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电子电路装置的制造及其应用技术
  • 提供了一种被构造成在风力涡轮机(200)中执行至少一项服务任务的风力涡轮机服务系统。风力涡轮机(200)包括处于不同竖直位置处的至少两个楼层(211、212)。风力涡轮机服务系统(10)包括:服务机器人(100),其是自推进式的且是可控制的...
  • 本发明提供了一种环保型钛铁矿浮选捕收剂及其制备方法。该捕收剂包含以下重量份的组分:复合羟肟酸30‑50份、脂肪酸20‑40份、非离子表面活性剂3‑10份、稳定剂0.1‑5份、碱液50‑100份。本发明制得的捕收剂可以提升钛精矿的品位,同时提...
  • 本发明公开一种接近式光刻机的载台调平装置,该接近式光刻机的载台调平装置包括掩膜台、产品载台、至少三个接触球以及至少三个音圈电机;所述产品载台设置于所述掩膜台的下方;所述接触球设置于所述产品载台上,每个所述接触球的直径一致,各个所述接触球不全...
  • 本实用新型公开了一种具有导向结构的喷水织机,涉及纺织机械技术领域,包括底座,底座上端中部固定连接有竖板,竖板右端设置有线辊安装组件和导向辊无级调节组件,导向辊无级调节组件设置在线辊安装组件下部,导向辊无级调节组件包括导向辊本体,导向辊本体左...
  • 本实用新型公开了一种具有快速切换收集导辊的喷气织机,包括支撑装置,所述支撑装置的两端内部滑动套接有对位装置,所述支撑装置的前端中心固定安装有导向装置,所述对位装置包括横板、驱动电机、复位弹簧、六棱杆和套杆,所述驱动电机固定安装在横板的侧端,...
  • 本申请涉及一种双面曝光的背面对位方法,装置和曝光设备,能够实现不同规格板材的高精度双面对准,包括如下步骤:在板材A面曝光时,获取在A面上个标记点的正面实际坐标以及在B面上靶标的背面实际坐标;在A面曝光完成并翻板后;获取背面对准组件采集到的标...
  • 本实用新型为一种柠檬酸石膏清洗装置,涉及石膏加工技术领域。本实用新型包括罐体,所述罐体上部设置进料口、下部设置有出料口,罐体上方设置有驱动电机,罐体内设置与驱动电机轴连接的、带有打散辊的主轴,与进料口连接的布料器绕于主轴周围,罐体上部周围设...
  • 本实用新型公开了一种裁边机构及其喷水织机,涉及布料加工技术领域,包括布料台、裁边组件、压料机构和挤压机构,裁边组件设置于布料台的顶端,压料机构设置于布料台的顶端,压料机构用于平压待裁边的布料,挤压机构设置于压料机构与裁边组件之间。本实用新型...
  • 本实用新型公开了一种大吨位窑炉两段式多用排火枪结构,属于超白高透压延玻璃生产技术领域,包括主管,所述主管的两端均设置有进口过渡管,所述进口过渡管的另一端设置有快速接头,所述进口过渡管外侧壁的两端均设置有用于架设在窑炉通道出口支撑架上的架设装...
  • 本发明公开了一种从辉钼矿浮选尾矿中回收氧化钼钨矿的耐泥耐低温捕收剂、制备及应用,涉及辉钼矿浮选分离技术,所述捕收剂由一元脂肪醇、油酸钠和聚氧乙烯醚、羟肟酸分别按质量百分比为10‑15%、30‑50%、10‑15%、20‑50%复配而成。浮选...
  • 本发明涉及一种PCB用溶剂性感光干膜丙烯酸树脂及其制备方法,属于感光干膜的技术领域。一种PCB用溶剂性感光干膜丙烯酸树脂包括以下组分:改性丙烯酸树脂、改性白炭黑、反应单体、光引发剂、抗氧化剂、消泡剂和去离子水;本发明所制备的PCB用溶剂性感...
  • 本实用新型涉及卫浴用具技术领域,公开了一种溢流结构及马桶,所述溢流结构包括水箱和弹性溢流套;所述水箱包括箱主体和溢流部,所述箱主体具有储水腔,所述溢流部连接于所述箱主体,所述溢流部具有与所述储水腔相连通的溢流口;所述具有溢流通道,所述弹性溢...
  • 本申请公开了一种清淤机器人的自适应扰流松泥机构及控制方法,涉及管道清理技术领域,自适应扰流松泥机构包括主体、隔离仓、搅拌机构、输气机构、检测组件、出液机构,搅拌机构伸缩设置于隔离仓,主体设有容纳腔,进液口与容纳腔相连通;出液机构通过输液口向...
  • 本申请涉及风力发电机组运行控制技术领域,尤其涉及一种风机控制优化方法、装置、控制终端及存储介质,该方法包括:获取风电机组多个预设位置的三方向振动加速度数据;基于各预设位置的三方向振动加速度数据,分别计算低速端振动分量、高速端振动分量和机舱振...
  • 本实用新型公开了一种排水阀的浮筒控制结构,包括相配合的本体和浮筒组件,所述浮筒组件能相对本体进行升降运动,还包括按键,所述按键能相对本体进行移动;还包括摆杆,所述摆杆相对浮筒组件进行转动,所述摆杆的一端面能抵接在浮筒组件上,以限制浮筒组件的...
  • 本申请公开了一种应用在人防工程中的真空集便装置,属于真空集便技术领域。包括真空排污管,真空排污管一端固定连接有蹲便器,蹲便器外部固定连接有填埋圈,填埋圈内部固定连接有多个弹性连接件,多个弹性连接件另一端之间固定连接有踩踏圈,踩踏圈一侧固定连...
  • 本申请涉及半导体制造技术领域,具体公开了一种消除掩膜版非目标图形散射缺陷的方法。该方法包括以下步骤:在硅片表面涂覆光刻胶,将开设有目标图形的掩膜版置于光刻机中,设置初始曝光光束尺寸,对涂覆有光刻胶的硅片进行曝光、显影处理,得到具有光刻图形的...
  • 本实用新型公开了一种排水阀的浮筒调节机构,包括相配合的浮筒和调节杆,所述浮筒能在调节杆上进行升降运动,还包括能与浮筒同步升降的拨钮,所述拨钮能相对浮筒进行横向移动,所述调节杆上设置有上下分布的插槽,所述拨钮上设置有抵接部,所述抵接部与拨钮同...
  • 本实用新型公开了一种新型波浪能发电装置,包括:固定立架,固定立架的一侧设置有活动安装架组,活动安装架组可沿固定立架高度方向上下移动;受力板,其设置在活动安装架组远离固定立架的一侧,受力板的下端与活动安装架组转动连接;能量转换机构,其设置在活...
  • 本发明公开了一种可调磁棒间距、快速清理铁粉的磁栅装置及工作方法,包括上部磁栅、下部磁栅和磁棒;上部磁栅设置在下部磁栅的顶部,上部磁栅与下部磁栅旋转连接,上部磁栅与下部磁栅内均固定安装有分隔棒,分隔棒可拆卸套设在磁棒上,分隔棒在上部磁栅和下部...
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