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最新专利技术
  • 一种利用导热和抗氧化涂层提高结晶器辊服役寿命的激光熔覆方法
    一种利用导热和抗氧化涂层提高结晶器辊服役寿命的激光熔覆方法_营口裕隆光电科技有限公司_202511900937.9
    本发明属于激光熔覆技术领域，具体涉及一种利用导热和抗氧化涂层提高结晶器辊服役寿命的激光熔覆方法，包括了如下步骤，将工件放置于真空炉中，以50.2~54.7℃/Min的速度加热至800±10℃，保温240±5Min，将熔覆层中的Cu合金充分沉...
    2026-04-11
  • 用于连铸连轧生产线轧辊的高性能FeCoNiCrMo高熵合金涂层及其制备方法和应用
    用于连铸连轧生产线轧辊的高性能FeCoNiCrMo高熵合金涂层及其制备方法和应用_中国兵器装备集团西南技术工程研究所_202511746194.4
    本发明涉及材料领域，公开了一种用于连铸连轧生产线轧辊的高性能FeCoNiCrMo高熵合金涂层及其制备方法和应用，涂层包括σ相和FCC相的共晶组织，共晶组织包括Fe、Co、Ni、Cr和Mo元素，基于涂层的总量，σ相的含量为40‑60wt.%，...
    2026-04-11
  • 一种石墨烯增强钛合金的耐磨涂层及其制备方法和应用
    一种石墨烯增强钛合金的耐磨涂层及其制备方法和应用_哈尔滨工业大学_202511520077.6
    本发明公开了一种石墨烯增强钛合金的耐磨涂层及其制备方法和应用，属于钛基复合材料及其制备技术领域。本发明解决了现有制备石墨烯增强钛基复合材料涂层的方法存在的工艺复杂、对原材料的浪费严重等问题。本发明将石墨烯分散至聚乙烯醇溶液中，预置在TC4基...
    2026-04-11
  • 一种镀钛铜金刚石增强铜基材料及其制备方法
    一种镀钛铜金刚石增强铜基材料及其制备方法_江西省科学院材料与智能制造研究所_202512044089.2
    本发明涉及高导热铜合金材料技术领域，提供了一种镀钛铜金刚石增强铜基材料及其制备方法，镀钛层质量减低到1.5%，减少过厚钛层对导热性的危害。在金刚石表面镀覆一层镀钛层的基础上，增加一层较厚的镀铜层。这层厚镀铜层在沉积过层中，可作为缓冲层，不仅...
    2026-04-11
  • 一种提高冷喷涂制备铝合金块体材料塑性性能的方法
    一种提高冷喷涂制备铝合金块体材料塑性性能的方法_长沙理工大学_202511701044.1
    本发明公开了一种提高冷喷涂制备铝合金块体材料塑性性能的方法，将N份不同尺寸的氧化铝颗粒分别与铝合金粉末混合获得N份混合粉，采用冷气动力喷涂将N份混合粉按氧化铝颗粒从大至小的次序依次喷涂到铝合金基体表面形成N层结构层获得具有梯度晶粒沉积层的铝...
    2026-04-11
  • 一种燃机用细化晶粒高温合金及其轧制方法
    一种燃机用细化晶粒高温合金及其轧制方法_四川六合特种金属材料股份有限公司_202511700134.9
    本发明公开了一种燃机用细化晶粒高温合金及其轧制方法，属于高温合金制备技术领域。该方法包括以下步骤：对高温合金进行锻造开坯；将坯料加热并均温；进行粗轧；将粗轧后的方坯置于加热炉均温；进行精轧；将棒材空冷、取样并热处理。在粗轧后、精轧前的均温步...
    2026-04-11
  • 一种拉链双色着色工艺及拉链
    一种拉链双色着色工艺及拉链_浙江伟星实业发展股份有限公司_202511785650.6
    本发明涉及服装辅料技术领域，特别涉及一种拉链双色着色工艺及拉链。本发明提供的拉链双色着色工艺，包括：第一次着色、抛光和第二次着色。本发明通过两次着色工艺，控制着色部位不同，使拉链链带上的每颗链齿形成了两种颜色，使金属拉链表面形成双色撞色效果...
    2026-04-11
  • 一种应用于铁路货车轴承内圈悬挂磷化的装置
    一种应用于铁路货车轴承内圈悬挂磷化的装置_上海联合滚动轴承有限公司_202511968568.7
    本申请公开了一种应用于铁路货车轴承内圈悬挂磷化的装置，涉及悬挂装置领域，包括两个悬挂单元，两个所述悬挂单元之间通过至少一个连接件相连接；所述悬挂单元包括挂钩钢板与放置组件，所述放置组件安装在挂钩钢板上，所述放置组件包括至少一个放置结构；所述...
    2026-04-11
  • 一种无硫覆铜板用于汽车车板的处理工艺
    一种无硫覆铜板用于汽车车板的处理工艺_广东龙宇新材料有限公司_202511733048.8
    本发明提供一种无硫覆铜板用于汽车车板的处理工艺，包括：基于多模态传感器采集、数据归一化与异常剔除、沉积动态指纹库构建、主成分分析降维、支持向量回归的多参数耦合闭环控制方法；通过实时监测反应液浓度、温度、流速及基板状态，并融合厚度分布、表面粗...
    2026-04-11
  • 一种微波等离子体化学气相沉积装置
    一种微波等离子体化学气相沉积装置_江苏第三代半导体研究院有限公司_202512032818.2
    本发明属于微波等离子体化学气相沉积技术领域，公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置，包括微波谐振腔、承载组件、石英窗、微波电源、矩形波导和环形波导，微波谐振腔呈平端椭球形，其三个半轴长度分别记为a、b和c，(a=b)
    2026-04-11
  • 等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置
    等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置_罗博特科智能科技股份有限公司_202610110596.3
    本发明涉及光伏电池制备领域，具体提供了一种等离子体增强化学气相沉积工艺的配方调整方法和装置。该方法包括：获取等离子体增强化学气相沉积工艺机台在运行过程中的状态参数向量，并预测与其对应的预测膜层厚度；若预测膜层厚度不满足预设误差，选取状态参数...
    2026-04-11
  • 一种高温PECVD系统
    一种高温PECVD系统_拓荆科技股份有限公司_202511724511.2
    本申请涉及一种高温PECVD系统，该高温PECVD系统包括：喷淋板、进气口及冷却板，所述冷却板设置于所述喷淋板上方；所述冷却板与所述进气口配合形成进气道，用于输送清洁气体；所述进气道的出口结构为具有发散角度的渐变开口结构；所述喷淋板朝向所述...
    2026-04-11
  • 半导体生长设备
    半导体生长设备_申集半导体科技(徐州)有限公司_202610107689.0
    本发明提供了一种半导体生长设备，包括工艺腔体、基座、气体输送装置、支撑套体、顶盖、压紧组件和上旋转驱动装置；气体输送装置设于工艺腔体；支撑套体以动密封方式设于气体输送装置内且顶部伸出；上旋转驱动装置位于工艺腔体外，与支撑套体的顶部连接；顶盖...
    2026-04-11
  • 一种自修复涂层及其制备方法
    一种自修复涂层及其制备方法_杭州海康威视数字技术股份有限公司_202610100835.7
    本申请提供了一种自修复涂层及其制备方法，其制备方法包括以下步骤：将去离子水和硅烷偶联剂混合，得到硅烷溶液；在硅烷溶液中加入含铈化合物，得到混合溶液；将混合溶液加热至100℃~400℃，形成反应气体，采用原子层沉积法将反应气体沉积到金属材料表...
    2026-04-11
  • 一种原子沉积喷淋腔体及其温控方法
    一种原子沉积喷淋腔体及其温控方法_中步擎天新能源(湖北)有限公司_202610025997.9
    本发明涉及一种原子沉积喷淋腔体及其温控方法，包括：上腔盖、喷淋头、流场匀化装置、基片、下腔体、基座、多层分区温控衬底以及中央控制单元；所述上腔盖与所述下腔体可拆卸连接，共同构成一密闭的工艺腔室；所述基座固定于所述下腔体内，用于承载所述多层分...
    2026-04-11
  • 一种用于气相沉积制备硅碳负极材料的进气系统及其控制方法
    一种用于气相沉积制备硅碳负极材料的进气系统及其控制方法_至微新能(常州)科技有限公司_202511797937.0
    本发明公开了一种用于气相沉积制备硅碳负极材料的进气系统及其控制方法，该系统包括压力监测单元，用于实时监测气相沉积炉内的压力并传递给控制单元；气路单元，包括硅烷气路、乙炔气路和氮气气路，其中，氮气气路包括互相独立设置的主保护气路、乙炔吹扫/置...
    2026-04-11
  • 一种用于化学气相沉积炉多点进气的气体分配系统及方法
    一种用于化学气相沉积炉多点进气的气体分配系统及方法_湖南顶立科技股份有限公司_202511780300.0
    本发明公开了一种用于化学气相沉积炉多点进气的气体分配系统及方法。所述分配系统包括液相前驱体供给单元、蒸发混合单元和多级气体分配单元，首先通过压力控制闭环稳定液体流量控制器的工作压差，实现液相前驱体的精确蒸发与混合；然后利用二级分配模块将混合...
    2026-04-11
  • 硅前驱体组合物、高密度掺杂氮化硅薄膜及其制法和应用
    硅前驱体组合物、高密度掺杂氮化硅薄膜及其制法和应用_大连恒坤新材料有限公司_202511716095.1
    本发明涉及一种用于制备氮化硅薄膜的硅前驱体组合物及掺杂氮化硅薄膜的制备方法和应用，该硅前驱体组合物包括如化学式I和/或化学式II所示结构的含磷化合物。本发明含膦基和氨基的硅前驱体用于制备掺杂氮化硅薄膜中，由于膦基中的磷原子拥有孤对电子，具有...
    2026-04-11
  • 一种整流匀气环
    一种整流匀气环_拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司_202511705922.7
    本发明提供了一种整流匀气环，包括：位于外圈的匀气道，所述匀气道与一进气口连通；位于内圈的出气道，所述出气道与多个出气口连通；以及位于所述匀气道和所述出气道之间的匀气层；其中，所述匀气层内具有沿周向分布的多个匀气排，每个匀气排包括从上至下分布...
    2026-04-11
  • 腔室周向进气的匀气结构及其半导体处理设备
    腔室周向进气的匀气结构及其半导体处理设备_上海创熠微材料科技有限公司_202510933426.0
    一种腔室周向进气的匀气结构及半导体处理设备，其中，匀气结构设置在一半导体处理设备内，用于向所述半导体处理设备的反应腔输送反应气体，匀气结构包含一个外环导流层和一个内环匀气层，外环导流层与至少一个进气口气体连通，内环匀气层设置无缝环形出气口与...
    2026-04-11
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