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一种预氧化耐高温铅铋腐蚀的Al/FeCrAl/Al/Al2O3涂层及其制备方法
本发明涉及腐蚀防护材料技术领域,针对现有的铅铋堆材料表面覆含铝涂层中,涂层材料与基体材料直接结合强度低,在铅铋堆服役环境中易出现开裂或脱落的问题,具体公开了一种预氧化耐高温铅铋腐蚀的Al/FeCrAl/Al/Al2O3涂层及其制备方法,所述...
物理气相沉积设备及沉积方法
本申请提供了一种物理气相沉积设备及沉积方法,该设备包括:反应腔室;相对设置在反应腔室两端的靶材及晶圆,分别用于提供沉积材料及形成沉积材料层;若干个磁场发生装置,位于反应腔室内部并环绕反应腔室排布,用于在反应腔室的内部空间产生局部磁场;控制系...
一种钼基钌银复合材料及其PVD制备方法与设备
本发明公开了一种钼基钌银复合材料及其PVD制备方法与设备,属于钼基复合材料的技术领域。本发明的PVD制备方法包括以下步骤:将相同规格的钌靶材和银靶材设置于具有两个倾斜角度为30‑60°且对称设置、溅射区域相互重叠的阴极靶座的双座磁控溅射装置...
溅射装置、磁记录介质的制造装置、薄膜的制造方法及磁记录介质的制造方法
提供一种溅射装置及薄膜的制造方法,其能够提高形成在基板上的薄膜的面内的膜厚分布的均匀性。根据本公开的溅射装置利用从靶的背面侧向着与所述靶的正面相对地设置的基板产生的磁场,使所述靶的溅射粒子附着在所述基板上,以形成薄膜,所述溅射装置具有:磁场...
用于磁控溅射镀膜制备TCO薄膜的装置和方法
本发明提供一种用于磁控溅射镀膜制备TCO薄膜的装置,所述装置的真空镀膜腔室内包括靶材和样品架,二者所在平面相互平行;靶材为圆形靶材;靶材的位置高于样品架;样品架用于放置镀膜衬底;样品架的上方设置有样品架挡板,且对应所述镀膜衬底设置,用于在关...
一种高纯钽旋转靶材及其制备方法
本发明涉及靶材技术领域,具体为一种高纯钽旋转靶材及其制备方法,包括:主体成分:钽粉;改性成分:添加0.001‑0.005wt%的复合掺杂元素;复合掺杂元素为质量比1 : 2‑3混合的B、Zr;本发明技术方案各步骤相互配合,实现了杂质含量最低...
一种回片式溅射镀膜设备与进出片方法
本申请涉及真空镀膜技术领域,具体公开了一种回片式溅射镀膜设备与进出片方法;其中,回片式溅射镀膜设备包括:镀膜腔室、装载腔室与传送机构;镀膜腔室与装载腔室相邻设置,且二者之间设置有能够开闭的室门;传送机构包括:旋转电机、推杆、升降驱动组件、推...
一种钼钛合金靶材的制备方法、钼钛合金靶材及其应用
本申请提供一种钼钛合金靶材的制备方法、钼钛合金靶材及其应用,属于难熔金属合金材料技术领域。所述钼钛合金靶材的制备方法,包括以下步骤:S1、制备钼钛母合金锭,并通过雾化工艺制成预合金粉末;S2、将所述预合金粉末与单质钼粉和/或单质钛粉进行混合...
一种基于内耗技术制备纯钛和钛基高熵合金靶材的方法
本发明公开一种基于内耗技术制备纯钛和钛基高熵合金靶材的方法。其包括如下步骤:将原料通过浇铸成型获得铸锭;对铸锭进行轧制处理获得轧制板材;对轧制板材进行取样处理,得到测试样品;对测试样品进行内耗测试,得到温度‑内耗曲线,根据再结晶峰的峰顶温度...
类金刚石碳膜的处理方法
本发明的在基底上形成类金刚石碳膜;以及在真空腔室中对所述类金刚石碳膜进行处理;其中,所述处理包括:在所述类金刚石碳膜的表面上喷洒二氧化硅溶液,对所述类金刚石碳膜进行退火。本发明可以简单高效、低成本地提高类金刚石碳膜的延展性,而且不破坏其高硬...
能够制备复合物纳米棒的多电子束蒸发装置
本申请提供了能够制备复合物纳米棒的多电子束蒸发装置。该多电子束蒸发装置包括主体,主体包括密封的腔体,腔体中设置有:坩埚台,坩埚台中设置有至少两个间隔开的坩埚,坩埚中用于盛放靶材,各坩埚的承载面中心在X轴、Y轴构成的平面上的水平间距为3 cm...
一种基于多电子枪协同控制的真空镀膜装置
本发明属于真空镀膜装置技术领域,特别涉及一种基于多电子枪协同控制的真空镀膜装置,包括环形坩埚;所述环形坩埚的一侧壁上嵌入安装有熔料壳体,所述熔料壳体的外侧壁上安装有熔料电子枪,且所述熔料壳体的内壁设置有配合熔料电子枪对原料熔融的熔料区域,所...
一种用于蒸镀设备的点源坩埚
一种用于蒸镀设备的点源坩埚,包括:坩埚盖上设有筛孔;筛孔用于给坩埚本体内的挥发物质提供蒸发路径;在坩埚盖的侧边设有热量传导部,坩埚盖设置于坩埚本体上时,热量传导部与坩埚本体的外壁相贴合;坩埚盖为热量传导良导体制作而成;热量传导部为金属材质;...
一种蒸发镀膜装置
本申请涉及导光板镀膜的技术领域,公开了一种蒸发镀膜装置,包括:机体;靶材挂架,安装于机体内部居中位置;转动座,转动安装于机体内;驱动机构,驱使转动座自转以及绕靶材挂架周向移动;支撑板,通过第一转轴转动安装于转动座上,支撑板在转动座上的转动中...
一种蒸镀设备润舟方法
本发明公开了一种蒸镀设备润舟方法,涉及真空蒸发技术领域;包括以下步骤:取蒸发舟,在其表面涂刷氧化镁涂层,固化后在氧化镁涂层表面预置铝丝,置于蒸镀设备中,预热至铝丝完全熔化,待熔化得到的铝液铺满蒸发舟后,通入氧气至蒸发舟表面无铝液残留,停止通...
一种用于复合集流体真空蒸镀的蒸发舟
本发明公开了一种用于复合集流体真空蒸镀的蒸发舟,包括蒸发舟主体,蒸发舟主体包括进料区域、隔离板以及多个蒸发单元,隔离板位于进料区域与蒸发单元之间或相邻两个蒸发单元之间,隔离板设有通道,通道连通进料区域与蒸发单元或相邻两个蒸发单元,蒸发舟主体...
一种复合金属膜蒸镀制备装置
本发明涉及真空镀膜技术领域,且公开了一种复合金属膜蒸镀制备装置,包括真空腔体以及设置于所述真空腔体内的送料机构和收料机构,所述送料机构与收料机构之间传输基膜,还包括:等离子清理装置,设置于真空腔体内且位于基膜的输送路径上,所述等离子清理装置...
工艺腔室以及内衬清洗方法
本发明提供一种工艺腔室以及内衬清洗方法。其中,工艺腔室包括腔体、基座、内衬和切换装置;其中,基座接地;内衬设置在腔体内部;切换装置设置在内衬的外部,具有第一状态和第二状态;在切换装置的第一状态,内衬通过切换装置与地线导通;在切换装置的第二状...
半导体晶圆的表面处理方法
本发明的半导体晶圆的表面处理方法,包括:提供半导体晶圆;在所述半导体晶圆的表面上沉积第一类金刚石碳层;在所述类金刚石碳层上沉积氧化铝颗粒,其中所述氧化铝颗粒通过将氧化铝颗粒分散液喷涂在所述第一类金刚石碳层上干燥而成;以及在所述氧化铝颗粒上沉...
一种耐高温高压螺栓表面防护工艺
本发明涉及螺栓制造技术领域,尤其涉及一种耐高温高压螺栓表面防护工艺,包括以下步骤:耐高温高压螺栓表面清洗后装入真空室,对耐高温高压螺栓进行氩离子轰击清洗;在耐高温高压螺栓表面沉积一层铬金属结合层;保持磁控溅射钨靶,在真空室内通入乙炔气体,在...
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