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  • 本发明公开一种用于角膜塑形镜生产加工的边缘抛光装置,涉及抛光机技术领域,旨在解决角膜塑形镜在抛光过程中,现有的机械夹持方式会对镜片造成损害,以及抛光时产生的碎屑无法收集处理的问题,包括底座和固定架,所述固定架上设有上压盘,所述底座上设有下压...
  • 本发明涉及研磨机技术领域,且公开了一种基于智能制造的铁路车辆制动阀研磨机,包括支撑架,所述支撑架的顶部固定连接有U形架,所述U形架的内壁转动连接有输出轴,所述输出轴的内壁固定连接有转动板,所述转动板的内壁转动连接有转轴杆,所述U形架的内壁固...
  • 本发明属于金属盖加工技术领域,尤其涉及一种金属盖的表面拉丝装置及其使用方法,拉丝装置包括:拉丝机构,机架,补料轨道,加工轨道,上料挡杆,下料挡杆以及两组驱动机构;与现有技术相比,本发明实现了从自动上料、精确定位、拉丝加工到自动下料的完整流程...
  • 本发明公开了一种钻夹头爪夹的加工磨削装置,包括:底部外壳、控制器、顶部外壳、搬运机构、清洁机构、清洁液供给系统、接引系统、转动台、第一转动模块和工件固定模块;搬运机构设置在所述底部外壳的顶端右侧;清洁机构设置在所述底部外壳的顶端且位于搬运机...
  • 本发明涉及冷磨加工技术领域,尤其涉及一种无人机材料用冷磨加工台,所述一种无人机材料用冷磨加工台,包括,机台和回收机构,机台,所述机台顶部固定连接有冷磨工作台;回收机构,所述冷磨工作台底部安装有回收机构,所述回收机构能够利用刮板快速将储存箱内...
  • 本发明涉及钢丝抛光技术领域,本发明提供了一种钢丝抛光装置,包括固定框架,还包括第一盖板、第二盖板、支撑柱、第一抛光机构、辅助抛光机构、吸尘机构以及收卷架,固定框架的两端通过螺栓分别固定设置有第一盖板以及第二盖板,第一盖板以及第二盖板上开设有...
  • 本发明公开了一种附带高效清洁功能的轴承打磨装置,涉及打磨装置技术领域。包括机架,机架一侧安装有进料组件,机架上安装有输送线,输送线上承载有待打磨的轴承,输送线上方安装有打磨组件,输送线下方依次安装有清洁组件和碎屑分离组件;清洁组件包括收集箱...
  • 本发明公开了一种无缝钢管轻加工用表面处理装置及其方法,涉及钢管磨削抛光技术领域。本发明包括固定设置的调控支撑组件,调控支撑组件上表面对称设置有两限位旋转组件,调控支撑组件上表面滑动设置有磨削抛光组件,磨削抛光组件位于两限位旋转组件之间。本发...
  • 本发明公开了一种保护零件基体的焊瘤打磨工具及其组装方法,属于机械打磨抛光技术领域。焊瘤打磨工具包括砂带机主体,所述砂带机主体包括支撑臂,支撑臂上设置有驱动电机,所述支撑臂和驱动电机上活动支撑有砂带;所述支撑臂的工作端设置有保护装置,所述保护...
  • 本发明公开了一种用于碳化硅晶片的抛光设备,涉及晶片抛光装置的技术领域,包括工作台和转动架,所述转动架与工作台旋转配合连接,所述工作台的顶部设置有呈环形阵列分布的上料工位、抛光工位、清洁工位和下料工位,且所述抛光工位和清洁工位均设置有两组,分...
  • 本发明公开了一种多孔聚合物保持架兜孔抛光装置及方法,其包括操作台,操作台的下端设置有控制箱,储存箱内设置有抛光液的温控系统;操作台的上端设置有三轴丝杠模组,三轴丝杠模组上设置有抛光组件;抛光组件的下方设置有夹持PPI保持架的装夹组件;储存箱...
  • 本发明涉及金属工件加工技术领域,公开了一种可实现高平整度与可控粗糙度的金属工件精密抛光设备,包括机体,所述机体的内侧安装有夹持翻转机构,所述夹持翻转机构用于在工件抛光过程中对工件进行定位,并在抛光后自动将工件翻面再次进行定位抛光,所述夹持翻...
  • 本发明公开了一种用于不锈钢零件加工的抛光定位装置,属于不锈钢制品加工技术领域。该装置包括底座、纵向滑台、横向滑台、承托平台、夹持组件及抛光组件。纵向滑台通过第一电机驱动沿底座纵向移动;横向滑台通过第二电机驱动沿纵向滑台横向移动;承托平台设于...
  • 本发明涉及抛光设备技术领域,本发明公开了一种医用导丝抛光设备,包括外壳、装卸口、主轴支撑架和多工位支架,主轴支撑架设置在外壳内部两侧,主轴支撑架共同旋转设置换位主轴,换位主轴上固定安装有多个多工位支架,装卸口设置在外壳侧壁,多工位支架设置有...
  • 本发明公开了一种全自动研磨机,包括工作台,还包括:驱动模块,所述驱动模块设置于工作台上;连接机构,所述驱动模块的外壁通过连接机构设置有研磨盘;支撑机构,所述支撑机构设置于工作台的外壁;其中,所述连接机构包括安装块,所述安装块的内壁通过弹性件...
  • 本发明提供一种晶圆抛光方法、抛光单元和处理设备,晶圆抛光方法包括:以预定工艺配方抛光晶圆;从多个抛光液供应位置中,确定抛光液流量与目标分区材料去除率为正相关关系的目标抛光液供应位置;检测目标分区的区内晶圆厚度差;比较区内晶圆厚度差与第一阈值...
  • 本发明的用于混合键合的化学机械抛光方法首先在第一抛光盘上对晶圆的表面进行第一抛光,直至去除晶圆的介质层表面的铜层。然后在第一抛光盘上对晶圆的介质层中的铜柱进行第二抛光,控制铜柱表面低于介质层表面且铜柱表面与介质层表面的第一高度差d11介于5...
  • 本发明提供一种适用于12英寸大硅片双面抛光的游星轮及其制造方法,包括内衬,工件孔的内侧壁上设有凹槽,内衬设置在所述工件孔的内侧壁上,所述轮盘本体采用马氏体不锈钢为基体,在基体双向表面设置有Si a‑C : H 涂层,其工艺在于,S1、对基体...
  • 本发明公开了一种水晶平面磨抛机用进料机构,包括机架,机架上设有带模孔的模板;设于模板下方的顶料机构,顶料机构包括若干顶料杆;设于机架一侧的上料机构,包括倾斜设置的料台,料台表面设有若干进料槽,进料槽的端部连通所述模孔,料台还设有可往复滑动的...
  • 本发明提供一种基于小孔节流的精密气浮主轴,包括缸筒、壳体、转轴、前后径向气浮轴承、前后轴向止推气浮轴承、驱动电机、拉刀机构及多种传感器;缸筒外圆设往复式螺旋凹槽与壳体形成螺旋冷却水路,后端盖集成进气、排气、冷却水及气控接口;压缩气体经轴向气...
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