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最新专利技术
  • 双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用
    双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用_大连理工大学_202610038655.0
    双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用，其属于光刻材料与半导体制造技术领域。组合物以环状六核锡氧簇为活性组分，兼容常用溶剂与涂胶工艺，具有优异的热稳定性(在260℃以上才出现显著质量损失)，可满足涂胶、预烘及曝光等工艺条...
    2026-05-02
  • 一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法
    一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法_宁波润华全芯微电子设备有限公司_202511884983.4
    本发明申请涉及一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法，属于半导体制造及微纳加工技术领域，在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法包括：a)将所述基板加热并维持在一预设工艺温度；b)向加热的所述基板上施加包含第一溶剂的第一光刻胶溶液；所述第...
    2026-05-02
  • 一种光刻胶同步烘烤干燥装置系统与方法
    一种光刻胶同步烘烤干燥装置系统与方法_佛山晶洲光电装备科技有限公司_202512032814.4
    本发明提供了一种光刻胶同步烘烤干燥装置系统与方法，所述的光刻胶同步烘烤干燥装置系统包括处理腔室、溶剂收集模块、真空模块与加热模块，所述处理腔室用于容纳涂胶基材，所述溶剂收集模块的一端通过冷凝管道连接所述处理腔室，另一端通过抽气管道连接所述真...
    2026-05-02
  • 一种极紫外光刻光源产生方法和装置
    一种极紫外光刻光源产生方法和装置_扬州光瞳精密光学有限公司_202511390678.X
    本发明公开的属于极紫外光刻技术领域，具体为一种极紫外光刻光源产生方法和装置，通过采用光阴极微波电子枪与超导直线加速器相结合，能够产生电荷量大、重复频率高、能量高且能散极低的高品质电子束，经两级调制与压缩后，电子束实现完全群聚，最终在放大器波...
    2026-05-02
  • 基于RCWA改进算法的半导体光刻装置和光刻仿真优化方法
    基于RCWA改进算法的半导体光刻装置和光刻仿真优化方法_苏州矽行半导体技术有限公司_202511589798.2
    本发明提供了一种基于RCWA改进算法的半导体光刻装置和光刻仿真优化方法，属于半导体光刻领域，半导体光刻装置包括光刻光学系统、晶圆运动台、掩膜版机构、远场成像仿真系统和控制器；光刻仿真优化方法包括系统建模、RCWA计算获取近场电场分布、远场成...
    2026-05-02
  • 一种用于套刻误差测量的照明光路
    一种用于套刻误差测量的照明光路_魅杰半导体设备(无锡)有限公司_202511624929.6
    本发明公开了一种用于套刻误差测量的照明光路，包括沿光路依次分布的匀光棒、准直镜、孔径光阑、聚光镜、视场光阑、中继准直镜以及物镜，准直镜和聚光镜、中继准直镜和物镜分别形成4f系统；匀光棒用于收集和匀化光源光；准直镜用于将匀光棒输出端的发散光束...
    2026-05-02
  • 键合套刻偏移的检测方法、晶圆键合方法及键合设备
    键合套刻偏移的检测方法、晶圆键合方法及键合设备_芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司_202511683263.1
    本申请提供一种键合套刻偏移的检测方法、晶圆键合方法及键合设备，检测方法包括：提供第一晶圆和第二晶圆，第一晶圆和第二晶圆均设置有在正面的第一套刻标记和在背面的第二套刻标记；将第二晶圆放置第一键合载盘上，将第一晶圆放置在第二键合载盘上，通过键合...
    2026-05-02
  • 一种光学临近效应修正方法
    一种光学临近效应修正方法_杭州富芯半导体有限公司_202511686076.9
    本发明提供一种光学临近效应修正方法，包括：选择包含目标图形层与孔层的原始版图层，根据所述目标图形层与所述孔层的位置关系寻找所述目标图形层中的异常边；将所述异常边沿垂直于所述异常边且远离所述目标图形层的方向移动第一设定距离；将所述目标图形层中...
    2026-05-02
  • 一种光刻胶与显影液保温装置
    一种光刻胶与显影液保温装置_三河建华高科有限责任公司_202511695685.0
    本发明公开了一种光刻胶与显影液保温装置，涉及半导体领域；该光刻胶与显影液保温装置，通过在双层套管组件内部设置第一内流道、第二内流道组成恒温水流道，用于向喷嘴传输光刻胶和显影液的输液管经由恒温水流道穿过，恒温水控制装置主动循环恒温水流道内部的...
    2026-05-02
  • 一种基于分段比例限力的六自由度柔顺对接控制方法及系统
    一种基于分段比例限力的六自由度柔顺对接控制方法及系统_上海滴水微光科技有限公司_202511741997.0
    本发明公开了一种基于分段比例限力的六自由度柔顺对接控制方法及系统，涉及六自由度并联机构技术领域。本发明通过高精度的坐标变换解算、误差模型的定量分析、参数辨识的迭代优化，并结合分段比例限力策略，实现了对制造和装配偏差的实时补偿，确保末端执行器...
    2026-05-02
  • 基于接近式光刻的图形缩小方法
    基于接近式光刻的图形缩小方法_中国科学院长春光学精密机械与物理研究所_202511773005.2
    本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种基于接近式光刻的图形缩小方法，包括：S1：在基底外延片上，生长一层硬掩膜层。S2：在硬掩膜层上旋涂光刻胶，采用接近式光刻技术，经曝光与显影，将掩模版上的图案以预设的缩小尺寸转移到光刻胶上。S3：采用干法...
    2026-05-02
  • 光刻摇摆曲线拟合方法、装置、计算机设备及存储介质
    光刻摇摆曲线拟合方法、装置、计算机设备及存储介质_浙江大学_202511775060.5
    本申请涉及一种光刻摇摆曲线拟合方法、装置、计算机设备及存储介质。该方法包括：构建光刻机系统的仿真模型；基于光刻机系统的仿真模型，生成初始反射率和对应的初始晶圆膜层数据；初始反射率基于目标光刻参数得到；根据初始反射率以及初始晶圆膜层数据，对初...
    2026-05-02
  • 光刻机的晶圆对准物镜和晶圆对准系统
    光刻机的晶圆对准物镜和晶圆对准系统_上海新毅东半导体科技有限公司_202511784288.0
    提供了一种光刻机的晶圆对准物镜和晶圆对准系统。该光刻机的晶圆对准物镜包括：从物面到像面依次排列的第一镜组和第二镜组，所述第一镜组为负透镜组，且所述第二镜组为正透镜组；以及，孔径光阑，位于所述第一镜组朝向物面的一侧。这样，通过镜组和孔径光阑的...
    2026-05-02
  • 一种曝光机
    一种曝光机_江苏晋誉达半导体股份有限公司_202511806043.3
    本发明公开了一种曝光机，包括有定位座的机架，定位座上抽拉有载台、及载台定位校平机构，载台上设有板体快速定位机构和平面校准机构；载台下方的机架上设有微调平台，微调平台上设有带有片体吸附顶升机构的载片弹性调节、固定装置；机架上还设有上、下料移送...
    2026-05-02
  • 激光光束特性实时监测系统
    激光光束特性实时监测系统_光科芯图(北京)科技有限公司_202511807620.0
    本发明提供一种激光光束特性实时监测系统，包括：激光光源、分束器一、照明系统和光源监测装置，分束器一将激光光源发出的激光光束分成两束，分别进入照明系统和光源监测装置；光源监测装置的分束器二接收分束器一的激光光束并将其分成两束，透射至功率计和反...
    2026-05-02
  • 一种掩模版传输尺寸调节系统及光刻设备
    一种掩模版传输尺寸调节系统及光刻设备_新毅东(北京)科技有限公司_202511809045.8
    本申请提供一种掩模版传输尺寸调节系统及光刻设备，涉及半导体技术领域。该掩模版传输尺寸调节系统包括：传输机架和设置在传输机架上的传输手臂，传输手臂包括调距机构和托举机构；调距机构包括：线性导轨、第一滑块和第二滑块，第一滑块和/或第二滑块设置在...
    2026-05-02
  • 一种光刻机电磁驱动式可动镜组及其光刻机
    一种光刻机电磁驱动式可动镜组及其光刻机_上海现代先进超精密制造中心有限公司_202511843957.7
    本发明公开了一种光刻机电磁驱动式可动镜组及其光刻机。一种光刻机电磁驱动式可动镜组，包括镜片、镜座、电磁悬浮导轨、磁铁滑块、气浮导轨以及气浮滑块；所述镜片安装在所述镜座上，所述镜座上安装有气浮滑块，所述气浮滑块滑动设置在所述气浮导轨上；所述电...
    2026-05-02
  • 一种快速的化学放大光刻胶光刻潜像计算方法与系统
    一种快速的化学放大光刻胶光刻潜像计算方法与系统_北京理工大学_202511864393.5
    本发明公开了一种快速的化学放大光刻胶光刻潜像计算方法与系统，涉及化学放大光刻胶模型领域，可用于同步加速曝光过程与后烘过程的仿真，解决了现有快速仿真方法仅针对单一环节进行优化、无法整体提升光刻成像模拟效率的问题，提高了整体计算效率。其方案包括...
    2026-05-02
  • 一种静态全息光刻锁相系统和方法
    一种静态全息光刻锁相系统和方法_浙江大学杭州国际科创中心_202511870742.4
    本发明属于全息光栅加工技术领域，公开了一种静态全息光刻锁相系统和方法。本发明利用光源单元提供线偏振激光；利用分光模块将线偏振激光分离为对称分布的双束光，并分别引导至两个反射调节单元；两束光分别由两个反射调节单元反射，并分别经过两个电光调制器...
    2026-05-02
  • 一种光学邻近校正模型的建模方法、装置、设备和介质
    一种光学邻近校正模型的建模方法、装置、设备和介质_广州增芯科技有限公司_202511960606.4
    本申请实施例公开了一种光学邻近校正模型的建模方法、装置、设备和介质；该方法包括：获取掩模版图；基于掩模版图，对第一衬底进行离子注入仿真，得到各注入区域的第一量测数据，第一衬底内包括浅沟槽隔离区和有源区；根据各第一量测数据，确定各开口图形组对...
    2026-05-02
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