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一种基于状态智能监控的工件打砂机构、打砂方法及系统
本申请涉及打砂设备的技术领域,尤其是涉及一种基于状态智能监控的工件打砂机构、打砂方法及系统,其方法包括:将工件输送至打砂室内的打砂工位,暂停输送;驱动工件轴向自转;启动多组抛丸器对工件表面进行全方位抛丸处理;钢砂落入钢砂循环系统并输送至抛丸...
一种汽车零部件抛丸装置及抛丸方法
本发明涉及汽车零部件抛丸加工技术领域,并公开了一种汽车零部件抛丸装置及抛丸方法,包括抛丸框和抛丸设备,还包括限动组件,所述抛丸框前侧开设有放料口,所述抛丸框底部转动贯穿有弹性伸缩杆,所述抛丸框内壁固定安装有支撑框,所述弹性伸缩杆自由端固定安...
一种辊道通过式抛丸机
本申请公开了一种辊道通过式抛丸机,涉及金属表面处理设备领域,包括清理室、贯穿清理室的辊道系统,工件进口和工件出口处均设置有密封机构,密封机构包括:多个密封条;吹扫块,竖直设置于清理室内,吹扫块位于工件的一侧,吹扫块靠近工件的侧壁沿长度方向开...
一种钢丝生产工艺
本发明公开了一种钢丝生产工艺,涉及钢丝生产技术领域,包括原料预处理、表面处理和成型及后续处理;本发明具有结构合理简单、生产成本低、安装方便的特点,通过静电除尘模块和旋抛机构的配合,实现对原材料高效除尘和抛丸处理,有效去除表面杂质和锈迹;本发...
一种刀头钝化机
本申请涉及一种刀头钝化机,其包括壳体、传送组件、放置盘、喷砂组件以及供砂组件,所述壳体相对的两侧分别开设有进料口和出料口,所述传送组件包括传送带、两个传送轮、传送电机以及限制件,两个传送轮分别于进料口和出料口相对应,传送轮转动连接于所述壳体...
一种抛光液供液装置
本发明涉及一种抛光液供液装置,包括:装置主体,所述装置主体正面安装有抛光液供液桶,抛光液供液桶的输出端对接有抛光液输出泵,所述抛光液输出泵对接装置主体背面安装的输出管组件,所述输出管组件用于将抛光液输出至抛光加工系统,所述装置主体背面还安装...
一种变压器焊缝打磨设备用粉尘回收处理设备
本发明涉及焊缝打磨设备粉尘处理技术领域,且公开了一种变压器焊缝打磨设备用粉尘回收处理设备,该设备包括设有磁吸密封门的透明密闭框架,框架顶部连通集尘罩,内部设置可同步转动的多组静电集尘板,并通过线性导轨毛刷机构实现自清洁。集尘罩出口串联离心机...
砂轮导轮共用修整器
本发明属于修整器领域,尤其是一种砂轮导轮共用修整器,针对现有修整器中存在调整复杂,效率低且平行度保障困难的问题,现提出如下方案,其包括修整器本体,所述修整器本体上设有三轴伺服机构,所述三轴伺服机构的底端设有砂轮和导轮,所述砂轮设于导轮的一侧...
一种金刚石滚轮修整装置
本发明公开了一种金刚石滚轮修整装置,涉及金刚石滚轮修整技术领域。包括工作台和移动座,移动座表面滑动安装有磨削座,磨削座底端固定有移动块,移动座端部滑动安装有挡板,挡板内部设置有转动组件,移动座表面开设有移动槽,移动槽内部设置有移动轴,移动轴...
一种运动控制系统的玻璃打磨路径拆分方法
本发明提供了一种运动控制系统的玻璃打磨路径拆分方法,属于计算控制方法领域。包括与平移装置连接且带有旋转电机的毛刷,以及与旋转装置的旋转轴连接的工件,所述的毛刷用于打磨工件,所述的工件的旋转中心位于工件的中心处,其特征在于,将毛刷半径设定为B...
R角锯齿刀片制备夹具及其制备工艺
本申请涉及R角锯齿刀片制备夹具及其制备工艺,涉及精密刀具加工的技术领域,该夹具包括底座和压板,底座设有水平顶面、倾斜面及多组锯齿槽,通过锯齿槽内侧壁支撑定位刀片底部,倾斜面支撑底层刀片,压板压紧顶层刀片,使刀片阵列顶部待开刃部位处于同一水平...
一种用于医疗成像与数据传输的柔性光纤束抛光夹具
本发明是关于一种用于医疗成像与数据传输的柔性光纤束抛光夹具,包括夹具主体,所述夹具主体上设有多个第一通孔,所述第一通孔贯穿所述夹具主体的上下端面;每个所述第一通孔的一侧对应设有第二通孔,所述第二通孔贯穿所述第一通孔的内壁和所述夹具主体的外壁...
用于轴磨内孔的夹具装置
本发明公开了一种用于轴磨内孔的夹具装置,本发明涉及夹具技术领域,夹具装置包括:第一夹具结构,第一夹具结构用于固定于卡盘,第一夹具结构限定出用于装配轴的第一固定孔;第二夹具结构,第二夹具结构用于安装于卡盘,第二夹具结构限定出用于装配轴的第二固...
一种电动驱动智能恒力径向补偿系统
本发明适用于打磨技术领域,提供了一种电动驱动智能恒力径向补偿系统,包括智能电动径向浮动打磨装置,所述智能电动径向浮动打磨装置包括防尘罩,所述防尘罩的内部直线电机,所述直线电机由电机定子与电机动子组成,所述直线电机的输出端设有打磨工具,所述直...
一种数控重型卧式车磨床磨刀架结构
本发明公开了一种数控重型卧式车磨床磨刀架结构,其包括大刀架、上刀架、横向进给机构、直线硬轨、滑动导轨、蜗杆、蜗轮和过渡体,上刀架包括上刀架下体、回转体和静压磨头;大刀架安装于数控重型卧式车磨床的床身上,上刀架下体安装于大刀架内部;回转体通过...
研磨机台晶圆滑出探测设备抗干扰侦测方法
本申请提供一种研磨机台晶圆滑出探测设备抗干扰侦测方法,采用双光路光强比值检测通过主光路和参考光路的信号比消除共模干扰,结合双光路光强比值的静态均值与动态导数分析,仅当静态和动态条件同时满足时触发机台报警。极大地减少了晶圆滑出探测设备的误侦测...
一种专用于TEC陶瓷制冷片的研磨垫及其制备方法
本发明属于研磨工具技术领域,公开了一种专用于TEC陶瓷制冷片的研磨垫及其制备方法,解决现有TEC热制冷片加工过程中的加工效率低、清洗难等问题。一种专用于TEC陶瓷制冷片的研磨垫,包括底材和设置在底材上的若干平顶面的研磨块,所述研磨块的原料组...
化学机械抛光垫缓冲层、制备方法、抛光垫及应用
本发明提供一种化学机械抛光垫缓冲层、制备方法、抛光垫及应用,所述缓冲层包括聚氨酯层和支撑层,所述聚氨酯层由包含聚氨酯、阴离子型助剂、非离子型助剂和溶剂的浆料组合物固化而成。所述缓冲层的硬度为60‑80 Shore A、压缩比为4‑8%、密度...
化学机械研磨方法、装置及晶圆的制作方法
本发明提供了一种化学机械研磨方法、装置及晶圆的制作方法,属于半导体领域。该化学机械研磨方法包括:提供晶圆;确定晶圆的厚度分布;构建基于研磨液供应量的研磨速率修正模型;根据研磨速率修正模型、晶圆表面的厚度分布及预设的晶圆的目标厚度,调节研磨垫...
一种基于三频双向超声辅助的半导体化学机械抛光装置
本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域,具体是一种基于三频双向超声辅助的半导体化学机械抛光装置,其包括转台,转台的台板下表面与转台的外壳上表面之间留有安装间隙,安装间隙内设置有底板和盖板,底板的上表面放置有控制盒、环形穿线管、径向穿线管、轴向...
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