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  • 本发明涉及一种发光波长可调谐的快衰减氧化镓晶体及其制备方法与应用,该晶体为In、Si共掺氧化镓晶体,其化学组成表示为β‑Ga22O33 : xIn, ySi,其中,x=10 at%~30 at%,y=0.05at%~0.5 at%。与现有技...
  • 本发明涉及单晶硅生产技术领域,尤其涉及一种提升12寸重掺砷晶棒产量的拉晶方法,该方法使用12寸单晶炉拉制12寸重掺砷晶棒,且单晶炉内设置有32英寸的石英坩埚;该方法包括以下步骤:投料、熔化、引晶、放肩、等径及收尾;其中,在投料过程中,投入石...
  • 本发明提供了一种同步辐射用金刚石单色器制备方法,属于同步辐射光学元件制备技术领域,包括以下步骤:选取天然Ⅱa型金刚石或CVD金刚石为晶体坯料;对坯料激光切割,获得含第一、第二晶体的样品,二者晶体取向偏差<1′;对两晶体表面抛光,使表面粗糙度...
  • 本发明公开了一种单晶金刚石晶片的低损耗制备方法,包括以下步骤:A、对单晶金刚石晶锭的表面进行激光烧蚀;B、对表面进行激光辅助抛光;C、将超快脉冲激光调制成N个改质光斑,使所有改质光斑同时在对应的深度位置按照预设路径扫描,且同一改质光斑所形成...
  • 本发明公开了一种MXene抑制锡晶须生长的方法,包括以下步骤:(1)制备空位有序的i‑MXene;球磨Ti22SnC粉末;(2)将i‑MXene、Ti22SnC粉末和无铅锡基焊料粉末混合均匀,压制成块、打磨并保温。i‑MXene为Mo1.3...
  • 本申请公开了一种硅衬底上氮化铝的生长方法,该硅衬底上氮化铝的生长方法包括:提供硅衬底;在硅衬底上形成缓冲层;在硅衬底上生长氮化铝;其中,缓冲层位于硅衬底与氮化铝之间,缓冲层为单层碳化硅薄膜。缓冲层的制作方法包括:对硅衬底进行高温氢气退火;在...
  • 本申请提供了高质量增强型氮化镓外延片的制备方法,包括如下步骤:步骤1 : 提供氮化镓异质结外延结构;步骤2 : 在氮化镓异质结外延结构上采用脉冲式生长法制备氮化镓2D层,步骤3 : 在氮化镓2D层上制备P型氮化镓帽层;步骤4 : 在P型氮化...
  • 本申请公开了一种外延片生长的旋转石墨基座,包括底座,底座包括相对设置的第一面和第二面,第二面背向第一面延伸出第一台面,第一台面的背向第二面的一面面向第二面凹陷形成凹槽,凹槽用于生长外延片,第一面的中心开设有背向第二面贯穿的定位槽,定位槽被配...
  • 本发明公开了一种溅射外延装置,包括:真空腔室;溅射单元;衬底承载单元;以及抽真空系统;所述抽真空系统,包括主真空泵组、副真空泵组和真空管路;所述主真空泵组通过阀门与所述真空腔室相连;所述副真空泵组通过所述真空管路与所述真空腔室相连,所述真空...
  • 本申请公开了碳化硅晶体的生长系统以及籽晶固定和晶体生长的方法。该生长系统包括热场装置,热场装置包括:籽晶固定件、导流筒、外环件、坩埚和石墨纸,导流筒和外环件设置在籽晶固定件的下侧;坩埚设置在导流筒的下方,石墨纸设置在坩埚和导流筒之间,且石墨...
  • 本发明属于氮化物晶体生长技术领域,具体涉及一种氮化物籽晶的培育方法,将AlN烧结体粉末置于坩埚的底端,然后于AlN烧结体粉末的上方设置导流罩,在导流罩上方依次设置底钨环,底钨环上方设置中钨环,将底部粘接AlN籽晶的籽晶托架设在中钨环上,再于...
  • 本发明公开了一种在二氧化钛表面低温制备四方相钛酸钡外延层的方法,制备过程为:对钛基体进行预处理后得到表面生长有二氧化钛层的钛基体,将钡盐、碱溶于水中,得到反应前驱液,将上述钛基体放入反应前驱液中,水热反应后在钛基体表面的二氧化钛层上,通过晶...
  • 本发明公开一种泡生法制备高强度蓝宝石晶体的生长方法,属于人工晶体生长技术领域。本发明通过优化泡生法生长工艺以显著提升蓝宝石单晶机械强度与抗损伤性能。特别涉及通过调控生长过程中的热场分布、界面应力状态及缺陷演化行为,获得具有高抗弯强度、高断裂...
  • 本发明公开抑制氧化镓单晶生长中坩埚氧化和原料分解的装置及方法,装置包括炉体、铱金坩埚、保温层、感应线圈和提拉机构等,在所述铱金坩埚与所述保温层之间设有温度动态调控系统,所述温度动态调控系统用于实时监测所述铱金坩埚以及所述内腔的温度分布,并通...
  • 本发明公开了一种液相法碳化硅晶体生长装置,包括内部有保温腔的保温组件、固定于保温腔内的坩埚、与坩埚适配的测温仪和加热组件;坩埚内有生长腔,保温组件顶部贯穿有籽晶杆,籽晶杆与坩埚同轴且籽晶杆的轴线沿竖直方向延伸,籽晶杆底端联动设置有承载碳化硅...
  • 本发明提供一种基于自适应调控的单晶炉拉晶收尾参数控制方法及系统,包括通过分布式传感器网络和加工设备接口,采集收尾起始点的生产数据和参数数据并进行处理后,得到晶体当前的状态数据;对晶体当期的状态数据执行相似度比对获得收尾阶段的初始工艺参数,基...
  • 一种大尺寸超低氧单晶硅的制备方法,涉及超低氧单晶硅拉制技术领域,包括化料工序,化料完成后,打开CUSP勾型磁场,控制晶转方向和埚转方向相同,拉制超低氧单晶硅,在化料完成后、拉制超低氧单晶前,关闭CUSP勾型磁场,控制晶转的方向和埚转的方向相...
  • 本发明涉及一种磁屏蔽装置和硅单晶拉晶炉,磁屏蔽装置应用于具有水平磁场发生装置的硅单晶拉晶炉,水平磁场发生装置被配置为使其最大高斯面位于熔体自由液面之上,磁屏蔽装置包括磁屏蔽组件,磁屏蔽组件设于晶体生长区域的外周;磁屏蔽组件包括至少一个磁屏蔽...
  • 本申请公开了一种单晶炉用加热器及单晶炉,属于单晶制造技术领域。所述单晶炉用加热器包括加热圈,所述加热圈包括第一加热部和第二加热部,所述第一加热部和所述第二加热部相对间隔设置,所述第一加热部和所述第二加热部围合形成环状结构的所述加热圈;支撑脚...
  • 本发明公开了一种具备水冷下轴升降旋转机构的单晶炉,包括坩埚轴和石墨托杆,所述坩埚轴和石墨托杆内部中空,所述水冷下轴升降旋转机构包括水冷芯管、水冷旋转接头和升降驱动装置,所述水冷芯管设置于坩埚轴和石墨托杆内部,坩埚轴和石墨托杆通过连接件固定连...
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