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  • 本发明涉及真空镀膜领域,其公开了一种手机零配件生产用真空镀装置,包括机架,机架上设置有真空镀膜室与悬挂构件,悬挂构件包括切换组件与悬挂组件,一个真空镀膜室对应有两个悬挂组件,切换组件包括立柱支架,悬挂组件包括悬臂以及驱使悬臂发生上下移动的直...
  • 本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其是指一种膜层制备工艺、膜层结构及镜片,包括以下步骤:A.通过镀膜工艺成型硅靶层,在硅靶层成型过程中通入氧气与惰性气体,以使得硅靶层部分结构改性成型应力平衡结构;B.于硅靶层的一端镀膜成型AR增透层;C.于AR...
  • 本申请公开了一种耐盐腐蚀的电磁屏蔽柔性复合面料及制备方法,本方案通过采用Ni、Cu、Ag组合的金属膜作为屏蔽层,与传统单一金属膜相比,提高了屏蔽效能;另外,通过在银层表面引入氮化物,填补晶界空位,从而抑制AgCl形成;并且,通过在氮化银钝化...
  • 本发明涉及码盘产品镀膜工艺领域,具体涉及一种码盘产品高低反蓝膜镀膜工艺。本发明公开了一种码盘产品高低反蓝膜镀膜工艺,包括S1基材预处理、S2高反层镀膜、S3低反蓝膜镀膜、S4光刻胶涂覆、S5母版制作、S6显影和S7蚀刻七步。本发明通过参数精...
  • 本申请涉及半导体技术领域,公开了一种用于光掩模基板的铬系涂层及其制备方法、光掩模和半导体元件,该铬系涂层为纯铬涂层,具有单一微观结构或复合微观结构;其中,单一微观结构包括非晶态、多晶态及非晶‑纳米晶混合态的任一种;复合微观结构包括非晶态、多...
  • 本发明属于涂层技术领域,具体公开了一种热障涂层及其制备方法和应用,所述热障涂层包括陶瓷层和层叠设置在所述陶瓷层上的改性层;所述改性层的数量≥2;每层所述改性层的制备材料各自独立地选自Ti、Al、Al‑X合金中的至少一种;所述Al‑X合金中的...
  • 本发明公开了一种在钛合金表面制备多孔涂层的方法,属于材料涂层领域。本发明采用双辉等离子表面合金化装置,以一种或多种难熔金属元素作为靶材,以惰性气体作为保护气体,以钛合金作为工件,首先在钛合金表面制备出一定厚度的合金层,然后调转阴、源极电压,...
  • 本发明公开了一种真空宽温域自润滑复合膜及其制备方法和应用。本发明的真空宽温域自润滑复合膜包括依次层叠复合的Cr层、Cr‑Si‑C梯度过渡层和Mo‑S‑C‑Si层,Cr‑Si‑C梯度过渡层沿靠近Cr层至远离Cr层的方向,Cr的原子百分数从99...
  • 本发明涉及应用于光学元件领域的抗杂散光高透镀膜镜片制备方法,包括如下步骤:S1.预处理,S2.夹持,S3.多层镀膜,S4.后处理,在基材表面依次进行第一AR膜和第二AR膜的双面沉积工艺,能够有效抑制外界环境光对信号光的干扰,减少信号强度波动...
  • 本发明公开了一种稀土掺杂垂直磁各向异性氧化物薄膜及其制备方法,涉及硬磁稀土元素掺杂氧化物薄膜材料领域,其具有(001)面晶体取向,包括衬底和薄膜层,所述衬底为MgAl22O44(001),所述薄膜层为LaxxNi1‑x1‑xCo22O44(...
  • 一种具有超大铁电极化的铪基薄膜材料及制备方法,属于铪基氧化物铁电材料技术领域。该材料结构为:HfZrOxx薄膜材料由两相组成,HfZrO44为正交晶系,空间群为Pca211;HfZrO33为单斜晶系,空间群为Pc。通过在通过激光脉冲沉积制备...
  • 本发明公开了一种兼具高硬度与自润滑性能的AlCrSiWN/CrMoN纳米多层复合涂层及其制备工艺,属于涂层技术领域。该多层复合涂层是由AlCrSiWN高硬层与CrMoN自润滑层交替沉积形成的调制涂层,其总厚度3~4μm,周期厚度0.011~...
  • 本发明公开了一种钽掺杂氮化物涂层及其制备方法,制备方法包括以下步骤:1)、对基体表面进行预处理;2)、采用电弧离子镀方式,利用Cr靶在基体表面沉积得到0.15‑0.3μm厚的CrN过渡层;3)、采用电弧离子镀方式,利用CrAlSi靶和Ta靶...
  • 本发明公开了一种碟簧梯度硬化层稳定性增强工艺,包括:对碟簧基体进行超声波清洗与化学活化预处理;通过物理气相沉积与等离子体增强化学气相沉积交替构建由外向内硬度连续递减的梯度材料层;采用多段控温与高纯氩气保护的热处理强化工艺调控晶粒尺寸与残余应...
  • 本发明属于核能材料与表面工程技术领域,具体涉及一种MAX相涂层在铅铋环境中的应用。本发明通过在结构材料表面沉积MAX相涂层,能够显著提高蒸汽发生器的耐腐蚀性和耐磨性能。结果表明,在450°C、50N法向载荷、位移幅值75μm、振动频率25H...
  • 本发明涉及一种高光不锈钢零件加工用铣刀涂层及其制备,属于刀具保护涂层的技术领域。所述铣刀涂层由内向外依次包括底层、过渡层和表层,所述底层为TiAlN或CrN涂层;所述过渡层为AlCrN或AlTiSiN涂层,所述表层为TiSiN纳米晶层或DL...
  • 本发明公开了一种含AlTiN/TiB22多层的涂层刀具及其制备方法,所述涂层包括AlTiN/TiB22多层和表面TiB22功能层。所述AlTiN/TiB22多层包括不少于一层的AlTiN/TiB22结构单元,自刀具基体至TiB22功能层方向...
  • 本申请涉及表面处理技术领域,公开了一种润滑DLC薄膜及其制备方法以及滑片、压缩机。本申请所述润滑DLC薄膜包括底层的Cr层、中间层的Cr‑C过渡层,以及表层的DLC膜层;所述Cr‑C过渡层中Cr含量沿底层至表层的方向逐渐递减,C含量沿底层至...
  • 本发明涉及一种在陶瓷基板孔内镀膜的方法,其特征在于,包括将陶瓷基板装配在导电夹具上,将导电夹具装配在镀膜腔室内的转架上,将转架连接高频电源,对镀膜腔室进行抽气,开启加热系统对镀膜腔室进行烘烤处理;开启离子束清洗电源和偏压电源,对基底表面进行...
  • 本发明涉及高通量技术领域,特别涉及一种基于连续掩膜板的高通量固态电解质筛选方法及其系统。本发明提供的一种基于连续掩膜板的高通量固态电解质筛选方法,根据预设需求信息确定多种靶材以及每种靶材对应的连续掩膜板、镀膜顺序和镀膜运动参数;一种靶材镀膜...
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