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最新专利技术
  • 一种光刻机电磁驱动式可动镜组及其光刻机
    一种光刻机电磁驱动式可动镜组及其光刻机_上海现代先进超精密制造中心有限公司_202511843957.7
    本发明公开了一种光刻机电磁驱动式可动镜组及其光刻机。一种光刻机电磁驱动式可动镜组，包括镜片、镜座、电磁悬浮导轨、磁铁滑块、气浮导轨以及气浮滑块；所述镜片安装在所述镜座上，所述镜座上安装有气浮滑块，所述气浮滑块滑动设置在所述气浮导轨上；所述电...
    2026-05-02
  • 一种快速的化学放大光刻胶光刻潜像计算方法与系统
    一种快速的化学放大光刻胶光刻潜像计算方法与系统_北京理工大学_202511864393.5
    本发明公开了一种快速的化学放大光刻胶光刻潜像计算方法与系统，涉及化学放大光刻胶模型领域，可用于同步加速曝光过程与后烘过程的仿真，解决了现有快速仿真方法仅针对单一环节进行优化、无法整体提升光刻成像模拟效率的问题，提高了整体计算效率。其方案包括...
    2026-05-02
  • 一种静态全息光刻锁相系统和方法
    一种静态全息光刻锁相系统和方法_浙江大学杭州国际科创中心_202511870742.4
    本发明属于全息光栅加工技术领域，公开了一种静态全息光刻锁相系统和方法。本发明利用光源单元提供线偏振激光；利用分光模块将线偏振激光分离为对称分布的双束光，并分别引导至两个反射调节单元；两束光分别由两个反射调节单元反射，并分别经过两个电光调制器...
    2026-05-02
  • 一种光学邻近校正模型的建模方法、装置、设备和介质
    一种光学邻近校正模型的建模方法、装置、设备和介质_广州增芯科技有限公司_202511960606.4
    本申请实施例公开了一种光学邻近校正模型的建模方法、装置、设备和介质；该方法包括：获取掩模版图；基于掩模版图，对第一衬底进行离子注入仿真，得到各注入区域的第一量测数据，第一衬底内包括浅沟槽隔离区和有源区；根据各第一量测数据，确定各开口图形组对...
    2026-05-02
  • 一种光刻机用硅片台驱动装置及方法
    一种光刻机用硅片台驱动装置及方法_苏州美芝恩电子科技有限公司_202511997323.7
    本发明涉及光刻机技术领域，具体公开了一种光刻机用硅片台驱动装置及方法，包括光刻机本体，所述光刻机本体的内部一侧开设有第一工作槽，所述第一工作槽的内部设有开关机构，将等离子清洁单元集成于光刻机本体内，通过等离子喷嘴对位硅片，低温等离子体可高效...
    2026-05-02
  • 一种晶圆光刻胶曝光装置
    一种晶圆光刻胶曝光装置_魏猛_202512023613.8
    本发明提供一种晶圆光刻胶曝光装置，属于半导体加工技术领域，具体包括吸附机构、曝光机构、调控组件和遮盖板，吸附机构用于对晶圆进行定位且能够带动晶圆转动；曝光机构用于对晶圆表面的光刻胶进行照射；调控组件与曝光机构连接，能够使曝光机构移动至晶圆的...
    2026-05-02
  • 曝光系统及其安全自检方法以及光刻机
    曝光系统及其安全自检方法以及光刻机_上海新毅东半导体科技有限公司_202512025691.1
    本发明公开了一种曝光系统及其安全自检方法以及光刻机，方法包括：根据源光束的辐射通量生成第一状态信号；根据快门的状态生成第二状态信号，根据第一状态信号和第二状态信号确定曝光系统是否自检正常。将曝光系统中原有的只用来作为剂量控制用的照度传感器检...
    2026-05-02
  • 激光直写曝光机及激光直写曝光机的控制方法
    激光直写曝光机及激光直写曝光机的控制方法_迪盛微(江苏)装备科技有限公司_202512058692.6
    本发明公开了一种激光直写曝光机及激光直写曝光机的控制方法，该激光直写曝光机包括用于曝光工件的曝光系统、控制模块、工作台和位移采集模块；曝光系统包括激光器和曝光镜头，位移采集模块与工作台或曝光镜头固定连接，用于获取工作台的位移数据或曝光镜头的...
    2026-05-02
  • 曝光系统、激光直写曝光机、激光器的控制方法及其应用
    曝光系统、激光直写曝光机、激光器的控制方法及其应用_迪盛微(江苏)装备科技有限公司_202512059428.4
    本发明公开了一种曝光系统、激光直写曝光机、激光器的控制方法及其应用，该曝光系统包括激光器及与激光器相连的曝光镜头，曝光镜头上安装有DMD器件，DMD器件包括DMD控制板和DMD芯片，曝光系统还包括主控制板和LD控制板；DMD控制板用于产生激...
    2026-05-02
  • 酸性剥离液及其在硅基表面复合膜剥离中的应用
    酸性剥离液及其在硅基表面复合膜剥离中的应用_湖北兴福电子材料股份有限公司_202511425078.2
    本发明涉及半导体及膜层剥离技术领域，具体公开了一种酸性剥离液及其在硅基表面复合膜剥离中的应用。该剥离液含有按质量百分数计的以下原料：80~85%酸性物质、1~1.6%氧化剂，0.14~0.26%吸附剂，余量为水；其中吸附剂为胺肟类化合物。该...
    2026-05-02
  • 一种OLED用光刻胶剥离液及其制备方法和应用
    一种OLED用光刻胶剥离液及其制备方法和应用_合肥中聚和成光电材料股份有限公司_202610030628.9
    本发明属于蚀刻液技术领域，具体涉及一种OLED用光刻胶剥离液及其制备方法和应用。光刻胶剥离液以配方总质量为100%计，包括有机醇胺1~10%、脒基化合物2~5%、多元醇0.1~3%、甜菜碱型缓蚀剂0.01~0.2%，其余为有机溶剂。该OLE...
    2026-05-02
  • 一种用于评估不同光刻图形对准精确的方法及量测相机
    一种用于评估不同光刻图形对准精确的方法及量测相机_北京博视像元科技有限公司_202512029575.7
    本发明公开一种用于评估不同光刻图形对准精确的方法及量测相机，涉及光刻对准的量测相机领域，所述方法包括：获取包含至少两个不同工艺层对准标记的多模式光学测量图像；根据光学测量图像的形成过程建立一个参数化成像反演模型；以获取到的多模式光学测量图像...
    2026-05-02
  • 图像形成装置
    图像形成装置_株式会社理光_202511090539.5
    本发明提供一种图像形成装置，即使因印刷条件等导致射入到同步检测传感器的激光束的光量发生变动，也不会发生因杂散光而引起的误检测、因光量不足而引起的漏检测，能够切实地检测同步。涉及一种通过对形成在感光体上的静电潜像显影的显影剂来形成图像的图像形...
    2026-05-02
  • 显影盒
    显影盒_中山市泰鸿鑫塑胶科技有限公司_202511781429.3
    本发明涉及一种可拆卸地安装至设置有驱动力输出件的成像设备中的显影盒，包括显影壳体、可旋转地设置在显影壳体的显影辊和送粉辊、驱动力接收部、第一传递部、第二传递部和第三传递部，驱动力接收部用于接收来自驱动力输出件输出的驱动力，第一传递部，被驱动...
    2026-05-02
  • 基于超表面的全空间可切换的纳米压印和全息显示方法
    基于超表面的全空间可切换的纳米压印和全息显示方法_北京工业大学_202511533854.0
    基于超表面的全空间可切换的纳米压印和全息显示方法，属于微纳光学、全息显示领域。本发明基于超表面的全空间可切换的纳米压印和全息显示方法，该方法用于实现全空间可切换的纳米压印和全息显示的超表面由不同几何尺寸的纳米天线组成，其几何尺寸及排列方式通...
    2026-05-02
  • 基于数字位移的单幅数字全息图像差绝对校准方法
    基于数字位移的单幅数字全息图像差绝对校准方法_山东大学_202511988082.X
    本发明涉及一种基于数字位移的单幅数字全息图像差绝对校准方法，属于光学测量技术领域，包括：采集一幅样品全息图解调得到相位图；采用边缘检测法得到掩模图；将相位图利用图像处理技术沿x、y方向顺序位移；进行差分计算得到两组全局相位差分数据；利用掩模...
    2026-05-02
  • 全息数字地球沙盘的构建方法及其装置、电子设备
    全息数字地球沙盘的构建方法及其装置、电子设备_中国科学院空天信息创新研究院_202511572910.1
    本发明公开了一种全息数字地球沙盘的构建方法及其装置、电子设备，涉及数字地球可视化技术领域，其中，该构建方法包括：采用虚幻引擎中的预设插件构建数字地球系统，对数字地球系统的三维场景进行分解，得到背景渲染画面和全息渲染画面，确定待展示的界面画面...
    2026-05-02
  • 用于时计、特别是用于手表的包括用于改善时计的视觉外观的装置的发光显示设备
    用于时计、特别是用于手表的包括用于改善时计的视觉外观的装置的发光显示设备_斯沃奇集团研究及开发有限公司_202511100915.4
    本发明的一个方面涉及一种被配置成装配在手表表壳中的发光显示设备，显示设备包括：表盘，表盘包括设置有中心孔并且具有上部面的表盘本体；至少一个指针，至少一个指针布置在表盘上方，并且安装在穿过表盘本体中的中心孔的旋转柄轴上，指针包括形成光导的层，...
    2026-05-02
  • 一种真空保温手表及其真空封装方法
    一种真空保温手表及其真空封装方法_广东翼丰盛科技有限公司_202511868979.9
    本发明公开了一种真空保温手表及其真空封装方法，所述方法包括以下步骤：提供一手表半成品，所述手表半成品包括表壳、容置于所述表壳内的机芯、以及一体成型于所述表壳上的真空保持阀；将所述手表半成品置于一真空腔室中；对该真空腔室进行抽真空操作，使所述...
    2026-05-02
  • 抑制非脉冲噪声以精确测量脉冲到达时间的方法及系统
    抑制非脉冲噪声以精确测量脉冲到达时间的方法及系统_中国科学院国家天文台_202511709987.9
    本发明公开了一种抑制非脉冲噪声以精确测量脉冲到达时间的方法及系统，包括：S1.生成脉冲星模拟参数，包括自转周期P、流量密度S1250、脉冲到达相位延迟标准差σδpδp；S2.构建脉冲星标准轮廓Q(x)，基于脉冲轮廓类型Ptypetype、子...
    2026-05-02
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