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  • 本申请涉及晶圆平坦化技术领域,提供一种晶圆平坦化方法及晶圆平坦化系统。晶圆平坦化方法包括:在晶圆的平坦化研磨过程中,实时同步进行以下步骤:采用SLD光源,使用低相干干涉技术照射研磨中的晶圆,接收晶圆的上表面的反射光和下表面的反射光,获得干涉...
  • 本申请提供一种抛光装置,抛光装置包括:固定安装座、支撑件、抛光件、转动轴承以及电机组件,固定安装座为环形件,沿竖直方向,固定安装座包括上表面和下表面,上表面上开设有环形安装槽;沿竖直方向,支撑件可转动地设置于固定安装座的上表面上方;抛光件设...
  • 本发明涉及半导体材料加工技术领域,特别是涉及一种减少抛光片浅坑的方法,所述方法包括如下步骤:1)将硅片进行清洗;2)随后,对清洗后的硅片进行刷洗和干燥处理;3)将刷洗后的硅片贴付至抛光承载器上;4)将贴付有硅片的抛光承载器安装于抛光机上,使...
  • 本发明的基于重力补偿的平面自适应无级加压研磨装置包括机架、上研磨组件、下研磨组件、无级加压模块和恒力磁弹簧;无级加压模块包括与上研磨组件相连接的浮动法兰板和液体容器,液体容器通过水管和计量泵与水箱相连接,在抛光时可以通过向液体容器内加液体来...
  • 本发明涉及一种研磨装置及研磨装置的控制方法,控制研磨装置以在适当的时机实施修整。研磨装置的控制器基于由测定装置测定出的研磨垫的研磨面的状态,决定预测为研磨垫的研磨能力低于阈值水平的时机,从动作计划中的多个空闲时间段中确定预测时机来临前的空闲...
  • 本发明公开了一种带有碎屑清理功能的CMP研磨机,涉及CMP研磨机技术领域,包括研磨机壳、研磨盘、喷液头、研磨装置和清理装置,研磨装置能够对研磨过程中产生的碎屑进行限制,使碎屑无法随研磨液自由扩散,绝大部分碎屑在生成后立即被限制在预设区域内,...
  • 一种化学机械研磨垫包含垫体。垫体具有研磨面以及多个内表面,内表面分别连接研磨面并彼此分隔,内表面分别围绕以定义柱状孔,研磨面配置以研磨工件,柱状孔配置以容置研磨液。化学机械研磨垫能改善容置研磨液的能力,从而能改善研磨工件的表现。
  • 本发明提出一种面向光电化学机械抛光的导电凝胶垫及制备使用方法,所述抛光垫的制备原料包括基体、磨料、造孔剂及导电试剂。该抛光垫应用于半导体材料的PECMP加工时,通过内部固结的磨料实现免添加抛光液磨粒的效果:一方面大幅提升抛光液透光性,促进工...
  • 本发明提供一种内外圈呈现密度梯度的无纺布抛光垫及其制备方法,无纺布基布包括半径为R的圆形;涂布聚氨酯树脂溶液以浸渍时,无纺布基布固定于旋转平台上呈水平原位旋转状态,通过一设于旋转平台上方的放料管于两个位置进行自上而下放料,随着旋转平台的转动...
  • 本发明公开了一种化学机械抛光硅通孔异质结构的在线原位表征方法,属于芯片制造技术领域。本发明通过利用TSV异质结构样品基体、绝缘层、阻挡层、传输层不同组分在折射率、功函数、导电性能之间的显著差异,以PiFM为核心,将KPFM及CAFM联用,在...
  • 一种支撑装置,包括:支撑部,被配置为支撑用于抛光基板的抛光部;紧固部,被配置为紧固抛光部和支撑部;和倾斜调节部,被配置为调节抛光部的倾斜,紧固部包括:紧固主体,该紧固主体附接到抛光部的侧表面;突起,该突起从紧固主体向外突出,并且该突起在其中...
  • 本发明提供一种晶圆研磨设备的主轴倾角调整结构,包括:主轴座;主轴单元,具有法兰连接于本体的外环周面;及多个倾角调整组,各倾角调整组具有多个结合组件及微调器,该多个结合组件结合该法兰与该主轴座,该微调器具有座体、调整件及连动件,该座体具有贯穿...
  • 本发明提供了一种多角度旋转夹持装置,用于夹持旋转产品便于打磨设备打磨加工,所述多角度旋转夹持装置包括:伸缩驱动装置、第一夹持端、第二夹持端,其中,所述伸缩驱动装置与驱动装置的驱动端连接,所述第一夹持端转动连接于所述伸缩驱动装置的驱动端,所述...
  • 本发明提供一种凸轮轴精磨加工定位装置,包括夹持模组、旋转定位模组以及驱动模组,夹持模组上形成有用于搭接凸轮轴的定位区域,其中,凸轮轴的端部具有定位孔,旋转定位模组包括旋转传动单元和弹性定位件,弹性定位件用于弹性抵靠在凸轮轴的端部,旋转传动单...
  • 本发明公开了一种短程往复运动机构,属于磨削加工的技术领域,其包括模座,还包括往复运动组件,所述模座包括底部座体和顶部座体,所述底部座体设置有安装斜面,所述顶部座体滑移配合于底部座体的安装斜面,所述安装斜面设置有对顶部座体滑移进行导向的导向件...
  • 本发明提供了一种双立柱直角磨床的控制系统,所述双立柱直角磨床包括机架、物料台、第一驱动机机构、加工机台、第二驱动机构、机头、第三驱动机构;各驱动机构均包括丝杠、驱动电机、移动螺套;所述控制系统包括控制器、光栅尺、温度传感器,所述控制器被配置...
  • 本发明为一种基于磁弹协同驱动的恒力浮动打磨装置及其控制方法,包括:刚性连接组件;弹性导向单元,连接于上下连接组件之间,包含多组对称分布的复位弹簧及导向杆;电磁斥力结构,包括同轴对称设置的定子电磁铁和动子电磁铁,二者极性配置为相互排斥以产生可...
  • 本发明涉及石英砣精加工技术领域,尤其涉及一种石英砣精加工用数控磨床的自适应控制系统,包括:原料装夹模块,用以基于待加工石英砣的初始原料参数以及目标原料参数确定目标装夹参数,以对待加工石英砣进行装夹固定;预加工模块,用以基于初始预加工参数对待...
  • 本发明公开了五金抛光技术领域的一种自动抛光设备的铜粉清理工装,包括风刀,从外部对工件进行喷气吹扫,增加了定位座对工件安装,便于进行抛光和吹扫,吹扫托块对工件内部进行吹扫清理,本装置可以给工件增加一个额外独立的工序,并且也在抛光设备内部一起完...
  • 本发明公开了一种针对新能源汽车电池壳制造的打孔设备,包括工作台,工作台的底部固定连接有支架,射流组件外侧面固定连接有工业机械臂,工业机械臂远离射流组件的一侧固定连接在工作台顶部,锥形喷头固定连接在射流组件靠近工作台的一侧,环形喷头环绕设置在...
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