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在激光系统中运行模数转换器的方法、程序、装置及介质
本发明涉及一种用于在激光系统(1)中运行模数转换器(2)的方法(100),所述方法包括以下步骤:启动(101)所述激光系统(1)在脉冲式激光运行中的运行,其中,在所述脉冲式激光运行中,仅在定义的时间段内通过所述激光系统(1)发射光;在所述脉...
透镜驱动器电路及照相机模块、电子设备、音圈电机的控制方法
本发明在照相机模块的停止状态下,抑制可动部向机械端的碰撞。振动检测部(240)在第2模式下,将音圈电机(106)的线圈的两端电连接,并基于流过该线圈的电流来检测有无照相机模块(100)的振动。控制部(210)在第2模式下,将驱动部(220)...
一种动态稳定成像系统及用于执行动态稳定成像的方法
本发明公开了一种动态稳定成像系统,其特征在于,由外壳框架及框架内的折转光路模块、光电成像探测模块、控制单元组成,所述外壳框架运动过程中,所述控制单元用于驱动折转光路模块在框架内调整可见光采集光路,使可见光沿光路被光电成像探测模块采集;所述光...
叶片驱动装置
提供叶片驱动装置。叶片驱动装置具有基座板,该基座板具有相互平行地配置的第1支承轴和第2支承轴。所述叶片驱动装置具有安装于所述基座板并对所述基座板的开口部进行开闭的叶片。所述叶片驱动装置具有以能够旋转的方式安装于所述第1支承轴的驱动转子,该驱...
一种相机镜头屏蔽结构及耐辐照相机
本申请提供一种相机镜头屏蔽结构及耐辐照相机,属于耐辐照摄像设备技术领域,包括:屏蔽罩,屏蔽罩具有开口;屏蔽部,设置在屏蔽罩的开口位置,屏蔽部的大小与开口的大小相适配;屏蔽部包括第一部分和第二部分,第一部分固定连接在屏蔽罩上,且第一部分形成有...
光源移动机构及影像仪
本申请提供一种光源移动机构及影像仪,该光源移动机构,包括光源移动单元,光源移动单元包括:第一连接座,第一连接座上设置有导引孔;第一丝杠螺母副,包括第一丝杠以及套设在第一丝杠上的第一螺母,第一螺母与第一连接座连接,第一丝杠螺母副被配置为带动第...
补光灯模组及电子设备
本申请公开了一种补光灯模组及电子设备,属于光学器件技术领域,补光灯模组包括导光件和发光组件;导光件具有相背设置的第一表面和第二表面,第一表面具有第一入光面,第一入光面具有第一纹理区和第二纹理区;发光组件包括多个第一发光件和多个第二发光件,第...
一种光学镜头外加热除雾结构及除雾方法
本发明公开了一种光学镜头外加热除雾结构及除雾方法,包括:环形半导体制冷片,用于对镜片降温,所述铜箔导热垫与镜片接触;本发明通过环形半导体制冷片、铜箔导热垫与控制模块等结构的设计,蓝牙模块连接终端,用户可在终端上提前输入户外温湿度参数,控制模...
投影仪
投影仪。在使用光路移位器件的情况下,抑制如下状况:特别是由于红色频带的旋转效率减少而导致色调恶化、明亮度降低。投影仪具备:第1液晶面板,其对第1波段的光进行调制而生成第1图像光;第2液晶面板,其对具有比第1波段的中心波长长的中心波长的第2波...
光源模组、发光装置、照明系统及显示设备
本申请涉及一种光源模组、发光装置、照明系统及显示设备。第一透反组件中,第一偏振元件能够透过第一偏振态光线并反射第二偏振态光线,第一透反膜能够透过第一光线并反射第二光线和第三光线;第二透反组件中,第二偏振元件能够透过第一偏振态光线并反射第二偏...
反射型空白掩膜及其制造方法
本发明提供反射型空白掩膜及其制造方法,所述反射型空白掩膜能够以较低的成本且较高的产出量制作基准标记,并能够提升检测器检测位置的精度。该反射型空白掩膜的特征在于,至少具备:基板、设置于该基板上且反射曝光光线的多层反射膜及设置于该多层反射膜上且...
光罩以及检测光罩套刻精度的方法
本申请提供了一种光罩以及检测光罩套刻精度的方法;该光罩包括:第一子光罩和第二子光罩,第一子光罩上设置有第一掩膜标识,第一掩膜标识包括沿第一方向排布的N个第一条状图形,N个第一条状图形在第二方向上的两端分别对齐;第二子光罩上设置有第二掩膜标识...
掩膜、制造掩膜的方法以及制造半导体装置的方法
本发明提供一种掩膜、制造掩膜的方法以及制造半导体装置的方法。掩膜包括反射多层叠层、在反射多层叠层之上的盖层、在盖层之上的吸收层,以及以下的至少一者:在反射多层叠层与盖层之间的缓冲层,和在盖层与吸收层之间的保护层。制造掩膜的方法包括形成反射多...
光掩模位置精度的补偿方法
本发明提供了一种光掩模位置精度的补偿方法,包括:提供一光掩模,扫描光掩模以获得光掩模的位置精度分布图,在位置精度分布图中标注畸变区、核心功能区和外围区;建立基于距离衰减的权重分配模型,给核心功能区分配第一权重值,给外围区按距离衰减分配第二权...
基于相关层辅助的四色拆分方法
本申请公开了一种基于相关层辅助的四色拆分方法,包括:S1:提供目标金属截断层的版图文件;S2:提供符合预设有的拆分规则的矩阵通解;S3:根据矩阵通解,编写脚本对目标金属截断层的版图文件进行Y方向的图像拆分,得到Y方向参考图形;S4:根据矩阵...
掩模版图的双重图案化拆分方法及相关产品
本发明提供了一种掩模版图的双重图案化拆分方法及相关产品。拆分方法包括将掩模版图分割成多个区块;将多个区块分配至多个从机,由各从机对分配到的一个或多个区块分别构建冲突图,并对各自的冲突图进行节点染色;从各从机获取冲突图并汇总,并将汇总后的冲突...
面向纳米压印光刻制造深度差异结构的柔性偏摆调控装置
本发明公开了面向纳米压印光刻制造深度差异结构的柔性偏摆调控装置,涉及微纳制造技术领域,具体包括基座、固定在基座顶部的支架,所述基座的顶部分别设置有水平滑台、第一丝杠行进机构,所述第一丝杠行进机构的输出结构与水平滑台传动连接,且水平滑台的顶部...
含硅的抗蚀剂膜形成用组成物、及图案形成方法
本发明涉及含硅的抗蚀剂膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明为一种含硅的抗蚀剂膜形成用组成物,其形成LWR及CDU优良的超微细的抗蚀剂图案,形成的抗蚀剂膜在和有机材料之间具有高蚀刻选择性,且不会发生因为图案化结束后残存的残渣导致缺陷的图案形...
抗蚀干膜组合物、抗蚀干膜、抗蚀干膜层叠体、抗蚀图案及电子器件
本发明公开一种抗蚀干膜组合物、抗蚀干膜、抗蚀干膜层叠体、抗蚀图案及电子器件,涉及高分子材料技术领域。抗蚀干膜组合物包括碱溶性树脂、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物和光引发剂,氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的结构式如式I所示,其中,R11选...
色阻组合物、彩色滤光层及显示面板
本申请涉及一种色阻组合物、彩色滤光层及显示面板;色阻组合物包括着色材料以及功能组分,着色材料包括第一色材,第一色材包括如式(1)所示结构的化合物:;其中,M选自金属离子;R11至R1616各自独立地选自氢原子、卤素原子、取代或未被取代的脂肪...
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