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电子电路装置的制造及其应用技术
  • 本实用新型涉及垃圾焚烧技术领域,公开了一种垃圾库渗滤液篦子的疏通装置。该装置包括疏通执行机构和顶升机构;篦子设有多个并分布在沟道上;疏通执行机构安装在沟道一侧的集液腔中且数量和篦子一一对应;每组疏通执行机构的疏通端与对应篦子上的筛孔形状匹配...
  • 本发明涉及风电机组故障监控技术领域, 更具体的说是涉及一种风电机组故障监控系统及方法,包括:采集模块,用于对风电机组进行数据采集;模拟模块,用于对风电机组的故障进行模拟,生成故障判断的数据阈值;监控模块,根据风电机组的运行数据和数据阈值,对...
  • 本实用新型公开了一种用于直埋管道的波纹补偿器和直埋管道,涉及热力管道的技术领域。所述直埋管道至少包括第一长管和第二长管,所述波纹补偿器包括外筒、两个平环和两个波纹管,外筒包括筒体、中间限位环板和两个端部限位环板,筒体套设在第一长管和第二长管...
  • 本实用新型公开了一种便于拆装的车用滤清器,属于车用滤清器技术领域,该便于拆装的车用滤清器,包括壳体机构和盖体机构,所述壳体机构的底端设置有用于保护滤芯的盖体机构,所述盖体机构上设置有用于固定滤芯的滤芯架机构,所述滤芯架机构的内部设置有旁通阀...
  • 本申请涉及一种桁架式风电塔架结构,包括:塔身、塔筒以及位于两者之间且起过渡连接作用的过渡段;其中,所述塔身包括多根塔柱及连接在相邻两根塔柱之间的斜杆;所述塔柱为六根或者八根,六根所述塔柱呈对称的六边形设置,八根所述塔柱呈对称的八边形设置;所...
  • 本实用新型属于热处理设备技术领域,尤其是一种玻璃溶液退火炉,现提出如下方案,其包括退火炉本体;放置板,所述放置板滑动设置于退火炉本体的内腔,放置板顶部的前侧和后侧均开设有通风孔,通风孔的数量为若干个;密封组件,所述密封组件位于退火炉本体的右...
  • 本发明涉及玻璃成型技术领域,具体涉及一种玻璃钢化弯曲成型设备及其温控系统,通过不同的加热元件对不同的玻璃加热区域进行加热,能够对局部区域的温度进行灵活控制,保证了玻璃加热的温度均匀性控制能力;基于各个玻璃加热区域的邻域温度相似情况,从玻璃底...
  • 一种基于法向力控制的大范围纳米结构表面压印方法,属于纳米结构表面加工技术领域。方法如下:进行结构化压头表面与工件表面的调平;进行法向力控制压印;进行原位检测,评估本次压印加工的质量;若评估质量误差超值,则重复上述步骤直至误差在规定的范围内后...
  • 本发明提供了一种自适配高域空间拓展台及方法,涉及空间扩展技术领域,包括主板、两块副板、调节组件,两块副板对称设置于主板两侧,调节组件包括两根主杆,两根主杆平行且间隔设置于主板内,主杆与主板转动配合,任意主杆的两端均套设有与其螺纹配合的副杆,...
  • 本发明提供光刻设备操作控制方法、装置、存储介质及设备,包括:获取用户端发送的光刻任务,所述光刻任务包括需操作的衬底参数和工艺参数;将所述光刻任务中衬底参数与预设的衬底参数阈值比较、所述光刻任务中工艺参数与预设的工艺参数阈值比较;若所述衬底参...
  • 本申请实施例涉及光刻技术领域,提供了一种光刻掩模多目标鲁棒优化方法、系统、计算机设备和介质,其中方法包括:基于光刻仿真模型确定初始掩模版在N种工艺参数下分别获得的晶圆图案,N为大于1的整数;基于各种所述工艺参数获得的所述晶圆图案和目标图案之...
  • 本实用新型提供一种磁板回转式除铁器,包括除铁箱,所述除铁箱一侧可拆卸连接驱动机构,所述驱动机构内侧设有转动轴,所述驱动机构对侧开有安装口,所述安装口内设有转动盘,所述转动盘内侧环形布设磁性板,所述转动盘内侧中部设有结合柱,所述结合柱与所述转...
  • 本实用新型公开了一种光学玻璃制造用分切装置,包括底座,底座上设置有分切装置,底座上设置有拼接装置,拼接装置包括拼接套、配合套、配合槽、配合板、适配套、卡接机构、拼接杆、配合块、适配杆和适配槽,配合槽呈螺旋状开设在配合套外侧,配合块通过配合板...
  • 本实用新型提供了一种防发霉镀膜玻璃,其属于镀膜玻璃领域,其包括:玻璃基体;防霉结构;所述防霉结构包括在玻璃基体空气面一侧镀制防霉层,所述防霉层为氮化硅介质膜层,所述氮化硅介质膜层的厚度为10‑12nm,所述氮化硅介质膜层采用真空磁控溅射物理...
  • 本发明公开了一种钨矿和金红石浮选共富集的方法,属于选矿技术领域。该方法是将钨钛共伴生矿依次进行破碎、磨矿、脱铁和脱硫,得到脱硫尾矿矿浆;所述脱硫尾矿矿浆经过pH调整后,以金属离子‑羟肟酸类配合物作为捕收剂,进行钨钛混合浮选,得到钨钛混合精矿...
  • 本发明提供了一种掩模版和载物台的兼容检测装置和兼容检测方法,属于半导体检测加工领域,兼容检测装置包括相机组件、掩模版吸附框、掩模版和载物台;相机组件设置在掩模版吸附框上方,掩模版设置在掩模版吸附框处。本申请的相机组件上下占用空间小,景深范围...
  • 一种光蚀刻系统,用于控制极紫外光微影光源中的电浆位置,此系统可包括真空腔室;液滴产生器,用以将液滴流分配至真空腔室中,其中液滴是由金属材料形成;激光光源,用以将包括至少第一脉冲及第二脉冲的多个激光脉冲发射至真空腔室中;感测器,用以侦测腔室内...
  • 本发明涉及浮选设备技术领域,具体为一种浮选机推泡装置,包括浮选槽,浮选槽上设置有气泡发生装置和推泡机构,浮选槽的一侧设置有气体输出装置,气体输出装置的输出端通过管道连接有单向阀,单向阀远离气体输出装置的一端通过管道连接有旋转接头,旋转接头远...
  • 本申请涉及一种金属线和通孔布图的光学临近效应修正方法及相关设备,该方法包括:获取原始金属线和通孔布图,在互连金属线所在层的平面内与互连金属线的延伸方向相垂直的方向为宽度方向,金属线图层中与互连金属线在宽度方向上相邻的金属线为影响金属线,影响...
  • 本发明的名称为全自动水封式双密封防爆地漏,属于人防工程领域,旨在提供一种在冲击波作用下能够自动可靠封闭且非钟罩式结构的水封式地漏,使其在战时能够自动防止冲击波毒气进入防护区,同时其结构形式符合GB55020‑2021《建筑给水排水与节水通用...
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