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  • 本发明提供一种用于球阀球面处理的加工设备,属于球阀球面处理技术领域。包括加工台和调节部件,调节部件对称分布在加工台的上方两侧,调节部件的末端装配有伺服电机,伺服电机的驱动轴末端固定连接有连接座,连接座的外部套设有安装座,安装座的外部装配有抛...
  • 本发明涉及管件抛光技术领域,具体为基于端部夹持处理的航空航天圆管抛光机,包括机框,机框一侧内壁转动设置有两组支撑管,且机框内部并位于其中一组支撑管后端上方处设置有导杆,导杆外部的一端处活动设置有动态抵压组件,机框内部的前端处设置有双工位抛光...
  • 本申请提供一种离心式光整加工设备及光整加工方法,其中,设备包括:机架,机架上转动安装有旋转基座,旋转基座由旋转电机驱动绕第一轴线旋转;多个滚筒,多个滚筒转动安装于旋转基座顶面上且沿周向排列,滚筒的转动轴线与第一轴线平行;滚筒顶部设有可开闭的...
  • 本发明涉及表面处理设备技术领域,具体涉及一种异形金属结构的表面处理设备及处理工艺,其包括机架、分隔环、内转筒、外转筒、夹持盘、第一驱动机构和第二驱动机构。一种异形金属结构的表面处理设备可同时对多个工件进行表面处理,具有较高的处理效率。通过第...
  • 本发明涉及磁力研磨技术领域,特别涉及一种串联磁极的磁力研磨装置,包括串联电磁铁组件和旋转机构,串联电磁铁组件包括多个相互螺接的磁极单元及上导电滑环,磁极单元包括电磁铁壳体,电磁铁壳体的上方连接外壳上盖,电磁铁壳体内放置铁芯,铁芯上缠绕导线,...
  • 本申请提出一种整形打磨设备及整形打磨方法,所述整形打磨设备包括壳体,所述壳体具有整形腔、以及连通所述整形腔的进料口、进风口和出料口;整形打磨组件,所述整形打磨组件设于所述整形腔内;所述整形打磨组件包括转轴和打磨机构;所述转轴配置为可转动;所...
  • 本发明公开了一种用于行星减速机太阳轮的精密珩磨设备,具体涉及太阳轮精加工领域,包括珩磨壳体和固定连接在珩磨壳体内的操作台,操作台上安装有角度调节组件,角度调节组件的输出端连接有第一电机,角度调节组件用于驱动第一电机沿预设方向移动,第一电机的...
  • 本发明涉及一种用于高精度薄壁气缸套内孔精密珩磨的夹具及其珩磨方法。用于高精度薄壁气缸套内孔精密珩磨的夹具包括:密封筒、橡胶套筒、上密封盖、下密封盖和气动装置,密封筒为圆筒状,保持间隙地套设在待珩磨的高精度薄壁气缸套外侧;密封筒和待珩磨的高精...
  • 本发明涉及汽车减震器连杆加工技术领域,具体公开了一种汽车减震器连杆加工设备,包括:连杆超精机和工作台,工作台与连杆超精机的内侧固定连接;还包括:调距机构,调距机构设置在工作台上,调距机构用于根据不同尺寸的汽车减震器连杆调节打磨间距,本发明至...
  • 本发明涉及阀体加工技术领域,且公开了一种平板闸阀阀体加工用研磨装置,包括机架,所述机架的两侧安装有调整组件,所述调整组件的一端连接有可调整研磨组件,所述机架的底框设置有操作平台,所述操作平台的中间位置安装有稳定组件。该一种平板闸阀阀体加工用...
  • 本发明涉及阀门加工技术领域,且公开了一种智能制造阀门加工用内壁打磨装置,包括底座,底座的左侧设置有控制台,底座上安装有电动滑轨,控制台与电动滑轨之间通过数据线连接,电动滑轨的移动端固定连接有移动架,移动架上设置有电机,电机上安装有旋转轴,本...
  • 本发明公开了一种CVD金刚石光学研磨工艺及装置,包括以下步骤:S1:对选取的待研磨金刚石工件进行表面清洁,并选择不同研磨系数的研磨盘,S2:研磨阶段分为粗研磨阶段和细研磨阶段,粗研磨之后更换表面粗糙程度更细的研磨盘,根据所需研磨金刚石尺寸的...
  • 本申请提供一种改善晶圆边缘铜残留的化学机械研磨方法,属于半导体制造技术领域。该方法包括在抛光过程中,将施加于晶圆边缘区域的压力控制在3.0psi~10.0psi;同时,将抛光头的转速控制在100rpm~140rpm,能够在不改变设备硬件和研...
  • 本发明提供了一种钨靶材的镜面磨抛加工方法及其应用,所述镜面磨抛加工方法包括依次进行的化学机械研磨处理和化学机械抛光处理。本发明通过研磨‑抛光处理可以获得界面光滑平整的钨靶材,使得界面粗糙度降低至0.10μm以下,腐蚀获得晶界图清晰,便于检测...
  • 本申请提供一种抛光方法、电子设备和存储介质。抛光方法包括:设置工艺模式;基于工艺模式及与三个承载头对应的三个限位件的位置进行晶圆抛光,包括:在工艺模式为双盘抛光且第一抛光盘抛光时长大于第二抛光盘时,逆时针移动三个承载头,使第一承载头依次在第...
  • 本申请提供一种抛光装置和晶圆加工设备。抛光装置包括:顺时针成环形阵列的第一抛光盘、第一交互杯、第二交互杯、第二抛光盘、第三交互杯;吊装至环形轨道的第一承载头、第二承载头和第三承载头,其能够独立沿环形轨道移动以与三个交互杯之一交互或在两个抛光...
  • 本发明公开了半导体零件的表面一致性处理方法及系统,涉及半导体制造技术领域。方法包括:上传抛光垫厚度、沟槽深度、研磨液pH值及磨料浓度,同步采集零件表面特征,设置抛光状态图谱;基于图谱结合精度需求生成补偿向量;依据补偿向量动态调整标准抛光路径...
  • 本申请公开了一种衬底减薄方法及相关装置,可用于半导体加工领域,该方法中,首先,开启线状激光,并聚焦于衬底表面;所述线状激光用于对衬底表面进行激光改质;而后,使主轴向承片台的方向进给,通过连接于主轴上旋转的砂轮,将位于旋转的承片台上的衬底磨削...
  • 本发明涉及一种改善抛光垫平坦度的方法、双面抛光设备,改善抛光垫平坦度的方法应用于双面抛光设备,所述双面抛光设备包括相对设置的上定盘和下定盘,所述上定盘朝向所述下定盘的一侧设置有上抛光垫,所述下定盘朝向所述上定盘的一侧设置有下抛光垫,所述上抛...
  • 本发明提供一种在晶片等工件的研磨中检查来自工件的反射光的光谱的方法和研磨装置。在本方法中,在工件(W)的研磨中的每个时间区间,从光学传感器头向工件(W)上的多个膜厚测定点照射光,生成来自多个膜厚测定点的反射光的多个测定光谱,计算多个测定光谱...
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