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  • 本发明提供一种板材表面抛光装置, 涉及抛光装置技术领域, 本实用包括连接箱, 所述连接箱的顶部固定连接有支撑板, 所述支撑板的顶部安装有电机, 所述支撑板的一侧转动插设有抛光辊, 所述电机和抛光辊通过轴承连接在一起, 所述连接箱的顶部开设有...
  • 本发明涉及模具加工技术领域, 尤其涉及一种模具生产用内孔抛光工装, 包括底座, 底座内转动连接设置有转动架, 转动架上方设置有储液座, 储液座内固定连接设置有过滤机构, 储液座内固定连接设置有压水座, 储液座内贯穿转动连接设置有抛光刷, 储...
  • 本发明涉及低温液体储存罐生产制造技术领域, 并具体公开了一种低温液体储存罐生产制造的罐体内壁抛光设备, 所述工作台侧面的中部固定连接有固定部件, 所述工作台远离固定部件的一侧固定连接有传动部件, 所述工作台顶部的一侧固定连接有抛光部件, 所...
  • 本发明公开了一种多孔陶瓷气泡增效化学辅助磁流变抛光装置及方法, 属于磁流变抛光加工技术领域, 包括底座, 所述底座上方设置有抛光盘组件和Z轴运动结构, 所述Z轴运动结构内侧设置有工件公转结构, 所述工件公转结构下方设置有工件自转结构, 所述...
  • 本发明公开了一种羽毛球拍加工用的毛边去除装置, 包括输送台、收纳仓、竖向导轨、去毛边仓和防尘顶壳, 本发明的在使用的过程中, 将外置挡壳安装在通槽区域用于阻隔磨料避免磨料体流出, 当拍杆受到驱动转动时会通过转动轴同步带动拍头同心转动, 由于...
  • 本发明公开了一种不锈钢人工关节抛光装置, 涉及抛光设备技术领域, 包括上约束件和下约束件, 上约束件和下约束件之间形成仿形流道, 仿形流道设置有进口端和出口端, 其用于磨粒流磨料的流通, 人工关节设置于仿形流道内;壳体, 其设置于上约束件和...
  • 本发明涉及大理石研磨技术领域, 尤其是精密量具大理石平台加工用表面研磨装置, 包括, 机床, 机床上安装有大理石研磨机本体, 大理石研磨机本体, 固定在大理石研磨机本体底部的支杆, 固定于大理石研磨机本体顶部的水箱, 水箱外表面安装有出水管...
  • 本发明公开了一种高稳定铁氧体磁芯自动化研磨设备, 属于用于磨削或抛光的机床、装置技术领域。该设备包括机罩、工作台、两个三轴位移机构、两个研磨机构、两个多联装夹持机构、除屑组件和双向压紧机构, 三轴位移机构带动研磨机构实现X、Y、Z轴方向的精...
  • 本发明涉及轴承陶瓷球加工设备领域, 具体地说, 涉及一种轴承陶瓷球加工用数控机床, 其包括机床本体, 机床本体包括底座, 底座的上端部设有安装板, 安装板处设有用于对轴承陶瓷球进行研磨的研磨机构;所述研磨机构包括转动设置于安装板处的下磨盘,...
  • 本发明涉及铌酸锂晶片技术领域, 具体涉及一种大尺寸铌酸锂晶片的减薄方法, 包括以下步骤:表面预处理:将大尺寸铌酸锂晶片浸没于混合酸液中浸泡处理, 浸泡完成后, 去除表面残留的酸液, 再真空干燥处理。本发明表面质量高, 通过表面预处理去除杂质...
  • 本发明涉及化学机械抛光技术领域, 具体公开了用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备。该承载头包括沿竖直方向延伸的面压气囊模块, 面压气囊模块包括面压弹性膜、修边支撑板和垫片, 垫片贴合于修边支撑板的底端, 面压弹性膜包裹修边支撑板和垫片...
  • 本发明公开了一种双面研磨机, 涉及研磨机技术领域, 包括, 机壳, 所述机壳的上方表面固定连接有支撑柱;识别装置, 所述识别装置设置在支撑柱的外侧表面, 用于实时识别材料的位置和角度;固定块, 所述固定块安装在支撑柱的上方表面, 用于对零件...
  • 本发明提供一种基板研磨装置和膜厚计算方法, 能够在基板的研磨中精度良好地测定研磨对象的膜厚。基板研磨装置具备:研磨台, 在该研磨台设置有涡流传感器, 且该研磨台构成为能够旋转;研磨头, 该研磨头与所述研磨台相对, 该研磨头构成为能够旋转, ...
  • 本申请提供一种晶圆定位装置及其晶圆研磨设备, 属于晶圆加工设备技术领域, 晶圆定位装置包括夹持定位系统、真空旋转载台系统、控制模块以及图像识别系统, 通过夹持定位系统、真空旋转载台系统、图像识别系统与控制模块的协同, 精准解决现有技术无法识...
  • 本发明提供立式清洗研磨装置, 涉及显示屏加工技术领域, 包括:第一安装座、立式安装组件、旋转装置以及研磨组件;所述立式安装组件设置在第一安装座上且包括用于定位装配显示屏的定位组件;旋转装置包括第一驱动组件, 设置在第一安装座的顶部且与第一安...
  • 该发明提供一种石英坩埚外表研磨机, 包括机架、驱动电机、旋转平台及手持式研磨装置, 旋转平台可自由转动的平行设置在机架上, 在旋转平台上方设置有喷淋头, 在旋转平台下方平行设置有用于集水的导流板, 驱动电机设置在导流板下方, 并与旋转平台轴...
  • 本申请提供一种夹持装置及研磨机台;夹持装置包括:驱动夹持装置抬升或下降的外部机构以及安装部、驱动部、转动部与夹持部;安装部连接至外部机构;夹持部包括至少三个周向分布的夹持元件;转动部被驱动部驱动旋转时, 带动夹持元件沿径向夹持或释放减薄晶圆...
  • 本申请公开了一种晶圆上料对准方法、装置、电子设备和存储介质。该晶圆上料对准方法包括:获取待检游星轮的当前检测图像, 基于当前检测图像确定当前定位标识的定位检测数据;获取示教游星轮的示教数据, 示教数据包括示教定位标识的第一位姿数据和多个示教...
  • 本发明提供一种晶圆膜厚测量方法、装置、设备及存储介质, 涉及半导体加工技术领域。该方法包括:实时采集待测晶圆的加工数据;其中, 所述加工数据包括加工参数及白光干涉光谱数据;对所述加工数据进行特征降维, 生成查询向量;根据所述查询向量在向量数...
  • 本申请公开了一种旋转机构和磨床, 属于磨机技术领域。旋转机构包括:固定台, 固定台上安装有圆弧导轨, 圆弧导轨包括沿弧状轨迹移动的第一活动端;转台, 转台和固定台通过定位轴转动连接;平移机构, 安装于固定台, 平移机构包括沿第一方向移动的第...
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