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  • 本申请提供加工设备冷却系统、加工设备冷却控制方法,其中,所述加工设备冷却系统包括:喷嘴,用于向所述加工设备喷射冷却液;与所述喷嘴连接的随动机构,包括:第一电机、第一丝杠、第二电机以及第二丝杠;所述第一电机与所述第一丝杠连接,且所述第一丝杠沿...
  • 本申请涉及机器人电机外壳抛光技术领域,具体涉及一种机器人电机外壳打磨控制方法及系统,具体包括:通过打磨过程中接触力极值点波动趋势变化,以及各时刻接触力与期望值的差异,构建各采集时间段的接触力振荡度;通过接触力极值点对应的采样时刻构建极值位序...
  • 本申请涉及玻璃打磨加工技术领域,提供一种高精度力控ZR轴模组,包括Z轴电机、R轴电机、中空滚珠花键轴、治具、弹簧和压力传感组件;Z轴电机的输出端设有支撑架,支撑架包括相对分布的第一底板和顶板,R轴电机设于第一底板上且位于第一底板与顶板之间;...
  • 本发明提供了一种适用于多种类回转体工件缺陷检测的打磨机,其包括:缺陷检测总成和打磨总成,缺陷检测总成由第一输送机、第一翻转组件、第二输送机、第一旋转组件和第三输送机组成,打磨总成由防护组件、输送组件、第二旋转组件和第二翻转组件组成。本申请可...
  • 本发明涉及石墨车床刀具磨损预警技术领域,公开了一种立式石墨车床刀具磨损预警系统,本发明中包括数据采集模块‌、‌信号处理模块‌、‌评估模块‌、‌预警模块‌和‌人机交互模块,数据采集模块包括有加速度传感器、力传感器、信号调理电路和AD转换器,加...
  • 本发明涉及机床传动领域,具体是一种磨床进给用消隙传动装置,包括底座、工作台和传动丝杠,传动丝杠和工作台之间连接有消隙机构,消隙机构包括连接套座、固定安装在连接套座上的丝杠螺母和活动装设在连接套座上的消隙螺母,连接套座固定安装在工作台底部,丝...
  • 本发明属于夹具设计技术领域,具体公开一种自动偏心夹紧装置及其设计方法、存储介质。所述装置的外壳上设有阶梯孔,顶尖的顶锥一端伸入外壳,支撑内芯套设在顶尖上;滚动轴承套设在支撑内芯上且外圆面与阶梯孔配合;三个转销均布在外壳一端,前压盖固定在阶梯...
  • 本发明涉及工装夹具技术领域,公开了一种薄型法兰磨削工装,包括:工装底座,工装底座具有用于承托工件的定位基准面,工件放置于定位基准面上;工件具有中心轴孔和至少两个销孔;本方案通过在工装底座上设置可伸入中心轴孔的多个夹爪,并由定位部件驱动夹爪同...
  • 本发明公开了一种霸王刀磨削夹具,其安装于机床底座之上,包括治具部分、刀片辅助定位部分和测头部分;治具部分活动安装在机床底座上,刀片辅助定位部分和测头部分设置在治具部分运动路径的一侧边,测头部分竖向安装在机床底座上,刀片辅助定位部分与测头部分...
  • 本发明公开了一种法兰打磨加工用快速夹紧装置,涉及打磨加工技术领域,一种法兰打磨加工用快速夹紧装置,包括工作台,所述工作台的顶部固定连接有立柱,所述立柱的后表面固定连接有升降座,所述升降座的顶部固定安装有液压杆,所述升降座的内壁后表面滑动连接...
  • 一种滚抛机机外供料装置,属于抛光设备技术领域。该滚抛机机外供料装置包括:储料仓,用于放置待抛光物料,设有第一出料口;同步带输送机构,一端与储料仓的第一出料口对接;振动分离机构,同时对接同步带输送机构的另一端以及滚抛机出料口设置,设有第二出料...
  • 本发明提供一种研磨布,该研磨布具备无纺布和浸渍该无纺布的树脂作为形成材料,从厚度方向中央部到一个表面的上述形成材料的存在比例为30~60%,并且,上述厚度方向的上述存在比例的最大值与最小值之差为10%以下。
  • 本申请公开一种用于晶片抛光的抛光垫,涉及半导体制备技术领域。抛光垫包括复合衬底层和抛光层,抛光层位于复合衬底层的顶面,抛光层包括平层和部分嵌于平层内的金刚石微粉,其中,复合衬底层中刚性材料、柔性材料和碳纤维的质量比为(4‑6):(2‑4):...
  • 本发明公开了一种不锈钢板表面处理用油磨装置,涉及不锈钢板加工技术领域,包括工作台,还包括上料机构,设置在工作台的一侧,用于输送不锈钢板;防护罩,固定安装在工作台的顶面;至少一个扫描仪,安装在工作台的上方,用于扫描识别不锈钢板表面的凹陷区域;...
  • 本发明提供一种玻璃基板多轴协同研磨装备,包括:机台,所述机台的顶部装配有多轴驱动单元一,多轴驱动单元一的正面装配有用于研磨的研磨单元,机台的顶部固定安装有放置组件,且放置组件与研磨单元相互对应配合,机台的前侧安置有多轴驱动单元二,多轴驱动单...
  • 本发明公开了用于大尺寸平面的压力自适应研磨装置及方法,包括工作台组件、供液组件,工作台组件上设置下研磨盘,工作台组件通过Z轴转动组件连接刚柔耦合并联机构,并驱动刚柔耦合并联机构相对下研磨盘保持反向旋转。刚柔耦合并联机构底部连接上研磨盘,刚柔...
  • 本公开提供了一种外延片边缘形貌补偿型晶圆双面抛光装置及方法,属于半导体晶圆超精密加工技术领域。该装置包括:抛光主机,含相对设置的上、下定盘及驱动晶圆的机构;压力加载系统,向定盘施加可调压力;抛光液供给系统,向加工界面输送可调流量抛光液;中央...
  • 本发明提供了一种可穿戴液晶显示器用玻璃基板的抛光方法,包括以下步骤:S10、确定承载盘、喷淋管相对工作台的位置:使承载盘及喷淋管呈左右对称方式布置;S20、将玻璃基板通过承载盘所设置负压结构吸附固定于承载盘的底面;S30、通过承载盘带动玻璃...
  • 本发明涉及晶圆抛光方法及设备、数据处理设备、程序、存储介质。所述抛光方法包括:装载待抛光的晶圆;读入第一抛光配方,依照其对晶圆进行初级抛光;检测晶圆的全部分区的晶圆参数,判断晶圆的全部分区的晶圆参数是否都达标,都达标则卸载晶圆、未都达标则通...
  • 本发明涉及航空零部件加工技术领域,具体的说是一种航空零部件毛刺自动研磨设备,包括底架,底架顶端安装有研磨箱,研磨箱外端安装有出料结构,出料结构包括过滤箱,研磨箱外端安装有过滤箱,研磨箱内滑动连接有升降板,升降板底端固定连接有斜板,研磨箱顶端...
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