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  • 本发明公开了一种基于双控制器互联的飞锯机堆垛机协同控制系统,所述系统包括飞锯机和堆垛机各自的核心控制单元、人机交互单元和执行机构,各自的核心控制单元分别连接各自的人机交互单元和执行机构;飞锯机的核心控制单元和堆垛机的核心控制单元采用主从互联...
  • 本发明公开了一种切块机的安全联锁系统和控制方法,属于机械安全控制技术领域,包括紧急触发单元,用于多重紧急停机保护;多模态检测单元,安装于切块机支架顶部,用于检测人员靠近;门状态检测单元,用于检测切块机开关门的状态;设备监测单元,用于实时监测...
  • 本发明公开了一种基于数字孪生驱动的设备信息模型建构方法及系统,方法由基于数字孪生驱动的模型显示装置执行,包括:接收由用户发送的模型控制指令集合;判断是否能够在第一设备模型上执行第一模型控制指令,以及是否能够在第二设备模型上执行第二模型控制指...
  • 本发明公开了一种多控制台电控系统的急停保护控制方法,涉及工业自动化与机电设备功能安全技术领域,本发明基于分布式一致性协议和范围仲裁,方法实现了急停命令的自动排序与范围扩展,避免了传统系统中因本地决策导致的设备停止不一致或延迟,从而减少设备碰...
  • 一种方法和电梯系统包括主模块,所述主模块在配置模式、检测模式和电梯操作模式下可操作。当处于所述配置模式下时,至少一个子模块可连接到所述主模块,并且所述子模块具有初始化模式和识别模式。至少一个激活工具由用户选择性地致动以激活所述检测模式。响应...
  • 本发明公开了一种充电桩全国标协议控制导引切换方法,包括控制导引切换电路,所述控制导引切换电路包括第一输出电路、第二输出电路、第三切换电路、CC检测电路和车端CC信号输入电路,所述第一输出电路和第二输出电路并联在第三切换电路上,所述第三切换电...
  • 本发明提供一种组件化的定位导航授时系统及定位导航授时方法,包括:若干PNT组件模块和一个信息融合模块,各模块间通过标准化交互协议实现高效数据交互。所述PNT组件模块由传感元件、边缘计算芯片和信息传输接口组成,其中标准化信息提取子模块部署于边...
  • 本发明提供了一种基于双层超表面实现全空间彩色全息的方法,包括:确定入射光,并设置入射光的偏振状态;将设置好的偏振状态入射至双层超表面;通过双层超表面对设置好偏振状态的入射光进行相位调制,以在反射空间和透射空间上均形成彩色全息图像;其中,双层...
  • 本发明公开了一种针对凸非球面的计算全息图设计方法,方法包括:设置CGH的尺寸、标准球面镜与待测凸非球面的参数;利用计算机计算CGH在不同位置时对CGH刻蚀面Zernike系数进行优化将系统像差优化到设定范围内所对应CGH最大空间频率大小;选...
  • 本发明公开了一种高可靠度的双平面无透镜片上全息显微相位像重建方法。该方法首先获取两帧不同高度的全息图,利用双平面强度传输方程获取优化的初始物平面复振幅分布,然后采用双平面Wirtinger算子计算物平面复振幅梯度值并进行更新,再施加复振幅总...
  • 本发明公开了一种处理盒,包括:显影辊;感光鼓;充电部件,可为所述感光鼓充电;还包括调节组件,所述调节组件可接收第一电压,所述第一电压经过所述调节组件调节后可输出第二电压至所述充电部件,其中,所述第一电压不同于所述第二电压。
  • 本申请涉及打印技术领域,提供一种打印组件、打印设备及打印系统,能够解决相关技术中的打印设备的体积较大,不利于打印设备小型化的问题。该打印组件,用于打印设备中,包括固定架、成像组件、转印带以及转印辊;成像组件包括感光鼓,以及分布于所述感光鼓周...
  • 本发明涉及打印机配件领域,具体是涉及一种打印机硒鼓用废粉回收处理装置。包括主盖板、副盖板、空心管、隔板、压板、挡板及动力机构。主盖板与刮刀远离鼓芯一侧铰接,副盖板与废料仓靠近辊芯一侧铰接;空心管转动设于废料仓中部,隔板位于空心管下方,压板一...
  • 本发明提供一种图像形成装置,其能够消除使用回收部件的无清洁器系统中的调色剂掉落,提高图像品质随时间的稳定性。该图像形成装置包括 : 像载置体、充电部件、回收部件、充电电压施加单元、显影单元、显影电压施加单元、转印单元、控制部,回收处理是包括...
  • 本发明涉及一种电子照相感光体用导电基体的处理方法,属于电子照相成像元件技术领域。所述方法通过控制导电基体的表面光泽度为193 GU~325GU,可以实现降低导电基体表面可以导致打印画像黑点的异物数量,从而减弱照射到导电基体表面的写入光的反射...
  • 本发明涉及显影液技术领域,具体涉及一种用于CF段负胶显影的高寿命显影液及其制备方法。所述高寿命显影液包括以下组分:无机碱、非离子表面活性剂、炔醇、聚乙二醇和高纯水。本发明通过引入炔醇与聚乙二醇的协同体系,在实现高效、持久消泡的同时,显著抑制...
  • 本发明实施例提供一种曝光方法及曝光控制装置。该曝光方法包括获取中央生产区域和边缘区域的分界线;根据所述分界线在所述中央生产区域执行第一扫描模式,在所述边缘区域执行第二扫描模式;所述第一扫描模式为正向扫描,所述第二扫描模式为正向扫描和反向扫描...
  • 本公开涉及一种针对大面积结构中结构层的制造方法,针对包括至少一个结构层的大面积结构中需要通过图案化制备的目标结构层,先在大面积结构当前已经制备好的结构层或衬底上方制备第一材料层后涂覆第一光刻胶;将第一掩膜版的图案转移到第一光刻胶上并对第一材...
  • 本发明公开了一种光刻机曝光任务管理方法、装置、光刻机及存储介质。该方法包括:响应于曝光任务开始指令,从数据库中读取预先构建的多维任务表,其中,所述多维任务表包括所述曝光任务中多个曝光子任务的任务索引以及每个任务索引对应的任务流转索引,所述任...
  • 本申请提供一种接触层OPC热点修补方法,包括:步骤S1,输入初始OPC图形;步骤S2,对输入的OPC图形进行模拟检查,得到第一标记图形、第二标记图形和第三标记图形;步骤S3,根据第一标记图形和输入的OPC图形得到面积热点OPC图形;步骤S4...
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