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  • 本公开内容涉及显示装置和用于显示装置的母基板。根据本公开内容的一方面,显示装置包括基板、设置在基板上的一个或更多个像素驱动电路、电连接至像素驱动电路的多个微LED、以及电连接至多个微LED和像素驱动电路的多个第一电极。多个第一电极中的每一个...
  • 提供了一种显示装置。该显示装置包括:基板;多个像素驱动电路,设置在基板上;多个绝缘层,设置在多个像素驱动电路上;多个堤部,设置在多个绝缘层上;多个微LED,设置在多个堤部上并且电连接到多个像素驱动电路中的每一个;以及坝部,与多个像素驱动电路...
  • 根据本公开的一个实施方式的显示装置可以包括:基板,其上限定有包括多个主子像素的多个像素;多个冗余子像素,其设置在多个主子像素之间;一个或更多个像素驱动电路,其设置在基板上;多个主微LED,其设置在多个主子像素中并且电连接到像素驱动电路;以及...
  • 本申请提出一种在硅衬底上的LED发光阵列及其制备方法,包括LED阵列芯片、倒装衬底、硅墙以及色转换层;所述LED阵列芯片键合在所述倒装衬底上;所述硅墙分布于LED阵列芯片的出光面,相邻的LED芯片被硅墙隔开;所述色转换层位于硅墙围的成空间内...
  • 本发明实施例公开了一种微显示单元及其制备方法、显示装置,通过设置位于欧姆接触单元远离发光单元一侧的刻蚀阻挡层,并设置刻蚀阻挡层在发光单元上的正投影与欧姆接触单元部分交叠,且刻蚀阻挡层的刻蚀速率小于发光单元的刻蚀速率,使得存在过刻的情况下,即...
  • 本发明公开了一种RGB三色偏振Micro‑LED显示器件及其制备方法,其Micro‑LED显示器件包括CMOS晶圆、红光晶圆、绿光晶圆和蓝光晶圆,红光晶圆包括第一衬底和红光外延层,绿光晶圆包括第二衬底和绿光外延层,蓝光晶圆包括第三衬底和蓝光...
  • 本公开提供了一种显示面板及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该显示面板包括:承载基板、第一外延层和第二外延层;所述承载基板具有显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域,所述第一外延层位于所述显示区域,所述第二外延层位于所述非显示区域,所述第...
  • 在本公开中,公开了一种显示面板。根据本公开的实施方式的显示面板可以包括:第一‑第一连接线;布置在第一‑第一连接线上的第一‑第二连接线;布置在第一‑第一连接线上的第一无机层;布置在第一‑第二连接线上的第一‑第三连接线;布置在第一‑第三连接线上...
  • 提供了一种显示设备。显示设备包括:基板;设置在所述基板上的像素驱动电路;设置在所述像素驱动电路上的多个绝缘层;设置在所述多个绝缘层上的隔堤;多个微型LED,所述多个微型LED设置在所述隔堤上,并且电连接到所述像素驱动电路;所述漫射层设置在所...
  • 显示装置包括:显示面板,该显示面板包括显示区域和非显示区域,该非显示区域具有与显示区域相邻的第一非显示区域和与第一非显示区域相邻的弯曲区域;偏振层,该偏振层设置在显示面板上并且在与弯曲区域相邻的位置处具有限定在该偏振层中的凹口;以及微涂覆层...
  • 本公开内容涉及显示装置。该显示装置包括:基板;设置在基板上的绝缘层;设置在绝缘层上的第一电极;设置在第一电极上的堤;以及设置在堤上并且经由堤电连接至第一电极的发光元件。
  • 提供了一种显示设备。根据本公开的一个方面,一种显示设备包括:基板,所述基板中限定有多个第一像素和多个第二像素;设置在所述基板上的一个或更多个像素驱动电路;以及多个微型LED,所述多个微型LED设置在所述多个第一像素和所述多个第二像素中并与所...
  • 根据本公开内容的一个方面,显示装置包括:基板,基板包括有源区域和从有源区域延伸的非有源区域,在有源区域中限定有多个像素;设置在有源区域中的一个或更多个像素驱动电路;多个微型LED,多个微型LED设置在多个像素中并且电连接至像素驱动电路;多条...
  • 本申请公开了一种微发光元件及其制备方法,微发光元件包括驱动基板;第一键合层,设置于驱动基板之上,第一键合层包括图案化的金属层和设置在金属层之间的绝缘层;若干个LED单元,每个LED单元包括:部分第二键合层,设置于所述第一键合层之上,所述相邻...
  • 本申请公开了一种微发光元件及其制备方法,包括:驱动基板;第一键合层,设置于驱动基板之上,第一键合层包括按照一定间隔排列的金属层和设置在所述金属层之间的绝缘层;第二键合层;设置于第一键合层之上,包括介质层和若干通孔,若干通孔贯穿介质层,通孔中...
  • 本申请适用于显示技术领域,提供了LED显示面板及其制备方法,包括:通过在印刷电路基板的表面设置铜皮层的基础上,在铜皮层表面设置反光镀层,以形成反光区域,并将LED光源组件焊接在反光镀层的表面,使得LED光源组件发光时,LED光源组件发射的光...
  • 本申请涉及一种侧面走线的制备方法和显示面板,方法包括:形成遮挡层;遮挡层包括子遮挡层和干膜光刻胶薄膜层;子遮挡层位于目标表面一侧且位于显示区,并从显示区向非显示区延伸至部分非显示区;干膜光刻胶薄膜层位于目标表面一侧且位于非显示区,干膜光刻胶...
  • 本申请涉及一种侧面走线的制备方法和显示面板,方法包括:形成遮挡层;遮挡层包括第一子遮挡层和第二子遮挡层;第一子遮挡层位于目标表面一侧且位于显示区,并从显示区向非显示区延伸至搭接面的边缘处;第二子遮挡层位于第一子遮挡层背离基板的一侧,且位于非...
  • 本发明涉及MicroLED微显示技术领域,具体提供了一种降低MicroLED显示屏IR Drop占用的排线方法,包括划分像素组,每个像素组共用一个阴极Bump,设置网状结构走线,形成闭合导电网络,键合像素组的阴极Bump与驱动芯片网状结构走...
  • 本申请实施例提供一种LED器件及其制作方法与显示装置,该LED器件包括:LED芯片、阻挡坝、色转层和封装层,LED芯片包括发光本体和位于发光本体一侧的第一电极和第二电极:阻挡坝与第一电极和第二电极同侧设置,且位于第一电极和第二电极之间,阻挡...
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