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最新专利技术
  • 一种低固化温度的高灵敏度红色光刻胶组合物
    一种低固化温度的高灵敏度红色光刻胶组合物_深圳清荷科技有限公司_202511483964.0
    本发明提供了一种低固化温度的高灵敏度红色光刻胶组合物，属于光刻胶技术领域。包括以下组分制成：成膜树脂、光活性化合物、红色着色剂、活性稀释剂、光引发剂、纳米级氧化铈‑聚苯胺复合改性剂、附着力促进剂、消泡剂、溶剂；本发明技术方案中各组分间形成的...
    2026-03-23
  • 一种化学放大型正性光刻胶及其制备方法和应用
    一种化学放大型正性光刻胶及其制备方法和应用_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511518163.3
    本申请提供一种化学放大型正性光刻胶及其制备方法和应用，涉及光刻胶技术领域。本申请提供的化学放大型正性光刻胶包括酸解离性(甲基)丙烯酸树脂、碱溶性树脂组成的混合树脂以及含巯基树脂；酸解离性(甲基)丙烯酸树脂的添加使得光刻胶表现出对电镀液出色的...
    2026-03-23
  • 一种显示用光刻胶组合物
    一种显示用光刻胶组合物_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511617446.3
    本申请提供一种显示用光刻胶组合物，涉及光刻胶领域。显示用光刻胶组合物包括：22‑25重量份的黄色颜料液、1‑3重量份的绿色颜料液、5‑8重量份的蓝色颜料液、0.1‑0.3重量份的黑色颜料液、10‑15重量份的碱溶性树脂、4‑8重量份的光聚合...
    2026-03-23
  • 一种用于黑色光刻胶的黑色色浆及其制备方法与应用
    一种用于黑色光刻胶的黑色色浆及其制备方法与应用_山东科莱福光电科技有限公司_202511644925.4
    本发明属于显示材料技术领域，具体涉及一种用于黑色光刻胶的黑色色浆及其制备方法与应用，所述的用于黑色光刻胶的黑色色浆，按重量份数计，包括以下组分：炭黑25份、Cardo树脂或丙烯酸树脂10~24份、分散剂为4~11份、溶剂47~57份和改性磷...
    2026-03-23
  • 量子点光刻胶及其制备方法、显示器
    量子点光刻胶及其制备方法、显示器_深圳市天诺通光电科技有限公司_202511469592.6
    本申请提供一种量子点光刻胶，所述光刻胶包括量子点、光引发剂、光刻胶单体、丙二醇甲醚醋酸酯溶剂、TiO2和粘合剂，量子点表面修饰有配体，配体通过化学键与粘合剂键接，配体包括硫醇配体和羧酸配体，硫醇配体：羧酸配体的配体比为3‑7：1，按重量份计...
    2026-03-23
  • 用于蓝色像素的低介电常数光刻胶树脂单体及其制备方法
    用于蓝色像素的低介电常数光刻胶树脂单体及其制备方法_深圳清荷科技有限公司_202511483435.0
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及用于蓝色像素的低介电常数光刻胶树脂单体及其制备方法，由以下重量份的成分组成：改性树脂基体、感光性单体、光引发剂、有机溶剂、交联剂、表面活性剂、纳米改性添加剂；本发明中的各组分间通过分子结构与性能的互补实现协...
    2026-03-23
  • 含有蒽甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用
    含有蒽甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用_湖南初源新材料股份有限公司_202511694956.0
    本发明提供了含有蒽甲基季铵盐光敏剂的感光树脂组合物及其应用，该光敏剂的结构主体蒽环在10和/或9位上引入季铵基团取代的亚甲基，平衡阴离子采用的是酸根或卤素；相比于市售的蒽类光敏剂，该光敏剂在保留了光漂白性前提下，通过季铵盐的引入使其兼具优异...
    2026-03-23
  • 一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构
    一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511468823.1
    本发明提供一种高分辨正性光刻胶组合物及其制备方法和光刻结构，涉及光刻技术领域。所述高分辨正性光刻胶组合物，包括酚醛树脂、光敏剂共聚物成膜树脂、重氮萘醌类光敏化合物和溶剂；光敏剂共聚物成膜树脂为第一光敏化合物、第二光敏化合物和第三光敏化合物中...
    2026-03-23
  • 图案生成方法、装置、设备、介质及产品
    图案生成方法、装置、设备、介质及产品_北京超弦存储器研究院_202410760609.2
    本申请涉及一种图案生成方法、装置、设备、介质及产品。方法包括：获取输入图案及其对应的输入光强图；采样处理目标图案的图像参数空间分布信息，得到标签信息；根据输入图案、输入光强图、标签信息以及训练好的目标机器学习模型，至少生成初始图案；根据初始...
    2026-03-23
  • 一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法
    一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法_杭州玉之泉精密仪器有限公司_202511235793.X
    本发明公开一种高速可变数值孔径的振镜刻写系统及刻写方法包括：激光器；分束光路；刻写光路；还包括光束调制模块和振镜扫描模块，光束调制模块位于激光器和分束光路之间，振镜扫描模块位于分束光路和刻写光路之间；光束调制模块包括沿光束传播方向依次设置的...
    2026-03-23
  • 一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法
    一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法_三河建华高科有限责任公司_202511451621.6
    本发明公开了一种用于曝光设备的掩模版自动换版系统及方法，涉及半导体器件制造领域，包括：工作台，其上设有用于安装掩模版的掩模版安装面、可升降的接版柱以及用于对放置于掩模版安装面上的掩模版进行位置调节的调节机构，接版柱上设有第一真空吸附结构，第...
    2026-03-23
  • 光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法
    光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法_重庆芯联微电子有限公司_202511464772.5
    本发明提供了一种光学模型的参数选取方法、OPC光学模型、OPC方法，所述参数选取方法包括获取待OPC版图在建立光学模型时的初始光学参数；基于初始的光刻机最佳成像平面参数，以待OPC版图中的第一类图案作为锚点图案进行光学阈值优化，获得不同成像...
    2026-03-23
  • 一种用于光刻机照明系统的光源阵列对准装置及方法
    一种用于光刻机照明系统的光源阵列对准装置及方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202511507847.3
    一种替代微反射镜阵列的光源阵列对准装置及方法，由光源阵列组件、成像组件、反射组件、基准块、石英板及装调方法组成。光源阵列组件包括：电控盒、阵列安装框、光源阵列、控制电路板和水冷板。成像组件包括：镜组、镜框组、成像镜筒、外筒及转环(定环、动环...
    2026-03-23
  • 一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置及方法
    一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置及方法_长春理工大学_202511516201.1
    本发明公开了一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置及方法，属于激光干涉光刻技术领域。一种激光干涉光刻增大电传导面积的加工装置，包括激光光源，所述激光光源之后固定有光阑，所述光阑之后固定有快门，所述快门之后固定有衍射分束器，所述衍射分束器之...
    2026-03-23
  • 曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机
    曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机_昆山龙腾光电股份有限公司_202511554120.0
    本发明实施例公开了一种曝光光学补偿系统、曝光光学补偿方法及曝光机。该系统包括曝光工作台端检测模块、控制模块、位置调整模块以及入力功率调整模块；控制模块在第一曝光光照强度小于目标曝光光照强度时，控制位置调整模块调整聚光镜在第一移动范围内移动，...
    2026-03-23
  • 曝光方法、系统及计算机存储介质
    曝光方法、系统及计算机存储介质_武汉新芯集成电路股份有限公司_202511564502.1
    本发明提供一种曝光方法、系统及计算机存储介质，曝光方法包括：获取历史曝光能量数据以及对应的历史生产信息；将所述历史曝光能量数据按照所述历史生产信息的不同种类进行分组，以建立数据库；将待曝光的光刻胶层的新生产信息与所述数据库中的各组对应的所述...
    2026-03-23
  • 一种真空吸笔
    一种真空吸笔_美新半导体(绍兴)有限公司_202511569769.X
    本发明提供一种真空吸笔，其包括：笔柄；真空吸管，其设置于笔柄内；外软管，其位于笔柄外且位于笔柄的一端，外软管的一端与真空吸管的一端密封连接并内部连通；连接管，其位于笔柄的另一端，连接管的顶部设置有一个顶部端口，连接管的侧壁上依次间隔的设置有...
    2026-03-23
  • 一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统
    一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511572780.1
    本发明公开了一种电子束曝光机工件台可变速连续运动曝光方法及系统，方法包括：S1.进行工件台移动路径规划、图形划分及曝光窗设计；S2.基于图形划分和曝光窗设计，进行工件台速度规划设计；S3.进行工件台位置速度测量及曝光设计；实时测量工件台的位...
    2026-03-23
  • 大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法
    大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法_北京工业大学_202511585419.2
    本发明提供一种大幅面薄膜功能结构激光直写装置以及方法，应用于激光加工技术领域，包括：退卷辊用于承载并释放待加工的薄膜；盛料装置及同步上料部件用于储存直写浆料，并在薄膜经过时，将直写浆料均匀涂敷于薄膜的表面，形成浆料层；烘干区域用于对涂敷有浆...
    2026-03-23
  • 一种光学邻近校正方法及装置
    一种光学邻近校正方法及装置_华芯程(杭州)科技有限公司_202511678316.0
    本发明公开了一种涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法及装置，通过接收晶片表面形貌图案、目标晶片图案及照射光强；将所述晶片表面形貌图案与预设的名义光刻胶厚度，输入预训练的光刻胶厚度分布模型，得到对应的光刻胶厚度分布；根据所述光...
    2026-03-23
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