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  • 本公开提供了一种显示面板和显示装置,该显示面板包括基板以及位于基板上的隔离结构、显示功能层、第一封装层和至少一个光学功能层。隔离结构位于基板上且具有第一端部和第二端部,第二端部位于第一端部的远离基板的一侧,隔离结构限定出多个第一开口。显示功...
  • 一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括依次设置于基底(101)一侧的驱动电路层(102)、第二电极转接层(13)、像素定义层(PDL)、发光结构层(40)和第二电极层(42);第二电极转接层(13)包括多个第二电极转接电结构(13...
  • 提供具备光学传感器、能够抑制对该光学传感器的噪声、并且能够高分辨率化的有机EL显示装置及其制造方法。一种有机EL显示装置,在基板上依次具有近红外线光接收部、下部电极、发光层、透明电极、以及彩色滤光片,所述彩色滤光片具有图案状的着色层和设置在...
  • 本发明涉及一种半结晶聚合物材料,优选用于热电器件,该材料包含第一共轭聚合物、与第一共轭聚合物混合的第二共轭聚合物以及掺杂剂,其中第二共轭聚合物的数均分子量比第一共轭聚合物高25%或以上。本发明还描述了半结晶聚合物材料的制备方法、该材料的应用...
  • 根据本发明的一个实施例的电容器包括:基底,包括从第一表面贯穿到与第一表面相反的第二表面的通孔;第一电极层,设置在第一表面、第二表面和基底的通孔的内壁表面上;第一介电层,设置在基底的第一表面、第二表面和通孔的内壁表面上的第一电极层上;以及第二...
  • 本发明实现:载流子浓度低且霍尔迁移率高的氧化物半导体薄膜、将其作为活性层的薄膜半导体器件即使在高温下阈值电压也不会负移的氧化物半导体薄膜及其使用其的半导体器件、能够形成这种氧化物半导体薄膜的溅射靶材及其制造方法。所述氧化物半导体薄膜由以按下...
  • 在半导体制造工序中,以通过制造工序不会发生制造上的不良情况的方式维持基板的外周部的状态。一种在基板的包含斜面部的外周部形成保护膜的成膜方法,包含:在所述基板的表面和背面中的至少一面中遍及所述外周部的整周实施修边加工的工序;及在所述外周部形成...
  • 本发明的等离子体处理装置包含:处理容器,其在内部具有生成等离子体的等离子体处理空间;基片支承部,其在所述处理容器的内部支承基片。所述处理容器和/或所述基片支承部通过将多个构件组装而构成,从而具有将所述多个构件彼此连结的多个边界。所述多个边界...
  • 公开的上部组件包括顶板、基座部件以及至少一个致动器。顶板配置在基板处理装置的腔室内的处理空间上。基座部件配置在顶板上。至少一个致动器构成为,将顶板吊起,将该顶板相对于基座部件施力。
  • 一种基板处理方法,用于对基板进行处理,所述基板处理方法包括:基于对基板的第一表面和第二表面进行蚀刻之前的基板的第一厚度,使用最优化方法以使蚀刻后的所述第一表面的表面形状成为目标形状的方式来决定第一最优蚀刻条件,并且使用最优化方法以使蚀刻后的...
  • 本发明的一个方式所涉及的流体供给系统是向处理形成有液膜的基板的处理容器内供给处理流体的流体供给系统,其具有:循环流路,与流体供给源连接,使所述处理流体进行循环;供给流路,将所述循环流路与所述处理容器相连接,从所述循环流路向所述处理容器内供给...
  • 本发明的一实施例提供基板清洗装置及利用其的基板清洗方法,所述基板清洗装置包括:基板旋转模块,对用于进行清洗的基板进行支撑固定,并以虚拟的中心轴线为准使所述基板旋转;药液供给模块,具有用于向所述基板的上部面供给药液的上部药液供给部及用于向所述...
  • 本文提供的本公开内容的实施例包括用于整合原位反射测量的外延腔室中改善的信噪比校正的系统和方法。该系统包括处理腔室和被配置为使基板旋转的基座组件。原位反射测量(ISR)系统耦接至处理腔室并且被配置为接收指示基座组件上的基板性质的ISR信号。控...
  • 当前的衬底(例如,半导体晶片)耦合(例如,键合)工艺控制方法使用经测量的衬底平整度和形状来控制耦合工艺。由于当前的耦合工艺高度依赖于衬底材料性质,因此当前的设备配置和耦合工艺引入了高度的衬底(例如,半导体晶片边缘)形变和显著的衬底至衬底形变...
  • 提供一种用于将冲洗气体的流供应或分配到衬底容器中的方法及冲洗气体组合件。所述冲洗气体组合件包含:气体分配器,其包括至少一个出口;及冲洗模块,其包括用于接收冲洗气体的流的入口、止回阀及出口。所述气体分配器及冲洗模块的组合形成腔室。所述腔室经配...
  • 一种用于处理基板的方法和装置。一种处理系统,包括:具有间断式气浮基板支撑件的暂存区;耦合至所述暂存区的处理区,所述处理区具有气浮基板支撑件;用于在所述暂存区和所述处理区之间移送基板的移送部件;以及,用于在基板于所述暂存区和所述处理区之间移动...
  • 本发明的基片处理装置包括:承载器区块;处理区块,其相对于上述承载器区块设置于左右的一侧,包括彼此层叠的多个处理模块、和由上述多个处理模块共用的输送基片的第一输送机构;涂敷膜形成模块,其构成上述多个处理模块中的一个处理模块;等离子体处理区块,...
  • 本发明的基片处理系统包括基片处理装置、维护装置和控制装置,上述基片处理装置包括基片处理模块和真空输送模块,上述真空输送模块包括:具有第一开口部和第二开口部的真空输送腔室,上述真空输送腔室能够经由上述第一开口部与上述基片处理模块连接;和第一平...
  • 一种电子元件的转移设备,包括:基台(100)、第一载台(300)和第二载台(400),在更换新的第二载台(400)后,电子元件的转移设备可以通过安装在第一载台(300)上的第一检测模块(900)获取第二载台(400)的第二承载面(P2)相对...
  • 半导体制造胶带用基材膜(1)具有功能层(2)和设置在功能层(2)的至少一侧上的表面层(3),功能层(2)含有1‑丁烯的均聚物、戊烯的共聚物以及烯烃类弹性体,烯烃类弹性体相对于功能层(2)整体的含量为10质量%以上且40质量%以下,功能层(2...
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