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最新专利技术
  • 多源地球物理数据融合驱动的储层裂隙智能识别方法
    多源地球物理数据融合驱动的储层裂隙智能识别方法_深圳大学_202511280126.3
    本发明涉及储层裂隙智能识别技术领域，公开了多源地球物理数据融合驱动的储层裂隙智能识别方法，包括步骤一，采集多源地球物理数据；步骤二，对所述三维数据体进行构造导向滤波预处理。该基于多源地球物理数据融合驱动的储层裂隙智能识别方法，可实现多源数据...
    2026-02-03
  • 一种森林灭火救援火场低空气象监测服务系统及方法
    一种森林灭火救援火场低空气象监测服务系统及方法_中国消防救援学院_202511009753.3
    本发明提供了一种森林灭火救援火场低空气象监测服务系统及方法，该系统包括森林火场气象环境监测系统、数据融合分析系统及数据分发服务系统；森林火场气象环境监测系统包括空地协同气象观测系统及森林火场空间信息遥感系统，用于获取森林火场边界层内低空气象...
    2026-02-03
  • 太空天气预报设备、系统、方法、处理电路和存储介质
    太空天气预报设备、系统、方法、处理电路和存储介质_使命太空_202510257497.3
    本公开涉及一种太空天气预报设备、系统、方法、处理电路和存储介质。本公开涉及一种太空天气预报系统(1)，该太空天气预报系统包括太空天气预报设备(100)、多个LEO卫星(202)以及连接到太空天气预报设备(100)的一个或多个地面站(204)...
    2026-02-03
  • 一种测风塔测风数据的代表年订正方法及装置
    一种测风塔测风数据的代表年订正方法及装置_三峡国际能源投资集团有限公司_202511269817.3
    本发明涉及测风数据代表年订正技术领域，公开了一种测风塔测风数据的代表年订正方法，该方法包括获取目标测风塔的风速数据，获取多格点双高度再分析数据，基于多格点双高度再分析数据分别计算多格点双高度风速数据和多格点双高度平均风向数据，基于目标测风塔...
    2026-02-03
  • 一种基于水舌轨迹的泄洪雾化降雨强度预测方法
    一种基于水舌轨迹的泄洪雾化降雨强度预测方法_中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司_202511273788.8
    本发明提供了一种基于水舌轨迹的泄洪雾化降雨强度预测方法，包括实时采集泄洪建筑物的挑坎结构参数、水库水位和下游地形数据，当水位超过警戒值时启动预测；利用多阶段迭代算法对水舌运动轨迹进行分段建模；结合下游地形数据，通过地形网格匹配算法确定水舌入...
    2026-02-03
  • 一种利用水舌参数的泄洪雾化降雨分布计算方法
    一种利用水舌参数的泄洪雾化降雨分布计算方法_中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司_202511273794.3
    本发明提供了一种利用水舌参数的泄洪雾化降雨分布计算方法，包括获取泄洪水舌的几何形态参数和水力学参数；基于水力学参数计算水舌入水动能；确定雾化源区范围；在雾化源区内建立三维计算网格；计算雾化雨滴的初始粒径分布，根据环境风场参数和粒径分布计算雨...
    2026-02-03
  • 基于概率密度匹配方法和微尺度数值模式的大风预报方法
    基于概率密度匹配方法和微尺度数值模式的大风预报方法_国网江西省电力有限公司电力科学研究院_202511726382.0
    本发明公开了一种基于概率密度匹配方法和微尺度数值模式的大风预报方法，包括，获取气象数据，并对气象数据进行处理，得到分辨率气象预报场，将分辨率气象预报场作为初始场，通过地形动力学效应、下坡气流特征效应、地形阻塞效应及辐散最小化对初始场进行精细...
    2026-02-03
  • 基于双层双计量翻斗式雨量计的高精准度雨量监测方法
    基于双层双计量翻斗式雨量计的高精准度雨量监测方法_水利部南京水利水文自动化研究所_202511467523.1
    本发明公开了一种基于双层双计量翻斗式雨量计的高精准度雨量监测方法，通过将上层小翻斗与下层大翻斗进行组合的方式，计算上层小翻斗的理论容量、下层大翻斗的理论容量，根据上层小翻斗的静态容量、下层大翻斗的静态容量c，对双层双计量翻斗式雨量计进行系统...
    2026-02-03
  • 电子装置
    电子装置_群创光电股份有限公司_202410808528.5
    本发明公开一种电子装置，包括积层基板。积层基板包括：基板，具有第一表面以及与第一表面相对的第二表面；第一光学调整层，设置于第一表面上；介电层，设置于第一光学调整层上；以及油墨层，设置于第二表面上。第一光学调整层包括金属材料、半导体材料、半透...
    2026-02-03
  • 超快激光空间整形纵向光场加工微透镜的方法及系统
    超快激光空间整形纵向光场加工微透镜的方法及系统_清华大学_202511452253.7
    本发明公开了一种超快激光空间整形纵向光场加工微透镜的方法和系统，加工方法包括以下步骤：提供超快高斯脉冲激光束；根据相位图对超快高斯脉冲激光束进行调制整形，得到空间整形纵向光场；将空间整形纵向光场聚焦于待加工样品上，对待加工样品进行微孔加工；...
    2026-02-03
  • 一种自适应视场可偏转调焦的仿生眼系统
    一种自适应视场可偏转调焦的仿生眼系统_四川大学_202410798016.5
    本发明公开一种自适应视场可偏转调焦的仿生眼系统，主要由内部的液体器件和外部仿生眼球形机械外壳构成。其中液体器件由偏转腔和变焦腔构成，内部填充密度匹配互不相溶的极性液体材料和非极性液体材料。偏转腔中，偏转界面通过电润湿方式使偏转界面变为倾斜的...
    2026-02-03
  • 用于平板光学装置的封装材料
    用于平板光学装置的封装材料_应用材料公司_202511174550.X
    本文所述的多个实施方式涉及平板光学装置和用于平板光学装置的封装材料。一个或多个实施方式包括基板，该基板具有形成于基板上的第一多个柱的第一布置。第一多个柱的第一布置包括具有高度h和横向距离d的柱。第一多个柱的第一布置包括与第一多个柱的相邻柱之...
    2026-02-03
  • 基于Ge-VO2超表面的双模宽窄带可调近红外吸收器
    基于Ge-VO2超表面的双模宽窄带可调近红外吸收器_南华大学_202511250629.6
    基于Ge‑VO2超表面的双模宽窄带可调近红外吸收器，由复数个周期性排布的单元结构组成，单元结构包括反射层、电介质层、VO2层和半导体材料层，反射层、电介质层、VO2层、半导体材料层从下到上依次设置，半导体材料层为通过蚀刻设置在VO2层上的五...
    2026-02-03
  • 用于反射在VUV波长区域中的辐射的光学元件
    用于反射在VUV波长区域中的辐射的光学元件_卡尔蔡司SMT有限责任公司_202510824583.8
    本发明涉及一种用于反射VUV波长区域中的辐射(2)的光学元件(1)，包括：表面(4a，4a')，和施加到表面(4a，4a')上的电介质多层涂层(5)。电介质多层涂层(5)被设计用于VUV波长区域中的辐射(2)的反射，特别是宽带反射。所述表面...
    2026-02-03
  • 膜镜层叠体和镜构件
    膜镜层叠体和镜构件_日东电工株式会社_202510828321.9
    本发明涉及一种膜镜层叠体和镜构件。膜镜层叠体(1)朝向厚度方向一方侧依次具备：基材膜(2)、金属反射层(3)、反射调整层(4)以及拒水层(5)。反射调整层(4)具备硅氧化物层(43)，拒水层(5)配置于硅氧化物层(43)的厚度方向一方的面。...
    2026-02-03
  • 反射镜和平视显示装置
    反射镜和平视显示装置_日本精机株式会社_202510782909.5
    本发明提供一种反射镜和平视显示装置，其中，反射镜(20)反射显示光(L)，具有呈曲面的反射曲面(20a)。反射镜(20)具备：基材(21)，其具有呈曲面的粘贴面(26a)；反射镜膜(40)，其在与粘贴面(26a)粘接的状态下形成反射曲面(2...
    2026-02-03
  • 反射镜和平视显示装置
    反射镜和平视显示装置_日本精机株式会社_202510802590.8
    本发明提供一种反射镜和平视显示装置。其能够更简单地进行制造。反射镜(20)具有反射显示光的反射曲面(20a)。反射镜(20)具备：基材(21)，其具有呈曲面的粘贴面(26a)；以及反射镜膜(40)，其在粘接于粘贴面(26a)的状态下形成反射...
    2026-02-03
  • 一种用于投影成像镜头的反射器结构
    一种用于投影成像镜头的反射器结构_广东烨嘉光电科技股份有限公司_202511571688.3
    本发明公开一种用于投影成像镜头的反射器结构，包括反射器本体，所述反射器本体置放于具有两片以上镜片的光学投影成像镜头内部，所述反射器本体包括：中间通光区，使得光学投影成像镜头光线经此中空区域出射，成为直接出射光；第一反射区，上端小而下端大；第...
    2026-02-03
  • 闪耀光栅制备方法和闪耀光栅
    闪耀光栅制备方法和闪耀光栅_舜宇奥来微纳光学(上海)有限公司_202410798717.9
    本发明涉及一种闪耀光栅制备方法和闪耀光栅。该闪耀光栅制备方法，包括步骤：制备斜齿光栅，以得到斜齿光栅，该斜齿光栅的倾斜面为闪耀面；沉积截止材料至该斜齿光栅，以在该斜齿光栅的间隙中形成覆盖该闪耀面的截止层，得到中间光栅；研磨该中间光栅，以除去...
    2026-02-03
  • 底部对齐光栅制备方法和底部对齐光栅
    底部对齐光栅制备方法和底部对齐光栅_舜宇奥来微纳光学(上海)有限公司_202410803458.4
    本发明涉及一种底部对齐光栅制备方法和底部对齐光栅，该底部对齐光栅制备方法包括步骤：沉积光栅材料于透光基底上，以在透光基底上形成光栅材料层；刻蚀该光栅材料层，以在该光栅材料层上形成高度不同的多个光栅区域；以及分别刻蚀各个该光栅区域至该透光基底...
    2026-02-03
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