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  • 本发明公开了一种内嵌式玻璃基板的制作方法,包括以下步骤:取一BT基板作为基材层;在基材层上开设若干个贯穿腔体;在基材层的底面上贴附一层PET膜;使用贴片机将玻璃基材放入至贯穿腔体中;在玻璃基材与贯穿腔体之间的缝隙中填充塞孔剂,固化形成保护层...
  • 本发明公开的是陶瓷载板生产技术领域的一种超低粗糙度的AMB陶瓷载板的制造方法。对完成铜图形蚀刻的AMB陶瓷基板进行如下操作,S1.掩膜图形 : 采用干膜光刻工艺,感应光膜经曝光显影后在原图形上形成掩膜图形,遮盖非芯片焊接区,露出芯片焊接区;...
  • 本发明提供一种TGV玻璃基板及其限位生长工艺。该限位生长工艺包括以下步骤:提供玻璃基板,玻璃基板具有相对的正面和背面;玻璃基板上开设有若干个玻璃通孔;在玻璃基板的背面压合金属箔,形成玻璃通孔的限位基底,然后在玻璃通孔内限位生长金属柱,并在玻...
  • 本发明公开了一种基于大尺寸玻璃基载板的板级芯片封装方法,所述方法包括:制备带上下对位靶点图形的玻璃基载板;涂覆光解键合胶形成临时键合层,将焊盘朝上的芯片键合形成临时键合体;塑封形成塑封层,基于靶点图形定位制备贯穿塑封层的金属化孔;紫外光解键...
  • 本申请涉及一种玻璃基封装载板的制作方法和玻璃基封装载板,制作方法包括:提供临时载板和设于临时载板上的生长模板,生长模板上开设有贯穿至临时载板表面的生长通孔,临时载板位于生长通孔内的表面上设置有导电金属基底;采用电镀法对生长通孔进行金属填充,...
  • 本发明公开了一种基于铝垫直接化学镀重布线层的制作方法,涉及半导体加工技术领域,包括以下步骤,晶圆清洗、光阻涂布、PAB软烘烤、RDL曝光、显影、Descum处理、活化处理、RDL化镀以及光阻去除;本发明摒弃了传统半导体封装中必需的、昂贵且复...
  • 本发明公开一种多颗芯片堆叠扇出封装结构及其封装方法,该方法包括:提供一基板和至少两颗不同尺寸大小的芯片,基板具有相对的第一表面和第二表面;将最大尺寸的第一芯片功能面朝上,贴装于基板的第一表面;将尺寸小于第一芯片,且贴装后不影响第一芯片焊盘引...
  • 本发明公开了一种集成散热结构的芯片扇出封装及其封装方法,该方法包括:提供一散热基板,散热基板具有第一表面和第二表面;提供一芯片,将芯片的功能面向上贴装于散热基板的第一表面;在芯片的功能面和第一表面上覆盖塑封层,塑封层为树脂或胶和无机物形成的...
  • 本发明公开一种多颗芯片扇出封装结构及其封装方法,该方法包括:提供一基板和至少两个不同厚度的芯片;在基板的第一表面上制作底垫;将最厚芯片贴装于第一表面;将薄芯片贴装于其对应的底垫上;对基板上的芯片进行塑封形成塑封层,塑封层为树脂或胶和无机物形...
  • 本发明公开一种多芯片扇出封装结构及其封装方法,该方法包括:提供一基板;提供至少两个不同厚度的芯片,并将各芯片的功能面朝上贴装于基板的第一表面;在芯片的功能面上和第一表面上覆盖塑封层,塑封层为树脂或胶和无机物形成的混合材料膜层;采用激光加工的...
  • 本公开关于一种功率模块,设置于主板,且主板包含金属面,其中功率模块包含功率器件、第一焊锡层、第二焊锡层及导接部件,功率器件包含第一面、第二面、源极、栅极及漏极,第一面及第二面相对设置,源极及栅极设置于第一面,漏极设置于第二面,第一焊锡层贴合...
  • 一种半导体器件包括第一管芯焊盘,所述第一管芯焊盘包括第一安装表面和相对于所述第一安装表面升高的第一升高部分。第一半导体芯片安装在所述第一安装表面上。所述半导体器件还包括第二管芯焊盘,所述第二管芯焊盘包括第二安装表面。第二半导体芯片安装在所述...
  • 本发明公开了一种防水效果好的电源IC,属于电源管理集成电路技术领域,包括封装壳体、芯片、引脚和防水组件,所述芯片设置于封装壳体内,所述引脚一端与芯片电连接,另一端伸出封装壳体,所述防水组件包括覆盖于芯片表面的复合钝化层,复合钝化层由氧化硅层...
  • 本发明公开了一种光电共封装结构及其制备方法,所述光电共封装结构包括光波导放大器、光纤连接器、LED垂直泵浦阵列、电子集成芯片、光子集成芯片和倏逝波层间耦合结构;芯片之间通过TGV、RDL等电互连结构实现电信号传输;其中,光波导放大器与光子集...
  • 本发明提供了一种芯片埋入式硅转接板的封装方法,其用于解决现有技术封装中热膨胀系数失配、封装翘曲过大的问题。其通过在硅转接板内部蚀刻形成凹槽,凹槽用于内嵌元件,随后通过硅通孔的垂直互连结构实现硅转接板的上/下表面与嵌入式元件的电气连接。
  • 本发明涉及半导体技术领域,具体地说是一种非对称玻璃基板的制作结构及其方法,利用玻璃胶层固定TGV打孔后的玻璃芯层,采用双面化镀以及电镀填孔有效的提升了电镀效率,同时做到两面电镀面积平衡可以有效提升玻璃面的镀铜均匀性以及玻璃孔的填孔均匀性。同...
  • 本发明公开了一种高密度封装的TGV梯度材料填充互连结构及其填充方法,涉及半导体封装技术领域。TGV梯度材料填充互连结构包括位于玻璃基板上的玻璃通孔,玻璃通孔内部填充有导电金属主体;玻璃通孔的内壁与导电金属主体之间依次设有微纳锚钉结构层、分子...
  • 本发明涉及一种具有中介层的封装结构及其形成方法。所述具有中介层的封装结构包括:中介层,包括沿第一方向相对分布的上表面和下表面;绝缘填充层,覆盖于中介层的侧壁上;第一通孔互连结构,位于绝缘填充层内;上布线层,连续分布于中介层的上表面上和绝缘填...
  • 本公开涉及半导体封装、封装半导体裸片的方法及具有扩展高带宽存储器偏移的中介层。一种半导体封装包含中介层、若干第一集成电路IC裸片、一或多个第二IC裸片,及一或多个虚拟裸片。所述第一IC裸片、所述第二IC裸片及所述虚拟裸片在所述中介层上实施。...
  • 本申请提供了一种半导体结构及其形成方法;其中,半导体结构,包括:基底、第一芯片、保护结构和隔离结构,基底包括键合区域,以及环绕所述键合区域的外围区域;第一芯片位于所述基底表面、且与所述键合区域相键合;保护结构环绕所述第一芯片的侧壁;所述保护...
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