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最新专利技术
  • 一种固定装置及夹具
    一种固定装置及夹具_苏州希盟智能装备有限公司_202511809171.3
    本发明属于夹具技术领域，公开了一种固定装置及夹具。固定装置包括压爪、导向机构及驱动机构。压爪用于对产品施加向下的压力使其固定在预设位置。导向机构包括沿预设路径设置的引导槽，压爪与引导槽滑动配合，并具有松弛位置与压持位置。本发明提供的固定装置...
    2026-03-15
  • 一种镀膜室内产品自翻转机构
    一种镀膜室内产品自翻转机构_深圳市三束镀膜技术有限公司_202511764934.7
    本发明公开一种镀膜室内产品自翻转机构，包括：旋转架，固定盘，驱动机构，与所述驱动机构连接的推出块，翻转架；所述推出块设置在固定盘的下方，所述旋转架包括：支撑架，分别与所述支撑架连接的上转盘、下转盘；所述固定盘设置在所述下转盘的下方，所述翻转...
    2026-03-15
  • 镀膜架及真空镀膜机
    镀膜架及真空镀膜机_锐石创芯(重庆)科技股份有限公司_202511515504.1
    本发明提出一种镀膜架及真空镀膜机，镀膜架包括支撑结构、承载组件和锁定组件，支撑结构设置有至少一个通孔，承载组件的数量为至少一个，承载组件设置于通孔内，承载组件相对支撑结构可转动连接。承载组件包括承载件、第一限位件和第二限位件，承载件设置有容...
    2026-03-15
  • 一种Ce-Co复合涂层及其PVD制备方法
    一种Ce-Co复合涂层及其PVD制备方法_四川中科氢能科技有限公司_202511716328.8
    本发明公开了一种Ce‑Co复合涂层及其PVD制备方法，涉及表面处理与功能涂层技术领域。该制备方法包括以下步骤：S1，对金属基底进行预处理，所述预处理方式包括预氧化处理、喷砂处理以及稀盐酸处理中的至少一种；S2，采用磁控溅射法在所述金属基底表...
    2026-03-15
  • 一种铜钢复合模组VC的表面改性方法及设备
    一种铜钢复合模组VC的表面改性方法及设备_深圳垒石热管理技术股份有限公司_202511556456.0
    本发明提供了一种铜钢复合模组VC的表面改性方法及设备，涉及均温板技术领域，方法包括：步骤1：将铜钢复合模组VC进行预处理，得到VC件一；步骤2：将步骤1得到的VC件一置于真空磁控溅射设备的真空腔体内，以钛靶为靶材，通入氩气与氮气的混合气体，...
    2026-03-15
  • 一种贫氧条件下耐高温液态铅铋冲刷的高熵合金涂层及其制备方法
    一种贫氧条件下耐高温液态铅铋冲刷的高熵合金涂层及其制备方法_中国核动力研究设计院_202511424595.8
    本发明提供了一种贫氧条件下耐高温液态铅铋冲刷的高熵合金涂层及其制备方法，属于涂层制备技术领域，所述高熵合金涂层中各元素及含量为：Al 15～30at.%，Fe 15～30at.%，Cr 15～30at.%，Mo 15～30at.%，Ti 1...
    2026-03-15
  • 一种NiCrSi合金靶材及其制备方法、应用
    一种NiCrSi合金靶材及其制备方法、应用_苏州六九新材料科技有限公司_202511733934.0
    本发明公开了一种NiCrSi合金靶材及其制备方法、应用，属于PVD镀膜应用靶材技术领域。所述NiCrSi合金靶材中，Cr含量≤50%，Si含量≤50%，Cr+Si含量≤90wt%；所述制备方法包括：将Ni粉、Cr粉和Si粉按比例球磨混料后装...
    2026-03-15
  • 一种p型导电特性氮化物透明导电薄膜的制备方法
    一种p型导电特性氮化物透明导电薄膜的制备方法_河北北方学院_202511522694.X
    本发明提供了一种p型导电特性氮化物透明导电薄膜的制备方法，公开了p型导电特性氮化铪透明导电薄膜的制备及应用，具体的以高纯金属铪为溅射靶材，分别以高纯氩气和高纯氮气为溅射工作气体和反应气体，基于调控工作气体和反应气体混合比例，通过控制氮化铪薄...
    2026-03-15
  • 溅射装置及钨膜的成膜方法
    溅射装置及钨膜的成膜方法_株式会社爱发科_202510634666.0
    本发明提供一种能够形成低电阻钨膜的溅射装置及成膜方法。具备：基板台架(2)，其在设置有钨材质的靶(3)的真空室(1)内保持基板(Sw)；以及高频电源(Hs)，其向基板台架(2)施加高频电力。在真空室(1)内生成第1等离子体气氛(Pm1)，当...
    2026-03-15
  • 一种真空蒸镀机门用无阻式观察窗
    一种真空蒸镀机门用无阻式观察窗_苏州佑伦真空设备科技有限公司_202511821375.9
    本发明涉及真空蒸镀机技术领域，具体为一种真空蒸镀机门用无阻式观察窗，包括安装框架，并且安装框架远离真空蒸镀机的腔门的一侧连接有外遮光机构，所述安装框架的内部通过支撑调控组件连接有第一防着板和第二防着板，且第二防着板前侧的安装框架内从后向前依...
    2026-03-15
  • 光学元件的镀膜方法及光学元件
    光学元件的镀膜方法及光学元件_信阳舜宇光学有限公司_202410903493.3
    本申请公开了一种光学元件的镀膜方法及光学元件。光学元件的镀膜方法包括：在光学元件的基板的第一表面形成具有图案的涂层，其中，第一表面的被图案覆盖的部分为有效区域，未被图案覆盖的部分为空白区域；在第一表面的至少空白区域处镀制第一膜层；去除第一表...
    2026-03-15
  • 一种真空镀膜装置
    一种真空镀膜装置_光驰科技(上海)有限公司_202410900814.4
    本发明属于真空镀膜技术领域，公开了一种真空镀膜装置。真空镀膜装置包括加料机构、蒸镀机构、第二移动组件、阀门和第一抽真空机构，加料机构包括第一壳体、放置件、第一移动组件、至少一个放料件、加热组件和多个储料件；蒸镀机构包括第二壳体和蒸镀加热件。...
    2026-03-15
  • 一种基于真空加热的HMDS喷涂装置
    一种基于真空加热的HMDS喷涂装置_三河建华高科有限责任公司_202511458859.1
    本发明涉及基片表面预处理领域，具体公开了一种基于真空加热的HMDS喷涂装置，包括：工艺腔体，由上盖与下层盘体构成，所述上盖通过气缸组件驱动升降，所述下层盘体底部设置有安装基板，所述下层盘体的外沿贯穿开设有气孔；加热盘体，通过若干根立柱固定安...
    2026-03-15
  • 一种用于硼中子俘获疗法的锂靶的梯度镀膜方法
    一种用于硼中子俘获疗法的锂靶的梯度镀膜方法_北京健联医疗科技有限公司_202511832030.3
    一种用于硼中子俘获疗法的锂靶的梯度镀膜方法，属于核医学治疗设备用靶材制备技术领域，包括以下步骤：以高于99.5%纯度的紫铜为基材，在所述基材表面通过真空磁控溅射镀膜法依次镀制多层混合膜；所述混合膜由抗起泡材料与金属锂组成，沿基材至远离基材方...
    2026-03-15
  • 一种上转换发光TCO薄膜及其制备方法和应用
    一种上转换发光TCO薄膜及其制备方法和应用_中山智隆新材料科技有限公司_202511378654.2
    本发明属于光伏材料技术领域，提供了一种上转换发光TCO薄膜及其制备方法和应用。本发明提供的氧化锡基靶材采用特定配比的主体和掺杂稀土氧化物作为主要组分，其中主体包括氧化锡、氧化锌和氧化钽，掺杂稀土氧化物包括X的氧化物，X选自Sm、Eu、Tb、...
    2026-03-15
  • 一种橡胶材料表面耐磨蚀类金刚石复合薄膜及其制备方法与应用
    一种橡胶材料表面耐磨蚀类金刚石复合薄膜及其制备方法与应用_华南理工大学_202511298963.9
    本发明公开了一种橡胶材料表面耐磨蚀类金刚石复合薄膜及其制备方法与应用。本发明的耐磨蚀类金刚石复合薄膜的组成依次包括Ti过渡层和DLC功能层。其中Ti过渡层是通过直流磁控电源溅射沉积到橡胶材料表面，能够大大提高薄膜的结合强度；DLC功能层在T...
    2026-03-15
  • DLC涂层及其制备方法
    DLC涂层及其制备方法_清华大学_202511215684.1
    本申请涉及磁过滤阴极真空电弧沉积技术领域，公开了DLC涂层及其制备方法，该DLC涂层包括涂层本体，所述涂层本体包括渐变层，在所述渐变层的厚度方向上，所述渐变层中sp3键含量呈线性变化。该DLC涂层具有优异的硬度性能和承载性能，同时结构稳定，...
    2026-03-15
  • 掩模板及其制备方法、显示面板
    掩模板及其制备方法、显示面板_武汉华星光电技术有限公司_202511384771.X
    本申请实施例提供一种掩模板及其制备方法、显示面板，该掩模板通过使第一掩模部远离导电层的一侧的表面的宽度，大于第一掩模部的其他部分的宽度；或者，第一掩模部靠近导电层的一侧的表面的宽度，大于第一掩模部的其他部分的宽度，使得第一掩模的一侧的表面的...
    2026-03-15
  • 用于制造掩模的方法和电子装置
    用于制造掩模的方法和电子装置_三星显示有限公司_202510866426.3
    本申请提供了用于制造掩模的方法和电子装置。根据实施例的用于制造掩模的方法包括提供基础层，在基础层上形成具有第一图案的图案层，在图案层上形成保护层，在基础层上形成第二图案，以及去除保护层。保护层包括低k材料。
    2026-03-15
  • 一种真空镀膜进料腔及进料方法
    一种真空镀膜进料腔及进料方法_哈尔滨工业大学_202511536865.4
    本发明属于真空镀膜领域领域，具体涉及到一种真空镀膜进料腔及进料方法。其中真空镀膜进料腔包括腔体组件、传动组件、均温加热组件、离子轰击清洗组件和抽真空组件；传动组件用于沿基材的板面方向输送基材；腔体组件位于传动组件的上游设置有进料舱门组件，下...
    2026-03-15
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