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最新专利技术
  • 一种投影屏幕和投影系统
    一种投影屏幕和投影系统_青岛海信激光显示股份有限公司_202410804940.X
    本发明公开了一种投影屏幕和投影系统，包括：表面功能层、菲涅尔透镜层和位于菲涅尔透镜层的透镜单元表面上的共振层，共振层采用单层薄膜，可以对投影设备出射的投影光线进行选择性反射，而对其它波段的光线反射率大幅降低，由此可以显著提高投影图像的对比度...
    2026-02-02
  • 一种用于光学相机成像的靶标电动三维调节装置及方法
    一种用于光学相机成像的靶标电动三维调节装置及方法_长光卫星技术股份有限公司_202511446608.1
    本发明提供了一种用于光学相机成像的靶标电动三维调节装置及方法，涉及空间遥感相机的自动化生产装配技术领域，调节装置包括安装底座、轴向动力单元、移动滑盘、位置反馈单元、滚转动力单元、滚转滑环、齿轮三、齿轮五、齿轮六和靶标，通过轴向动力单元驱动移...
    2026-02-02
  • 一种霉变黑白照相底片霉斑掩蔽及影像恢复方法和应用
    一种霉变黑白照相底片霉斑掩蔽及影像恢复方法和应用_陕西师范大学_202511313276.X
    本发明属于档案修复保护技术领域，涉及一种霉变黑白照相底片霉斑掩蔽及影像恢复方法和应用，包括以下步骤：S1、对霉变黑白照相底片进行吹尘、清洗和晾干预处理；S2、将预处理后的霉变黑白照相底片铺在玻璃板上，然后将甲基硅油滴在霉变黑白照相底片的一侧...
    2026-02-02
  • 反射型掩模坯料及其制造方法以及反射型掩模坯料关联基板的检查方法
    反射型掩模坯料及其制造方法以及反射型掩模坯料关联基板的检查方法_信越化学工业株式会社_202510807836.0
    本发明提供一种能够在不将缺陷误检测为基准标记的情况下可靠地检测基准标记的反射型掩模坯料及其制造方法以及反射型掩模坯料关联基板的检查方法。一种反射型掩模坯料，至少具备：基板；多层反射膜，其设置在该基板上，反射曝光光；以及吸收体膜，其设置在该多...
    2026-02-02
  • 版图形成方法、掩膜版组和半导体器件的制备方法
    版图形成方法、掩膜版组和半导体器件的制备方法_北京超弦存储器研究院_202410804720.7
    本申请公开一种版图形成方法和掩膜版组、半导体器件的制备方法，涉及半导体技术领域。图形成方法包括：提供第一掩膜版，第一掩膜版具有初始版图图形及添加至初始版图图形旁侧的可曝光辅助图形；基于第一掩膜版进行一次曝光，于待蚀刻层中形成初始版图；提供第...
    2026-02-02
  • 光学邻近效应的修正方法
    光学邻近效应的修正方法_杭州富芯半导体有限公司_202511365034.5
    本申请涉及一种光学邻近效应的修正方法，包括：获取待处理版图以及目标图形，所述目标图形为所述待处理版图经过曝光处理后的理想图形；采用OPC修正算法对所述待处理版图进行修正处理，获取所述待处理版图对应的第一修正版图，所述第一修正版图的边缘线条包...
    2026-02-02
  • 用于掩模图形优化的方法、设备和存储介质
    用于掩模图形优化的方法、设备和存储介质_全芯智造技术有限公司_202511735157.3
    根据本公开的示例实施例提供了用于掩模图形优化的方法、设备和存储介质。该方法包括利用分别对应于至少一个工艺条件的至少一个光刻成像模型，生成掩模图案中的至少一个图形片段的相应仿真信号；基于用于调整至少一个图形片段的相应校正参数、以及相应仿真信号...
    2026-02-02
  • 光掩模及图案转移的方法
    光掩模及图案转移的方法_联华电子股份有限公司_202410899095.9
    本发明公开一种光掩模及图案转移的方法，其中光掩模用于配合一曝光源图案化一半导体元件。半导体元件定义有一第一元件区以及一存储器区与第一元件区相邻设置，半导体元件包含一存储器元件设置于存储器区。光掩模包含一基材、一预定图案以及一第一光学辅助件。...
    2026-02-02
  • 一种光罩盒的自动翻转开盒机构
    一种光罩盒的自动翻转开盒机构_浙江赛瑾半导体科技有限公司_202511701365.1
    一种光罩盒的自动翻转开盒机构，其包括设备平台，放置工位，解锁组件，开盖组件。所述光罩盒包括盒体，滑扣。所述解锁组件包括固定板，移动气缸，连接板，夹爪气缸，夹爪。所述开盖组件包括固定架，驱动设备，转动组件，吸嘴。所述转动组件包括连接杆，转动杆...
    2026-02-02
  • 基于导向自组装的光罩制造方法及使用该方法制造的光罩
    基于导向自组装的光罩制造方法及使用该方法制造的光罩_张江国家实验室_202410815921.7
    本公开提供一种基于导向自组装的光罩制造方法，能够以高生产通量制备出高图形质量的先进节点高端光罩。包括：引导模板制备步骤，在光罩基底上依次层叠旋涂碳膜和减反射层，并在减反射层中形成规定图形，通过涂布中性层或分子刷并退火，制备引导模板；嵌段共聚...
    2026-02-02
  • 具有导流槽的纳米压印模板、其制作方法及应用
    具有导流槽的纳米压印模板、其制作方法及应用_张江国家实验室_202410812213.8
    一种具有导流槽的纳米压印模板、其制作方法及应用，属于纳米压印技术领域。所述纳米压印模板包括一衬底，以及形成在所述衬底下表面上的凸台；所述凸台上设置有具有待转印凹凸结构的微纳米结构；其中，所述凸台的四个角上设置有用于将压印胶中的气泡排出的导流...
    2026-02-02
  • 纳米压印模板、制备方法及采用其的纳米压印设备
    纳米压印模板、制备方法及采用其的纳米压印设备_张江国家实验室_202410812215.7
    一种纳米压印模板、制备方法及采用其的纳米压印设备，属于纳米压印技术领域。所述纳米压印模板包括衬底和形成在衬底下表面上的、具有凹凸结构的待转印微纳米结构；其中，所述纳米压印模板的总厚度为0.3～2.0毫米。本申请的纳米压印模板通过减薄厚度，提...
    2026-02-02
  • 基于薄模板的纳米压印方法
    基于薄模板的纳米压印方法_张江国家实验室_202410812216.1
    一种基于薄模板的纳米压印方法。所述纳米压印方法采用总厚度为0.3～2.0毫米的纳米压印模板，包括：将纳米压印模板装配到纳米压印设备上；通过电致动器使纳米压印模板中心凸起；下压纳米压印模板到预设位置，使其与压印胶贴合；通过紫外光源使压印胶固化...
    2026-02-02
  • 转接吸盘、应用于纳米压印的拼接模板结构及压印设备
    转接吸盘、应用于纳米压印的拼接模板结构及压印设备_张江国家实验室_202410812218.0
    一种转接吸盘、应用于纳米压印的拼接模板结构及压印设备，属于纳米压印模板技术领域。所述拼接模板结构包括吸盘支架和设置在所述吸盘支架上的压印组件；薄模板拼接结构，设置在所述吸盘支架上背离所述压印组件的一侧，所述薄模板拼接结构包括相互之间密封连接...
    2026-02-02
  • 负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法
    负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法_武汉柔显科技股份有限公司_202511407328.X
    本申请提供了一种负性感光性着色树脂组合物、固化膜和图案加工方法，涉及OLED显示技术领域。该负性感光性着色树脂组合物包括(a)碱溶性树脂；(b)着色剂分散液；(c)紫外线吸收剂和(d)阻聚剂，紫外线吸收剂选自苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、...
    2026-02-02
  • 一种感光树脂组合物及其应用
    一种感光树脂组合物及其应用_武汉尚赛光电科技有限公司_202511418936.0
    本发明属于材料技术领域，具体涉及一种感光树脂组合物及其应用。感光树脂组合物包含以下各组分：碱溶性树脂、树脂单体、固化引发剂、溶剂、助剂。本发明的感光树脂组合物具有优异的光学性能、固化速率及成膜性能，在实际应用中与基板的附着能力好，能够在较低...
    2026-02-02
  • 一种正性光刻胶组合物及其应用
    一种正性光刻胶组合物及其应用_江苏艾森半导体材料股份有限公司_202511428021.8
    本发明提供一种正性光刻胶组合物，以重量份计，所述正性光刻胶组合物包括100份树脂、0.5～10份重氮萘醌化合物、1～10份光致产酸剂和0.01～0.5份氮唑类化合物；所述氮唑类化合物具有式I或式II所示结构。所述采用特定结构的氮唑类化合物与...
    2026-02-02
  • 光刻胶组合物、彩色滤光层及显示面板
    光刻胶组合物、彩色滤光层及显示面板_TCL华星光电技术有限公司_202511467679.X
    本申请公开了一种光刻胶组合物、彩色滤光层及显示面板；光刻胶组合物包括着色材料以及溶剂，着色材料包括含有醚键和酯基的基团，溶剂包括含有醚键和酯基的基团；本申请提供的光刻胶组合物中，着色材料和溶剂中均可以包括含有醚键和酯基的基团，进而可以有效提...
    2026-02-02
  • 一种用于高分辨率显示面板的彩色光刻胶喷涂显影工艺
    一种用于高分辨率显示面板的彩色光刻胶喷涂显影工艺_深圳清荷科技有限公司_202511480784.7
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种用于高分辨率显示面板的彩色光刻胶喷涂显影工艺，包括以下步骤：S1.制备复合彩色光刻胶；S2.基板预处理；S3.喷涂工艺；S4.预烘烤；S5.曝光；S6.显影；S7.后烘烤；本发明通过优化彩色光刻胶的组分...
    2026-02-02
  • 一种银纳米团簇紫外-可见光光引发剂及其光刻胶和方法
    一种银纳米团簇紫外-可见光光引发剂及其光刻胶和方法_浙江大学_202511544657.9
    本发明公开了一种银纳米团簇紫外‑可见光光引发剂及其光刻胶和方法，属于光敏材料技术领域。光引发剂为包括Ag29(NAP)24、Ag29(DHLA)12、NiAg28(NAP)24、NiAg28(DHLA)12在内的水溶性银纳米团簇以及包括Ni...
    2026-02-02
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