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最新专利技术
  • 一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法
    一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法_衢州学院_202511162917.6
    本发明涉及钢材料表面耐腐蚀膜制备技术领域，具体涉及一种耐腐蚀锆硅复合膜制备方法。(1)硅烷水解液制备：按一定比例配置乙醇水溶液，取一定体积硅烷成膜剂缓慢加入乙醇水溶液中，缓慢搅拌并加入有机弱酸调节pH值，待完全水解即得硅烷水解液；(2)钢材...
    2026-03-07
  • 一种镁合金表面复合膜的制备方法
    一种镁合金表面复合膜的制备方法_广东健齿生物科技有限公司_202511215308.2
    本发明公开了一种镁合金表面复合膜的制备方法，属于镁合金表面处理技术领域；本发明通过对预处理后的镁合金依次进行激光表面处理、形成表面碱性液膜后进行等离子体处理、液相生长反应的过程，能够在镁合金表面形成致密化的LDHs复合膜结构，从而能够有效的...
    2026-03-07
  • 一种金属锰无铬钝化剂及其制备方法与应用
    一种金属锰无铬钝化剂及其制备方法与应用_中南大学_202410747177.1
    本发明属于金属锰钝化领域，具体提供了一种金属锰无铬钝化剂，为溶解有水溶性铝盐、稳定剂、碱性物质的碱性溶液；所述的稳定剂包含式1化合物其中，所述M包括氢离子、碱金属离子、铵根离子或锌离子，且所述的n为所述的M的化合价；所述的碱性溶液的pH≥1...
    2026-03-07
  • 一种超纯不锈钢钝化处理方法及其管道加工工艺、超纯不锈钢管道
    一种超纯不锈钢钝化处理方法及其管道加工工艺、超纯不锈钢管道_浙江久立特材科技股份有限公司_202511256126.X
    本发明涉及金属材料表面处理技术领域，具体公开了一种超纯不锈钢钝化处理方法及其管道加工工艺、超纯不锈钢管道。在钝化处理方法中，包含有以下步骤：S1.将不锈钢材料浸泡于硝酸溶液中，以初步促成氧化膜生成；S2.将不锈钢材料转移至柠檬酸溶液中测量开...
    2026-03-07
  • 一种低介损化学镀银液及其制备方法
    一种低介损化学镀银液及其制备方法_深圳市天熙科技开发有限公司_202511311780.6
    本发明公开了一种低介损化学镀银液及其制备方法，所述化学镀银液每升包括以下的组分，0.2~10g可溶性银盐、15~35g络合剂、0.1~2g可溶性镍盐、5~25g还原剂、0.5~3g稳定剂、0.5~3g光亮剂，余量为水和pH调节剂；所述络合剂...
    2026-03-07
  • 一种导电埃洛石纳米管的制备方法及其应用
    一种导电埃洛石纳米管的制备方法及其应用_盐城工学院_202511294313.7
    本发明公开了一种导电埃洛石纳米管的制备方法，属于电磁波吸收屏蔽技术领域。制备方法为：将埃洛石纳米管加入到氢氧化钠溶液中，搅拌均匀后过滤，洗涤，干燥，得到粗化后的埃洛石纳米管，然后将其加入到SnCl2的盐酸溶液中，搅拌均匀后过滤，洗涤，干燥，...
    2026-03-07
  • 用于化学沉厚铜工艺的化学沉铜液及其制备方法和应用
    用于化学沉厚铜工艺的化学沉铜液及其制备方法和应用_深圳化讯微电子材料有限公司_202511126519.9
    一种用于化学沉厚铜工艺的化学沉铜液及其制备方法和应用，化学沉铜液包括如下质量浓度的各组分：络合剂28‑35g/L；添加剂0.2‑5g/L；铜离子3‑3.5g/L；还原剂6‑10g/L；去离子水以1L计；其中，添加剂包括1, 10邻菲罗啉、苯...
    2026-03-07
  • 一种具有选择性沉铜功能的化学沉铜液及其制备方法和应用
    一种具有选择性沉铜功能的化学沉铜液及其制备方法和应用_深圳化讯微电子材料有限公司_202511126478.3
    本发明涉及一种具有选择性沉铜功能的化学沉铜液及其制备方法和应用，化学沉铜液包括如下浓度的各组分：化学铜M剂：70‑110ml/L，铜离子：2.2‑2.8g/L，氢氧化钠：8‑10g/L，还原剂：4‑10g/L，所述化学铜M剂包括：酒石酸钾钠...
    2026-03-07
  • 一种化学镀镍溶液及镀镍方法
    一种化学镀镍溶液及镀镍方法_江门市优彼思半导体材料有限公司_202511289013.X
    本发明属于电镀液技术领域，具体涉及一种化学镀镍溶液及镀镍方法。一种化学镀镍溶液，每1L化学镀镍溶液中含有的组分包括硫酸镍200‑300g、氯化镍50‑100g、硼酸40‑50g、主光剂0.3‑0.6g、柔软剂10‑15g、润湿剂1‑3g和p...
    2026-03-07
  • 一种复合热界面材料及其制备方法
    一种复合热界面材料及其制备方法_四川超冷新材料科技有限公司_202511321163.4
    本发明属于材料领域，具体涉及一种复合热界面材料及其制备方法。本发明通过在金刚石微粉表面镀覆非反应性金属、非反应性金属碳化物或非反应性陶瓷，再结合机械力场诱导镀层表面晶格缺陷与局部界面合金化，脱泡后得到所述复合热界面材料。本发明复合热界面材料...
    2026-03-07
  • 化学沉厚铜工艺及其应用
    化学沉厚铜工艺及其应用_深圳化讯微电子材料有限公司_202511126500.4
    本发明涉及一种化学沉厚铜工艺及其应用，化学沉铜处理方法包括如下步骤：提供无铜基板；粗化处理；预浸处理；活化处理；加速处理；化学沉铜处理；其中，所述粗化处理为采用粗化液对基板表面进行粗化处理，所述粗化液包括如下浓度的各组分：铬酸酐：50‑40...
    2026-03-07
  • 一种可控厚度沉积方法及应用
    一种可控厚度沉积方法及应用_中国航空制造技术研究院_202511650500.4
    本发明属于复合材料成型技术领域，涉及一种可控厚度沉积方法，首先获取陶瓷基复合材料构件标定后的实际形貌数据，标定后的实际形貌数据至少包括变形量、轮廓度和厚度均匀度；根据标定后的实际形貌数据确定涂层厚度偏差量，基于涂层厚度偏差量进行沉积流场迭代...
    2026-03-07
  • 基底、沉积材料成形体及沉积材料成形体的制备方法
    基底、沉积材料成形体及沉积材料成形体的制备方法_重庆欣晖材料技术有限公司_202511287279.0
    本公开涉及基底、沉积材料成形体及沉积材料成形体的制备方法。在一方面中，提供了一种基底，用于沉积材料成形体的制备，该基底包括：基体部分；以及应力吸收层，应力吸收层设置在基体部分上，以在应力吸收层的外表面上生长用来形成沉积材料成形体的沉积材料，...
    2026-03-07
  • 晶硅片镀膜设备
    晶硅片镀膜设备_隆基绿能科技股份有限公司_202511119908.9
    本申请属于镀膜设备领域，尤其是涉及晶硅片镀膜设备。该晶硅片镀膜设备包括石墨舟；石墨舟包括至少一个石墨舟页串组，石墨舟页串组包括多个石墨舟页、多个导电块与多个绝缘块。多个石墨舟页在第一方向间隔布置；多个导电块设置在相邻石墨舟页在第二方向两端之...
    2026-03-07
  • 一种OLED金属掩膜板的制作方法及掩膜板
    一种OLED金属掩膜板的制作方法及掩膜板_东莞市宏诚光学制品有限公司_202511260185.4
    本发明涉及半导体发光二极管技术领域，公开了一种OLED金属掩膜板的制作方法及掩膜板，所述制作方法包括基板预处理与图形化、蚀刻与后处理、应力监测与退火、防护层沉积、ALD监测与调整等步骤。本发明通过“MBIL混合曝光+FEA仿生结构+ALD防...
    2026-03-07
  • 含金属材料的选择性沉积
    含金属材料的选择性沉积_ASMIP私人控股有限公司_202510750459.1
    本公开涉及用于相对于衬底的第二表面在衬底的导电表面上沉积含金属材料的选择性沉积方法。该方法包括提供包括导电表面和第二表面的衬底，使衬底与包含硅的抑制剂反应物接触以使第二表面钝化，并且使衬底与包含硅原子和羟基的活化剂反应物接触以活化导电表面。...
    2026-03-07
  • 具有氧化镓层的基板及其制造方法
    具有氧化镓层的基板及其制造方法_株式会社奈瑟斯比_202510222018.4
    本发明涉及一种包括氧化镓层的基板制造方法。根据本发明的实施例的基板制造方法，在包括利用包含气体供应组件及液体供应组件中的至少一个的沉积装置的氧化镓层的基板制造方法中，其特征在于，包括：基板准备步骤，将源基板布置在腔室单元的内部；缓冲层生成步...
    2026-03-07
  • 高效稳定加热式固态前驱体源瓶
    高效稳定加热式固态前驱体源瓶_浙江陶特容器科技股份有限公司_202511634550.3
    本发明公开了高效稳定加热式固态前驱体源瓶，涉及半导体制造技术领域，包括腔体模块，腔体模块由左腔体和右腔体构成，且腔体模块内部配备排气模块，该排气模块可使输入的载气以覆盖式流动，从而均匀地与左腔体内部的固态前驱体接触，左腔体专门用于固态前驱体...
    2026-03-07
  • 一种炉门控制结构及镀膜设备
    一种炉门控制结构及镀膜设备_深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司_202511490355.8
    本发明公开了一种炉门控制结构及镀膜设备，包括控制炉门相对炉口移动的炉门开合组件，从而使得炉口被打开或关闭；所述炉门开合组件与炉门通过炉门的多个微调组件连接，所述微调组件包括与炉门连接的转动件及与所述炉门开合组件连接的定位件，所述定位件与所述...
    2026-03-07
  • 一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法
    一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法_上海晶丰同创半导体技术有限公司_202511291084.3
    本发明涉及一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法，具体涉及气相沉积技术领域，包括：穹顶本体，设置于所述穹顶本体上的至少3个加强筋；所述加强筋的分布方式包括：放射分布、同心圆分布或网状分布中的一种或至少两种的组合；所述加强筋的高度与宽度的比例...
    2026-03-07
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