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  • 本申请公开了一种晶圆研磨的控制方法及系统,所述晶圆研磨的控制方法包括:根据晶圆的厚度初始分布数据,通过预先建立的厚度‑研磨速率模型预测得到初始研磨参数;所述厚度‑研磨速率模型,根据具有沟槽隔离结构的晶圆研磨制程数据构建;将所述初始研磨参数发...
  • 本发明公开了一种具有防护机构的钻石辊制造用研磨抛光设备,包括支撑底座,该具有防护机构的钻石辊制造用研磨抛光设备,还包括:空心支撑板,所述空心支撑板固定连接在支撑底座的右侧;支架,所述支架固定连接在支撑底座的左侧;钻石辊材料加工防护罩,本发明...
  • 本发明公开了集成在线修复功能的冷轧辊型研磨装置,涉及轧辊打磨技术领域,包括机台,机台端部设有转动夹盘,远离转动夹盘一侧设有顶座,转动夹盘和顶座用于对轧辊夹持,机台一侧设有电动丝杆,电动丝杆表面设有移动座,移动座一侧表面设有打磨组件,本发明通...
  • 本发明涉及机加工设备技术领域,尤其涉及一种大型轴承的滚子研磨机。包括机身,所述机身上设有能被旋转驱动的导轮和磨轮、以及位于导轮和磨轮之间的辅架;机身上还设有用于执行磨轮与导轮之间修整的修整装置;所述修整装置包括用于调整磨轮、辅架与导轮之间水...
  • 本发明涉及一种可调节压紧力的圆柱形零件端面研磨精密夹持装置及使用方法,特点为:夹持组件以沿轴向可移动沿径向被限位的方式安装于支座内部的安装通孔内;压紧力调节检测组件包括压力调节螺杆、压力导向杆、压力滑动块、施力弹簧和压力传感器;压力调节螺杆...
  • 本发明公开了一种调节式半导体材料研磨设备及其使用方法,涉及半导体研磨技术领域,其由机座及其上方的光纤夹盘组成,所述机座内设置有研磨盘主架。本发明中针对现有的光纤研磨机中存在的问题作出如下改进:1、设置多个研磨盘,每个工序对应一个研磨盘,分别...
  • 本申请提供了一种精密研抛机床及其加工方法,应用于精密加工技术领域,通过基座组件安装和支撑其他组件;并将加工组件、检测组件、工件承载组件以及环境控制组件,设置于基座组件上,加工组件用于对工件进行研磨或抛光处理;检测组件与所述加工组件间隔设置,...
  • 提供能够通过使垫温度快速降低到比常温低的温度而精密控制研磨率的研磨装置。研磨装置具备:支承研磨垫(3)并能够旋转的研磨台(2)、将基板(W)按压于旋转的研磨垫(3)的研磨面而研磨基板(W)的研磨头(1)、测定研磨面的温度的至少一个垫温度测定...
  • 本申请实施例提供了一种保持环修整装置、化学机械抛光单元及其控制方法和化学机械抛光设备,该装置包括基座、修整盘、检测件和控制器;修整盘,设置在基座的一侧,用于在抛光头带动保持环移动至保持环的被磨削面抵接在修整盘远离基座的侧面后,且在抛光头带动...
  • 本发明涉及精密加工领域,具体涉及一种用于研磨装置的线缆托盘、研磨装置及研磨方法。其中,线缆托盘用于收集待研磨元件的线缆,包括:底盘和围挡共同围合而成的线缆放置空间;集线孔,设置于底盘,底盘、集线孔能够和研磨盘同步转动;线缆能够通过集线孔进入...
  • 本发明涉及上料机构领域,公开了一种五轴磨床的上料机构及其使用方法,包括支撑机构、夹持单元和调节单元,所述夹持单元和调节单元均位于组件的内部,且调节单元则用于控制夹持单元的位置和高度,所述夹持单元与调节单元配合能够对工件进行夹持上料,所述支撑...
  • 本发明公开了一种干湿分离机构,包括:分隔仓,安装在湿抛区与换砂安装区之间,分隔仓具有连通湿抛区与换砂安装区的窗口;导向组件,安装在分隔仓内,包括对称布置的两个导向件;伸缩罩,其布置在窗口内并与导向组件滑动配合,伸缩罩第一端固定设置且第二端沿...
  • 本发明涉及磨床加工技术领域,且公开了一种应用于磨床的矿物铸件床身,包括:床身主体,由以环氧树脂为粘结剂的矿物铸件材料构成;导轨组件,安装于所述床身主体的表面;冷却组件,包括预埋于所述床身主体内部的冷却水管,所述冷却水管的两端分别与设置在床身...
  • 本发明公开了一种伺服直驱高频摆动机构,属于轴承加工设备技术领域,该摆动机构包括:壳体;摆动主轴,安装于壳体;伺服电机,其输出轴一端连接摆动主轴后端,另一端连接有伺服编码器,用于控制摆动主轴摆幅和摆频;摆头部件,连接摆动主轴前端,用于加工轴承...
  • 本发明公开了一种伺服连杆高频摆动机构,属于轴承加工设备技术领域,该机构包括:在支架外同侧设置的调节件和摆头;传动轴,通过电机驱动,一端与调节件连接;摆动轴,一端与摆头连接;连杆,其两端分别相对传动轴和摆动轴偏心设置,且分别转动连接调节件和摆...
  • 本发明涉及一种快换式齿轮箱刷头机构,其包括主轴、空心轴、滚刷刷头、上压盖、环状外壳、传动组件,主轴通过第一轴承与空心轴转动连接,主轴的顶端连接旋转驱动源,主轴的底端穿出空心轴,空心轴通过固定环与上压盖固定连接;滚刷刷头的顶面同轴连接有连接板...
  • 本发明为基于宏微协同与弹性补偿的姿态自适应恒力打磨装置,包括:基座平台、磁悬浮微动单元、配置为提供指向背离工件方向的弹性拉力的弹性补偿单元、六维力传感器、位于所述磁悬浮微动单元上方的中间浮动平台、用于实现相对于中间浮动平台的轴向大行程伸缩及...
  • 本发明属于抛光机领域,具体的说是一种抛光机用零件定位机构,包括底座,底座的顶部固定连接有支撑板,支撑板的一侧固定连接有顶板,顶板的底部滑动连接有支撑架,支撑架内壁的顶部固定连接有液压缸;本发明提供一种抛光机用零件定位机构,通过设置的第三弹簧...
  • 本发明公开一种用于塑料板加工的抛光设备,涉及塑料加工领域,旨在解决现有抛光夹具形状适配单一、换型繁琐、加工精度低的技术问题。设备包括加工台、移动装置、抛光机、安装支架、圆形基座、转动安装架、移动架、安装调节结构及夹具结构;安装支架上的圆形基...
  • 本申请的实施例涉及用于磨削或抛光的工件支架,特别涉及一种磨抛夹具。磨抛夹具包括基座,径向活动抵接组件,以及两个周向活动抵接件。基座设置成形成容纳空间;径向活动抵接组件设置成沿容纳空间的径向活动地设置于容纳空间;两个周向活动抵接件设置成沿容纳...
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