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最新专利技术
  • 托盘组件及化学气相沉积装置
    托盘组件及化学气相沉积装置_中微半导体设备(上海)股份有限公司_202411410491.7
    本发明公开了一种托盘组件及化学气相沉积装置，化学气相沉积装置内设置有托盘旋转机构，托盘组件设置在托盘旋转机构上，托盘组件上方还设置有进气机构，进气机构提供的工艺气体从托盘组件的中心向边缘水平流动，托盘组件包括：托盘；多个基片槽，基片槽分布在...
    2026-04-18
  • 石墨盘以及金属有机化合物化学气相沉淀设备
    石墨盘以及金属有机化合物化学气相沉淀设备_京东方华灿光电(广东)有限公司_202511840454.4
    本公开提供了一种石墨盘以及金属有机化合物化学气相沉淀设备，属于半导体技术领域。所述石墨盘包括盘体以及围绕所述盘体的中心布置的多个晶圆槽；所述盘体具有相对设置的第一表面和第二表面，每个所述晶圆槽的开口均位于所述第一表面；所述多个晶圆槽中的第一...
    2026-04-18
  • 支撑装置及薄膜沉积设备
    支撑装置及薄膜沉积设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202511902345.0
    本申请提供了一种支撑装置及薄膜沉积设备，该支撑装置包括：支撑轴；加热机构，加热机构设置于支撑轴；基座，基座设置于加热机构背离支撑轴的一侧，基座在第一方向上具有相互背离的第一端面和第二端面，第一端面设置有第一凸起结构或第一凹槽结构，和/或第二...
    2026-04-18
  • 承载销组件及沉积设备
    承载销组件及沉积设备_江苏首芯半导体科技有限公司_202511913513.6
    本公开实施例涉及半导体制造领域，提供一种承载销组件及沉积设备，至少可以改善半导体制造过程中由于高温导致的热膨胀角度偏移问题。承载销组件包括：杆体；配重块，所述杆体的一端穿过所述配重块；补偿结构，所述补偿结构位于所述配重块与所述杆体之间；其中...
    2026-04-18
  • 纳米类金刚石薄膜血管支架及其制备方法
    纳米类金刚石薄膜血管支架及其制备方法_内蒙古工业大学_202310516778.7
    本发明涉及医疗器械领域，具体涉及一种纳米类金刚石薄膜血管支架及其制备方法，包括以下步骤：首先对基材进行预处理，然后采用等离子增强化学气相沉积技术制备纳米类金刚石薄膜支架，将设备反应室调至真空状态后，在氩气保护下，将苯输入直流电弧放电等离子体...
    2026-04-18
  • 一种用于电场均衡的调节装置
    一种用于电场均衡的调节装置_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511947117.5
    本申请涉及一种用于电场均衡的调节装置，该调节装置包括：反应腔体、阻抗调节器、多个电极站及升降机构；所述阻抗调节器采用具有导电弹性材料制成，设置在所述反应腔体的几何中心且接地；每个电极站包括下电极和上电极，所述下电极围绕所述阻抗调节器布置于所...
    2026-04-18
  • 循环化学气相沉积方法和循环化学气相沉积装置
    循环化学气相沉积方法和循环化学气相沉积装置_盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司_202512032341.8
    本发明涉及一种循环化学气相沉积方法和循环化学气相沉积装置，该方法包括如下步骤：步骤1，向工艺腔室内注入工艺气体和反应气体；步骤2，一边注入所述工艺气体和所述反应气体，一边施加等离子体；步骤3，一边注入所述反应气体，一边施加等离子体；以及步骤...
    2026-04-18
  • 加热盘机构及薄膜沉积设备
    加热盘机构及薄膜沉积设备_江苏微导纳米科技股份有限公司_202511948067.2
    本申请提供了一种加热盘机构及薄膜沉积设备，包括：滑环组件，滑环组件包括转子和定子，转子和定子转动配合；加热盘，加热盘包括盘柄和盘体，盘体通过盘柄连接至转子；连接柱组件，连接柱组件包括第一电连接柱和第二电连接柱，第一电连接柱设置于定子，第二电...
    2026-04-18
  • 一种化学气相沉积方法
    一种化学气相沉积方法_安徽长飞先进半导体股份有限公司_202610094534.8
    本申请实施例公开一种化学气相沉积方法，该化学气相沉积方法包括：提供化学气相沉积装置，化学气相沉积装置包括腔体和射频信号源，射频信号源位于腔体外，腔体设置有射频信号输入端；射频信号源用于通过射频信号输入端向腔体内提供射频信号；提供半导体本体，...
    2026-04-18
  • 一种双面超导带材制备装置
    一种双面超导带材制备装置_松山湖材料实验室_202512024194.X
    本发明属于超导带材技术领域，公开了双面超导带材制备装置，包括反应箱、传送单元、喷淋单元和加热单元，传送单元用于沿第一方向传送基带，基带沿第一方向可活动地穿设反应箱，喷淋单元设置于反应箱内，并能向反应箱内的基带的第一表面和第二表面喷淋有机源颗...
    2026-04-18
  • 一种加热器失效防护检测方法和系统
    一种加热器失效防护检测方法和系统_嘉际环控(西安)科技有限公司_202610312656.X
    本申请公开了一种加热器失效防护检测方法和系统，属于伺服控制技术领域。其主要包括：在将薄膜沉积设备从维护模式切换至标准模式时，将加热器运行到原点；以预定的速度将加热器从原点向下限位传感器方向运行，并获取下限位传感器的触发信号，以及记录触发信号...
    2026-04-18
  • 一种制备石墨烯薄膜的设备和方法
    一种制备石墨烯薄膜的设备和方法_万华化学集团股份有限公司_202511810530.7
    本申请实施例提供一种制备石墨烯薄膜的设备和方法。涉及石墨烯制备技术领域。制备石墨烯薄膜的设备，包括承载组件、机体、真空组件、输送组件和多个启闭组件，承载组件包括铜箔和载板，铜箔设置在载板上；机体内设置有连通的预处理腔、镀膜腔和冷却腔，预处理...
    2026-04-18
  • 半导体器件及其制备方法
    半导体器件及其制备方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202610037595.0
    本发明提供一种半导体器件及其制备方法。其中，所述制备方法在形成第一金属层的过程中，采用一遮挡环沿Taiko环的周围遮蔽Taiko环的部分顶表面，从而使得遮挡环遮蔽下的Taiko环的部分顶表面不会被金属溅射到，则不会被第一金属层覆盖。即，Ta...
    2026-04-18
  • 一种活性位点预还原工艺高效制备金属包覆陶瓷粉体的方法
    一种活性位点预还原工艺高效制备金属包覆陶瓷粉体的方法_中国计量大学_202610005401.9
    本发明公开了一种活性位点预还原工艺高效制备金属包覆陶瓷粉体的方法，属于粉末冶金技术领域。本发明通过在化学镀前对活化后陶瓷粉末表面的氧化活性位点进行预还原处理，显著提升了后续金属包覆陶瓷粉体的制备效率。相较于活化后直接化学镀的工艺，该预还原步...
    2026-04-18
  • 一种镁合金高磷化学镀镍工艺
    一种镁合金高磷化学镀镍工艺_三合镁(深圳)科技有限公司_202610058206.2
    本发明涉及合金技术领域，具体涉及一种镁合金高磷化学镀镍工艺。该工艺依次包括碱性除油、第一段活化、钙离子桥联、锆离子固化及化学镀镍步骤。其中，第一段活化液含磷酸氢二铵、氟化钠及定向疏水化羟基乙叉二膦酸衍生物；化学镀镍液含硫酸镍、乳酸、丁二酸、...
    2026-04-18
  • 一种高精度银电极微米级图形化方法
    一种高精度银电极微米级图形化方法_中国科学院上海微系统与信息技术研究所_202511842832.2
    本发明涉及一种高精度银电极微米级图形化方法，主要包括通过分子气相沉积法在经过预处理的基底表面制备疏水分子膜，经紫外臭氧光刻实现分子膜图案化，再利用银镜反应在图案区域精准沉积银电极，从而达成流程简化环保、设备成本低、加工效率高、精度优且材料适...
    2026-04-18
  • 一种铜泡沫表面涂层及其制备方法和应用
    一种铜泡沫表面涂层及其制备方法和应用_扬州大学_202610051224.8
    本发明属于复合涂层技术领域，具体涉及一种铜泡沫表面涂层及其制备方法和应用。所述制备方法为：将预处理后的铜泡沫浸泡在去离子水、氢氧化钠和过硫酸铵组成的混合溶液中进行活化，得到活化后的铜泡沫；将活化后的铜泡沫浸入均苯三甲酸溶液中，在铜泡沫表面得...
    2026-04-18
  • 一种金属钝化剂及其制备方法和应用
    一种金属钝化剂及其制备方法和应用_广东凯盟钝化防锈技术有限公司_202511963695.8
    本发明属于金属钝化技术领域，特别涉及一种金属钝化剂及其制备方法和应用。本发明的金属钝化剂包括硫醇类缓蚀剂、非离子表面活性剂、硫‑氮杂环类缓蚀剂、有机膦酸类阻垢缓蚀剂。本发明通过硫醇类缓蚀剂、非离子表面活性剂、硫‑氮杂环类缓蚀剂、有机膦酸类阻...
    2026-04-18
  • 一种钛合金均温板表面处理方法
    一种钛合金均温板表面处理方法_苏州天脉导热科技股份有限公司_202610094402.5
    本发明公开了一种钛合金均温板表面处理方法，属于金属表面处理技术领域。该方法包括除油、钛抛光、多次清洗与超声波清洗、两次钝化及烘干步骤，其核心在于采用不含氢氟酸与硝酸的环保型弱酸抛光液进行温和抛光，并通过第一、第二钝化液依次处理的两次钝化工艺...
    2026-04-18
  • 一种铝型材在静电粉末喷涂前的表面处理及纯水洗工艺
    一种铝型材在静电粉末喷涂前的表面处理及纯水洗工艺_山东沃伦门窗有限公司_202610306503.4
    本发明属于型材表面处理技术领域，具体涉及一种铝型材在静电粉末喷涂前的表面处理及纯水洗工艺，所述工艺包括脱脂、一级水洗、二级水洗、钝化、循环纯水洗和紫外处理。本发明通过在钝化液中加入修复剂肉桂酸巯基乙醇酯，促进剂硝酸铈铵具有氧化作用，将修复剂...
    2026-04-18
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