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最新专利技术
  • 基于光源相位编码与二值化掩模协同优化的数字全息光刻方法
    基于光源相位编码与二值化掩模协同优化的数字全息光刻方法_合肥工业大学_202511956090.6
    本发明公开了一种基于光源相位编码与二值化掩模协同优化的数字全息光刻方法，包括：1、对入射光场施加预设光源相位编码，并与二值振幅掩模协同调制，获得掩模透射光场；2、采用角谱传播模型将所述透射光场传播至晶圆平面，得到晶圆表面再现光场；3、构建晶...
    2026-05-10
  • 一种基于稀土上转换纳米颗粒的非线性光刻方法
    一种基于稀土上转换纳米颗粒的非线性光刻方法_南京理工大学_202511896154.8
    本发明公开了一种基于稀土上转换纳米颗粒的非线性光刻方法，属于微纳加工制造技术领域。该方法核心在于：制备Yb³⁺/Tm³⁺共掺上转换纳米颗粒的光刻胶；采用低功率976 nm连续激光作为激发光源，利用纳米颗粒的非线性上转换效应，将低能量近红外光...
    2026-05-10
  • 高精度屏下支撑板曝光显影蚀刻工艺系统及其工艺方法
    高精度屏下支撑板曝光显影蚀刻工艺系统及其工艺方法_芜湖东信光电科技有限公司_202511809223.7
    本发明公开了一种高精度屏下支撑板曝光显影蚀刻工艺系统，包括均匀曝光模块、高精度对位模块、曝光剂量精确控制模块和分步曝光运动控制模块。采用上述技术方案，产品精度提高，侧蚀率降低至3%以下，微结构边缘粗糙度＜0.5μm；生产效率提高，单次曝光完...
    2026-05-10
  • 基于差分抽气的低衰减Xe-LPP极紫外光源产生装置
    基于差分抽气的低衰减Xe-LPP极紫外光源产生装置_中国科学院上海光学精密机械研究所_202511764755.3
    本发明公开了一种基于差分抽气的低衰减Xe‑LPP极紫外光源产生装置，包括：真空系统，以创造EUV的传输环境；激光系统，用于提供高能的驱动激光；供气系统，用以向腔内提供气体靶材；用于将靶材喷射至激光焦点处，使强激光与Xe原子相互作用产生等离子...
    2026-05-10
  • 用于刻蚀腔体的监控方法
    用于刻蚀腔体的监控方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511695368.9
    本申请公开了一种用于刻蚀腔体的监控方法，方法包括：S1：提供经过了显影工艺的当前批次晶圆，当前批次晶圆中的每个晶圆均采集了显影后套刻精度数据；S2：将当前批次晶圆分配至若干刻蚀腔体；S3：使用刻蚀腔体对分配到的晶圆进行刻蚀工艺；S4：使用C...
    2026-05-10
  • 一种二次图形化方法
    一种二次图形化方法_中国科学院微电子研究所_202511608849.1
    本发明提供了一种二次图形化方法。本发明的二次图形化方法，包括如下步骤：S1：在衬底的氧化硅层上依次形成第三硬掩膜、第二硬掩膜和第一硬掩膜；S2：进行第一次光刻、刻蚀，在第一硬掩膜上形成第一图形；S3：去除光刻材料，随后进行第二次光刻、刻蚀，...
    2026-05-10
  • 一种去除沟槽底部光刻胶的方法
    一种去除沟槽底部光刻胶的方法_重庆芯联微电子有限公司_202511554474.5
    一种去除沟槽底部光刻胶的方法，包括：提供形成有若干沟槽的半导体衬底；在半导体衬底表面涂布光刻胶，光刻胶充满沟槽并在半导体衬底上形成第一光阻层；将曝光焦平面设置于沟槽底部之上H/2处，进行第一次曝光处理；将曝光焦平面设置于沟槽底部之上H/4处...
    2026-05-10
  • 印制电路板LDI曝光监控方法、装置、计算机设备和存储介质
    印制电路板LDI曝光监控方法、装置、计算机设备和存储介质_惠州市特创电子科技股份有限公司_202511531964.3
    本公开提供一种印制电路板LDI曝光监控方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括获取印制电路板的镜头曝光工况参数；将镜头曝光工况参数与预设曝光参数进行曝光似然处理，以得到曝光工况损失；根据曝光工况损失向LDI曝光中控器发送热机失使信号，...
    2026-05-10
  • 一种用于小体积器件双面光刻的技术
    一种用于小体积器件双面光刻的技术_电子科技大学_202511527189.4
    本发明公开了一种用于小体积器件双面光刻的技术，属于光刻技术领域。该技术通过模具实现小体积器件的固定与光刻辅助，所述模具的本体中部设有镂空区域以放置待光刻器件，本体外围设有4个柱状挖孔用于光刻时固定模具；操作中，先向模具镂空区域通入固体介质固...
    2026-05-10
  • 用于手动匀胶台的可撕式多层防护膜结构及其使用方法
    用于手动匀胶台的可撕式多层防护膜结构及其使用方法_成都航天博目电子科技有限公司_202511830173.0
    本发明公开了一种用于手动匀胶台的可撕式多层防护膜结构及其使用方法，所述结构包括环形基座框架、多层U型复合膜单元、弱粘性隔离层和撕拉翼片；所述环形基座框架与匀胶台腔室形状贴合，基座框架的材质为聚四氟乙烯，多层U型复合膜单元堆叠于基座框架上，每...
    2026-05-10
  • 一种涂胶显影设备及传片方法
    一种涂胶显影设备及传片方法_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202511772449.4
    本发明公开了一种涂胶显影设备及传片方法，包括片盒模块，具有上料区域、暂存区域、对称设置的搬运区域和转移区域；对称设置的液处理模块和对称设置的热处理模块，液处理模块设于转移区域并包括至少两层进片液处理框架和至少两层回片液处理框架；每个液处理模...
    2026-05-10
  • 一种双传片路径涂胶显影设备
    一种双传片路径涂胶显影设备_沈阳芯源微电子设备股份有限公司_202511764633.4
    本发明公开了一种双传片路径涂胶显影设备，包括至少两层进片液处理框架和至少两层回片液处理框架；至少两层进片热处理框架和至少两层回片热处理框架；进片热处理框架对应进片液处理框架设置；热处理模块用于对晶圆进行热处理工艺；接口模块，与热处理模块连接...
    2026-05-10
  • 一种面向复杂微纳结构的多级精细套刻方法
    一种面向复杂微纳结构的多级精细套刻方法_大连理工大学_202610107356.8
    一种面向复杂微纳结构的多级精细套刻方法，属于微纳加工技术领域。所述多级精细套刻方法中，首先，基于双层光刻胶体系，通过优化上下胶层厚度、旋涂参数与两次独立显影工艺，形成具有精准底切轮廓的图形化掩膜；随后，通过预设于掩膜模具的全局对准标记组，在...
    2026-05-10
  • 一种阻氧层及制备方法及表面自带纹理的平顶网点的柔性树脂版
    一种阻氧层及制备方法及表面自带纹理的平顶网点的柔性树脂版_乐凯华光印刷科技有限公司_202511695634.8
    本发明提供一种阻氧层及制备方法及表面自带纹理的平顶网点的柔性树脂版，聚合物颗粒由含游离异氰酸酯单体的聚氨酯树脂与含羟基的阻氧剂树脂在有机溶剂中原位聚合形成，无需额外添加固体填料；通过阻氧剂树脂中的羟基摩尔含量大于异氰酸酯单体中异氰酸根的摩尔...
    2026-05-10
  • 一种图案化材料下层膜形成用组合物及图案化材料下层膜
    一种图案化材料下层膜形成用组合物及图案化材料下层膜_珠海基石科技有限公司_202610110873.0
    本发明属于半导体技术领域，尤其涉及一种图案化材料下层膜形成用组合物及图案化材料下层膜。与现有技术相比，本发明可增加图案化材料下层膜与基底粘附性，并在此基础上通过添加抗氧化剂作为添加剂，阻止取代的芳香化合物的氧化变质，从而能够在不影响配方性能...
    2026-05-10
  • 一种光刻胶颜料色浆及其制备方法
    一种光刻胶颜料色浆及其制备方法_茂名清荷科技有限公司_202511952498.6
    本发明涉及光刻胶颜料色浆制作技术领域，具体涉及一种光刻胶颜料色浆及其制备方法，包括颜料颗粒材料、树脂材料、功能化颗粒材料及其他功能性材料；本发明通过颜料颗粒的复合改性和功能化颗粒材料的引入，显著提升了色浆的分散稳定性和功能多样性，其颜料颗粒...
    2026-05-10
  • 抗蚀剂组合物及应用、抗蚀剂图案的制作方法
    抗蚀剂组合物及应用、抗蚀剂图案的制作方法_常州强力电子新材料股份有限公司_202511922912.9
    本发明提供了一种抗蚀剂组合物及应用、抗蚀剂图案的制作方法，属于半导体光刻胶技术领域。该抗蚀剂组合物包含：光产酸剂、正性光刻胶树脂、苯胺衍生物和溶剂；光产酸剂具有如下式(I)所示的结构，R11、R22各自独立地选自氢、C11~C55烷基或C1...
    2026-05-10
  • 高性能的光刻胶组合物
    高性能的光刻胶组合物_浙江新盈电子材料有限公司_202511782651.5
    本发明公开了一种高性能的光刻胶组合物。本发明的光刻胶组合物由下述原料制得，所述原料包括：聚合物，光致生酸剂，溶剂和淬灭剂。本发明的光刻胶组合物具有良好的延展性和抗裂性等性能。
    2026-05-10
  • 磁性液态光敏树脂、制备方法及应用
    磁性液态光敏树脂、制备方法及应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202511662499.7
    本发明涉及磁性功能材料与光固化树脂技术领域，公开了一种磁性液态光敏树脂、制备方法及应用，旨在解决现有磁性光敏树脂中的硬磁磁粉易沉降团聚、稳定性差的问题。磁性液态光敏树脂包括羟基化‑硅烷化双步修饰的硬磁磁粉10‑40wt.%、液态光敏树脂58...
    2026-05-10
  • 光刻胶及其制备方法、无支撑3D悬浮打印方法和应用
    光刻胶及其制备方法、无支撑3D悬浮打印方法和应用_甬江实验室_202511604637.6
    本申请属于3D打印领域，具体涉及一种光刻胶及其制备方法、无支撑3D悬浮打印方法、应用。该光刻胶包括：高粘度树脂、光致产酸剂和增敏剂；所述高粘度树脂的粘度为10000 mPa·s以上，所述高粘度树脂的剪切变稀指数小于1。该光刻胶具有高粘度、自...
    2026-05-10
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