光照明组件、成像观测组件和原位检测组件，通过第一分光镜、第二分光镜和第三分光镜将多路光耦合至同一物镜。紫外照明组件用于曝光，可见光...
    2026-04-10
  • 曝光装置及曝光方法
    曝光装置及曝光方法_上海芯上微装科技股份有限公司_202610140843.4
    本发明提供一种曝光装置及曝光方法，所述曝光装置包括沿光路依次设置的照明模块、掩模台和物镜模块，还包括遮光机构；所述遮光机构沿光路设置于所述掩模台与所述照明模块之间，或设置在所述掩模台与所述物镜模块之间；所述遮光机构具有开口，所述开口的尺寸可...
    2026-04-10
  • 一种改善PCB油墨色差的多次曝光偏移方法及介质
    一种改善PCB油墨色差的多次曝光偏移方法及介质_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202610107704.1
    本发明公开了一种改善PCB油墨色差的多次曝光偏移方法及介质，包括准备涂覆有油墨的PCB基板；确定激光直接成像设备中多个激光器的功率配比；建立对应于多次曝光模式的曝光参数集，其中，所述曝光参数集至少包含曝光剂量参数与曝光起始点偏移量参数，且所...
    2026-04-10
  • 直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元
    直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202610093213.6
    本发明公开了一种直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元，其中，直写式光刻机曝光同步诊断方法包括：在曝光过程中，获取每次运动平台移动位移达到理论触发间距时的第一位置同步信号，以及，获取运动平台的物理位置；根据第一位置同步信号计算运...
    2026-04-10
  • 光学装置、曝光装置及器件制造方法
    光学装置、曝光装置及器件制造方法_株式会社尼康_202512039153.8
    本发明提供一种光学装置、曝光装置、平板显示器的制造方法及器件制造方法，所述光学装置包括：多个激光光源(20)；具有光调变器的输出模块(30)；以及配置于所述多个激光光源与所述输出模块之间，在时间上分割自所述多个激光光源射出的激光的时间分割器...
    2026-04-10
  • 面向多视点自动化测量的曝光序列自适应优化方法
    面向多视点自动化测量的曝光序列自适应优化方法_武汉惟景三维科技有限公司_202512004422.7
    本申请涉及一种面向多视点自动化测量的曝光序列自适应优化方法、装置、计算机设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品。方法包括：获取多个视点的原始曝光时间序列；原始曝光时间序列中包括多个曝光片段，每个曝光片段对应于一个视点；计算各曝光片段之间的...
    2026-04-10
  • 一种掩膜板图形蚀刻设备
    一种掩膜板图形蚀刻设备_南通卓力达金属科技有限公司_202511998195.8
    本发明涉及半导体及微电子制造设备技术领域，更具体的说，它涉及一种掩膜板图形蚀刻设备，包括设备外壳，所述设备外壳上设有盖板，所述设备外壳的内部设有腔室，所述腔室中设有上下料结构和掩膜板支撑结构，所述上下料结构包括齿轮一、两组螺纹杆和两组齿轮二...
    2026-04-10
  • 一种用于电子束曝光机的快速通断束闸装置
    一种用于电子束曝光机的快速通断束闸装置_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511968765.9
    本发明公开了一种用于电子束曝光机的快速通断束闸装置，包括由外至内依次设置的壳体组件、屏蔽组件、主体组件和偏转组件；所述壳体组件侧部设有泵接口和接线固定板，所述主体组件侧部设有真空电极和真空管道，所述真空管道嵌套在泵接口内侧，并连接至外部抽真...
    2026-04-10
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