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最新专利技术
  • 全息光镊因Z方向移动引起偏移的自动校正方法及装置
    全息光镊因Z方向移动引起偏移的自动校正方法及装置_广州市凯佳光学科技有限公司_202510949495.0
    本发明公开了全息光镊因Z方向移动引起偏移的自动校正方法及装置， 方法包括：通过初始控制指令控制光阱在初始平面移动并结合相机接收到的光阱初始位置信息获取预测坐标序列， 控制光阱在任意平面移动并结合相机接收到的光阱移动位置信息构建真实坐标序列，...
    2026-01-20
  • 处理盒
    处理盒_纳思达股份有限公司_202411836263.6
    本申请公开了一种处理盒， 该处理盒包括盒体、感光鼓、显影辊、轮毂、动力接收单元、显影辊齿轮和悬臂， 感光鼓和显影辊可转动地设置于盒体， 轮毂设置于感光鼓的一端， 且轮毂的外圆周设有齿轮部；动力接收单元设置于盒体的一端, 用于接收旋转的驱动力...
    2026-01-20
  • 成像设备
    成像设备_佳能株式会社_202511140934.X
    本公开涉及一种成像设备， 包括可旋转的图像承载构件和可旋转的显影构件， 显影构件构造成承载由调色剂颗粒和附着到所述调色剂颗粒的表面的载体颗粒构成的显影剂。在将所述显影构件压抵所述图像承载构件的按压力为F1并且介于所述调色剂颗粒和所述图像承载...
    2026-01-20
  • 显影盒及图像形成装置
    显影盒及图像形成装置_珠海市颂洋科技有限公司_202511237669.7
    本发明涉及打印设备技术领域， 提供一种显影盒及图像形成装置， 其中显影盒包括：外壳；显影辊；鼓构件；芯片构件；芯片构件包括：芯片， 芯片上具有至少一个电连接端；主座， 主座上具有收纳腔以及位于远离外壳的第一侧壁， 收纳腔内设置有用于固定芯片...
    2026-01-20
  • 显影盒及成像设备
    显影盒及成像设备_珠海市颂洋科技有限公司_202511212845.1
    本发明提供一种显影盒及成像设备， 该显影盒中， 盒主体前端设有接触支点部， 后端设有第一限制部和储能件；连接体凸设有本体， 本体凸设有第二限制部和载体， 第二限制部和载体之间设置有第一引导部， 载体设有第二引导部， 在安装方向上， 第二引导...
    2026-01-20
  • 一种耐磨抗老化的感光鼓涂层
    一种耐磨抗老化的感光鼓涂层_南京鼎仁智能制造有限公司_202510850683.8
    本发明公开了一种耐磨抗老化的感光鼓涂层， 其原料按重量份包括：改性钛酸钡晶须6‑10份、石墨烯量子点0.1‑0.3份、表面润滑剂12‑18份、环氧树脂20‑30份、固化剂5‑9份、聚氨酯丙烯酸酯30‑40份、表面改性剂0.8‑1.2份、纳米...
    2026-01-20
  • 一种复印机墨粉及其制备方法
    一种复印机墨粉及其制备方法_广州丽格新材材料科技有限公司_202511176003.5
    本发明涉及墨粉技术领域， 具体涉及一种复印机墨粉及其制备方法， 包括：着色树脂粒子， 着色树脂粒子的用量为墨粉总重量的95‑99.8％；其中， 着色树脂粒子包括按重量份计的以下成分：树脂75‑90份， 着色剂2‑10份， 电荷调节剂0.5‑...
    2026-01-20
  • 一种晶圆光刻过程中对准失败的处理方法及装置
    一种晶圆光刻过程中对准失败的处理方法及装置_粤芯半导体技术股份有限公司_202511222740.4
    本申请提供了一种晶圆光刻过程中对准失败的处理方法及装置， 所述处理方法包括：若识别到晶圆的目标光刻阶段发生对准失败， 确定是否存在至少一个未使用的备用对准标记；若存在， 按预设选取规则从至少一个未使用的备用对准标记中， 确定目标光刻阶段对晶...
    2026-01-20
  • 一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法
    一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法_南通得安电子材料有限公司_202511266407.3
    本申请涉及光阻抗蚀剂技术领域， 特别涉及一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法。按照质量份数， 所述针对厚光阻抗蚀剂的剥除液包括溶剂体系30~40份， 活性成分20~30份， 改性剂3~7份， 稳定剂0.5~1份， 所述稳定剂为羟乙基纤维素...
    2026-01-20
  • 一种高精度多区域半导体加热平台控制系统
    一种高精度多区域半导体加热平台控制系统_无锡展硕科技有限公司_202511237398.5
    本发明涉及应用于半导体相关技术领域的一种高精度多区域半导体加热平台控制系统， 通过分区加热单元以及局部加热单元的设置， 在后期出现局部溶剂未完全去除的情况时， 配合异常监测单元的设置， 可及时确定异常点的位置， 并通过热补偿盘进行针对性的加...
    2026-01-20
  • 一种显示屏生产用曝光设备
    一种显示屏生产用曝光设备_超越非凡光电(深圳)有限公司_202511256797.6
    本发明涉及显示屏生产技术领域， 尤其是一种显示屏生产用曝光设备， 包括有箱体和设置于箱体内部的自开合盛料组件， 所述自开合盛料组件包括有设置于所述箱体内部的盛料件和设置于盛料件端部的限位开合件， 所述箱体的端部设置有可调节夹持组件， 当需要...
    2026-01-20
  • 一种虚拟晶圆三维模型生成方法、设备、介质及程序产品
    一种虚拟晶圆三维模型生成方法、设备、介质及程序产品_上海朋熙半导体有限公司_202511242891.6
    本申请提供一种虚拟晶圆三维模型生成方法、设备、介质及程序产品， 通过构建目标晶圆的初始三维模型， 初始三维模型为薄圆柱体结构， 用于表示晶圆的基底形态；按照预设的工艺流程， 依次读取每一道工艺步骤， 并基于工艺步骤确定晶圆三维模型的调整方式...
    2026-01-20
  • 一种具有双面清理功能的掩模板处理装置
    一种具有双面清理功能的掩模板处理装置_江苏路芯半导体技术有限公司_202511190378.7
    本发明符合掩模板处理技术领域， 主要提及了一种具有双面清理功能的掩模板处理装置。包括有操作台， 操作台安装有呈矩阵分布的固定架， 呈矩阵分布的固定架转动连接有载物台， 载物台内放置有掩模板， 掩模板由石英板和上侧的金属层组成， 呈矩阵分布的...
    2026-01-20
  • 除尘装置及光刻系统
    除尘装置及光刻系统_滁州捷泰新能源科技有限公司_202511152963.8
    本申请涉及一种除尘装置及光刻系统， 除尘装置包括除尘模块、集尘模块、挡尘模块和清灰模块。除尘模块包括除尘室、设于除尘室内的滤筒、负压发生器、以及将负压发生器和滤筒连通的负压管路。集尘模块包括位于除尘室下方的集尘室， 挡尘模块分隔在除尘室和集...
    2026-01-20
  • 用于超高真空互联系统的图形转移装置
    用于超高真空互联系统的图形转移装置_中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所_202510931539.7
    本发明公开提供了一种用于超高真空互联系统的图形转移装置， 包括：样品存放机构， 包括基座和盖板， 基座表面开设有凹陷设置的样品槽， 盖板层叠设置于基座表面上， 且通过转轴与基座转动连接， 盖板设置有开口， 开口的面积大于或等于样品槽在第一方...
    2026-01-20
  • 改善成像麻点的方法
    改善成像麻点的方法_安徽晶微科技有限公司_202510763404.4
    一种改善成像麻点的方法包括步骤：S1， 提供两张光刻流程前的产品片；S2， 涂胶， 采用相同涂胶条件涂胶， 获得两张涂胶片；S3， 曝光， 涂胶后的两张涂胶片采用多个分布的晶粒构成晶圆的版图曝光， 以得到两张曝光片， 其中， 针对两张涂胶片...
    2026-01-20
  • 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
    机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法_富士胶片株式会社_202510930644.9
    本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版、以及使用了上述机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法或平版印刷方法， 该机上显影型平版印刷版原版具有支承体及在上述支承体上形成的图像记录层， 上述图像记录层包含引发剂、能够对上述引发剂供给电子...
    2026-01-20
  • 感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板
    感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板_太阳油墨(苏州)有限公司_202511135347.1
    印刷性优异、且能够形成具有优异的硬度和耐冷热冲击性的阻焊层的感光热固化显影性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。感光热固化显影性树脂组合物含有(A)乙烯基酯树脂、(B)光聚合引发剂、(C)磷酸酯系分散剂、(D)在一分子...
    2026-01-20
  • 色阻组合物、彩色滤光层及显示面板
    色阻组合物、彩色滤光层及显示面板_TCL华星光电技术有限公司_202510963107.4
    本申请涉及一种色阻组合物、彩色滤光层及显示面板；色阻组合物包括着色材料以及功能组分， 着色材料包括第一色材， 且第一色材的结构式如下式(1)所示：本申请可以使得第一色材具有较好的耐候性， 提高了色阻组合物的耐候性；此外， 在第一色材中引入X...
    2026-01-20
  • 一种正负反转光致抗蚀剂组合物及其应用
    一种正负反转光致抗蚀剂组合物及其应用_武汉市太紫微光电科技有限公司_202510950795.0
    本申请属于精细图案加工领域， 更具体地， 涉及一种正负反转光致抗蚀剂组合物及其应用。所述正负反转光致抗蚀剂组合物包括质量分数为1wt%~10wt%的PDHF、质量为所述PDHF的质量的10wt%~40wt%的光致产酸剂以及溶剂；所述PDHF...
    2026-01-20
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