Document
拖动滑块完成拼图
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
  • 我要求购
  • 我要出售
官方微信客服

官方微信客服
官方微信客服

官方微信客服
最新专利技术
  • 色阻组合物、彩色滤光层及显示面板
    色阻组合物、彩色滤光层及显示面板_TCL华星光电技术有限公司_202511725776.4
    本申请涉及一种色阻组合物、彩色滤光层及显示面板；色阻组合物包括着色材料以及功能组分，着色材料包括第一色材，第一色材包括如式(1)所示结构的化合物：；其中，M选自金属离子；R11至R1616各自独立地选自氢原子、卤素原子、取代或未被取代的脂肪...
    2026-05-02
  • 一种含自交联树脂的电子束光刻胶组合物及其制备方法和应用
    一种含自交联树脂的电子束光刻胶组合物及其制备方法和应用_国科天骥(山东)新材料有限责任公司_202511754958.4
    本发明提供一种含交联树脂的电子束光刻胶组合物及其制备方法与应用。本发明的电子束光刻胶组合物包括两种不同体系树脂的共混物，其在电子束光刻胶基底树脂基础上掺杂了一种自交联树脂材料，在不影响后期电子束光刻基本工艺的条件下改善了线条易倒塌的问题。
    2026-05-02
  • 一种低阻抗黑色矩阵光刻胶纳米分散液及其制备方法
    一种低阻抗黑色矩阵光刻胶纳米分散液及其制备方法_光卓新材料(江苏)有限公司_202511896204.2
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体为一种低阻抗黑色矩阵光刻胶纳米分散液及其制备方法，其制备方法包括：S1.将丙二醇甲醚醋酸酯和分散剂混合，搅拌5‑8min得到分散溶剂；S2.向步骤S1得到的分散溶剂中缓慢加入改性炭黑颜料，搅拌得到初步浆料；S3...
    2026-05-02
  • 着色感光性组合物和彩色滤光片
    着色感光性组合物和彩色滤光片_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511941808.4
    本申请提供一种着色感光性组合物和彩色滤光片，着色感光性组合物包括56‑62重量份的颜料液、0.5‑1.8重量份的光聚合引发剂、1.5‑2.2重量份的光聚合单体、4‑5.8重量份的碱溶性树脂、30‑35重量份的溶剂；其中，所述颜料液包括第一颜...
    2026-05-02
  • 双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用
    双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用_大连理工大学_202610038655.0
    双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用，其属于光刻材料与半导体制造技术领域。组合物以环状六核锡氧簇为活性组分，兼容常用溶剂与涂胶工艺，具有优异的热稳定性(在260℃以上才出现显著质量损失)，可满足涂胶、预烘及曝光等工艺条...
    2026-05-02
  • 一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法
    一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法_宁波润华全芯微电子设备有限公司_202511884983.4
    本发明申请涉及一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法，属于半导体制造及微纳加工技术领域，在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法包括：a)将所述基板加热并维持在一预设工艺温度；b)向加热的所述基板上施加包含第一溶剂的第一光刻胶溶液；所述第...
    2026-05-02
  • 一种光刻胶同步烘烤干燥装置系统与方法
    一种光刻胶同步烘烤干燥装置系统与方法_佛山晶洲光电装备科技有限公司_202512032814.4
    本发明提供了一种光刻胶同步烘烤干燥装置系统与方法，所述的光刻胶同步烘烤干燥装置系统包括处理腔室、溶剂收集模块、真空模块与加热模块，所述处理腔室用于容纳涂胶基材，所述溶剂收集模块的一端通过冷凝管道连接所述处理腔室，另一端通过抽气管道连接所述真...
    2026-05-02
  • 一种极紫外光刻光源产生方法和装置
    一种极紫外光刻光源产生方法和装置_扬州光瞳精密光学有限公司_202511390678.X
    本发明公开的属于极紫外光刻技术领域，具体为一种极紫外光刻光源产生方法和装置，通过采用光阴极微波电子枪与超导直线加速器相结合，能够产生电荷量大、重复频率高、能量高且能散极低的高品质电子束，经两级调制与压缩后，电子束实现完全群聚，最终在放大器波...
    2026-05-02
  • 基于RCWA改进算法的半导体光刻装置和光刻仿真优化方法
    基于RCWA改进算法的半导体光刻装置和光刻仿真优化方法_苏州矽行半导体技术有限公司_202511589798.2
    本发明提供了一种基于RCWA改进算法的半导体光刻装置和光刻仿真优化方法，属于半导体光刻领域，半导体光刻装置包括光刻光学系统、晶圆运动台、掩膜版机构、远场成像仿真系统和控制器；光刻仿真优化方法包括系统建模、RCWA计算获取近场电场分布、远场成...
    2026-05-02
  • 一种用于套刻误差测量的照明光路
    一种用于套刻误差测量的照明光路_魅杰半导体设备(无锡)有限公司_202511624929.6
    本发明公开了一种用于套刻误差测量的照明光路，包括沿光路依次分布的匀光棒、准直镜、孔径光阑、聚光镜、视场光阑、中继准直镜以及物镜，准直镜和聚光镜、中继准直镜和物镜分别形成4f系统；匀光棒用于收集和匀化光源光；准直镜用于将匀光棒输出端的发散光束...
    2026-05-02
  • 键合套刻偏移的检测方法、晶圆键合方法及键合设备
    键合套刻偏移的检测方法、晶圆键合方法及键合设备_芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司_202511683263.1
    本申请提供一种键合套刻偏移的检测方法、晶圆键合方法及键合设备，检测方法包括：提供第一晶圆和第二晶圆，第一晶圆和第二晶圆均设置有在正面的第一套刻标记和在背面的第二套刻标记；将第二晶圆放置第一键合载盘上，将第一晶圆放置在第二键合载盘上，通过键合...
    2026-05-02
  • 一种光学临近效应修正方法
    一种光学临近效应修正方法_杭州富芯半导体有限公司_202511686076.9
    本发明提供一种光学临近效应修正方法，包括：选择包含目标图形层与孔层的原始版图层，根据所述目标图形层与所述孔层的位置关系寻找所述目标图形层中的异常边；将所述异常边沿垂直于所述异常边且远离所述目标图形层的方向移动第一设定距离；将所述目标图形层中...
    2026-05-02
  • 一种光刻胶与显影液保温装置
    一种光刻胶与显影液保温装置_三河建华高科有限责任公司_202511695685.0
    本发明公开了一种光刻胶与显影液保温装置，涉及半导体领域；该光刻胶与显影液保温装置，通过在双层套管组件内部设置第一内流道、第二内流道组成恒温水流道，用于向喷嘴传输光刻胶和显影液的输液管经由恒温水流道穿过，恒温水控制装置主动循环恒温水流道内部的...
    2026-05-02
  • 一种基于分段比例限力的六自由度柔顺对接控制方法及系统
    一种基于分段比例限力的六自由度柔顺对接控制方法及系统_上海滴水微光科技有限公司_202511741997.0
    本发明公开了一种基于分段比例限力的六自由度柔顺对接控制方法及系统，涉及六自由度并联机构技术领域。本发明通过高精度的坐标变换解算、误差模型的定量分析、参数辨识的迭代优化，并结合分段比例限力策略，实现了对制造和装配偏差的实时补偿，确保末端执行器...
    2026-05-02
  • 基于接近式光刻的图形缩小方法
    基于接近式光刻的图形缩小方法_中国科学院长春光学精密机械与物理研究所_202511773005.2
    本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种基于接近式光刻的图形缩小方法，包括：S1：在基底外延片上，生长一层硬掩膜层。S2：在硬掩膜层上旋涂光刻胶，采用接近式光刻技术，经曝光与显影，将掩模版上的图案以预设的缩小尺寸转移到光刻胶上。S3：采用干法...
    2026-05-02
  • 光刻摇摆曲线拟合方法、装置、计算机设备及存储介质
    光刻摇摆曲线拟合方法、装置、计算机设备及存储介质_浙江大学_202511775060.5
    本申请涉及一种光刻摇摆曲线拟合方法、装置、计算机设备及存储介质。该方法包括：构建光刻机系统的仿真模型；基于光刻机系统的仿真模型，生成初始反射率和对应的初始晶圆膜层数据；初始反射率基于目标光刻参数得到；根据初始反射率以及初始晶圆膜层数据，对初...
    2026-05-02
  • 光刻机的晶圆对准物镜和晶圆对准系统
    光刻机的晶圆对准物镜和晶圆对准系统_上海新毅东半导体科技有限公司_202511784288.0
    提供了一种光刻机的晶圆对准物镜和晶圆对准系统。该光刻机的晶圆对准物镜包括：从物面到像面依次排列的第一镜组和第二镜组，所述第一镜组为负透镜组，且所述第二镜组为正透镜组；以及，孔径光阑，位于所述第一镜组朝向物面的一侧。这样，通过镜组和孔径光阑的...
    2026-05-02
  • 一种曝光机
    一种曝光机_江苏晋誉达半导体股份有限公司_202511806043.3
    本发明公开了一种曝光机，包括有定位座的机架，定位座上抽拉有载台、及载台定位校平机构，载台上设有板体快速定位机构和平面校准机构；载台下方的机架上设有微调平台，微调平台上设有带有片体吸附顶升机构的载片弹性调节、固定装置；机架上还设有上、下料移送...
    2026-05-02
  • 激光光束特性实时监测系统
    激光光束特性实时监测系统_光科芯图(北京)科技有限公司_202511807620.0
    本发明提供一种激光光束特性实时监测系统，包括：激光光源、分束器一、照明系统和光源监测装置，分束器一将激光光源发出的激光光束分成两束，分别进入照明系统和光源监测装置；光源监测装置的分束器二接收分束器一的激光光束并将其分成两束，透射至功率计和反...
    2026-05-02
  • 一种掩模版传输尺寸调节系统及光刻设备
    一种掩模版传输尺寸调节系统及光刻设备_新毅东(北京)科技有限公司_202511809045.8
    本申请提供一种掩模版传输尺寸调节系统及光刻设备，涉及半导体技术领域。该掩模版传输尺寸调节系统包括：传输机架和设置在传输机架上的传输手臂，传输手臂包括调距机构和托举机构；调距机构包括：线性导轨、第一滑块和第二滑块，第一滑块和/或第二滑块设置在...
    2026-05-02
首页 上一页 9 下一页
技术分类

专利交易买卖与高校科技成果转化平台

主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务

Copyright ©龙图腾网 版权所有  营业执照  | 皖ICP备12007331号-2 lotut.com 皖公网安备 34010402703815号 中华人民共和国增值电信业务经营许可证