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最新专利技术
  • 一种浅滩路面整体牵引作业装置及方法
    一种浅滩路面整体牵引作业装置及方法_中国船舶重工集团应急预警与救援装备股份有限公司_202311851214.5
    本发明涉及通道板铺设技术领域，尤其涉及一种浅滩路面整体牵引作业装置及方法。本发明的浅滩路面整体牵引作业装置，包括牵引车和驳船，牵引车的后端牵引通道板路面的前端，多段通道板路面折叠放置于驳船上，通道板路面包括多个依次铰接的通道板。其能够解决现...
    2025-08-06
  • 一种浅滩路面卷式牵引作业设备及方法
    一种浅滩路面卷式牵引作业设备及方法_中国船舶重工集团应急预警与救援装备股份有限公司_202311850982.9
    本发明涉及浅滩路面铺设技术领域，尤其涉及一种浅滩路面卷式牵引作业设备及方法。本发明的浅滩路面卷式牵引作业设备，包括牵引车、驳船和作业装置，驳船用于放置路面板及停放牵引车、作业装置；作业装置包括卷筒、支撑架、驱动机构及牵引绞盘，支撑架位于驳船...
    2025-08-06
  • 一种浅滩路面横向叠放展开及连接机构
    一种浅滩路面横向叠放展开及连接机构_中国船舶重工集团应急预警与救援装备股份有限公司_202311843613.7
    本发明涉及滩涂路面铺设技术领域，尤其涉及一种浅滩路面横向叠放展开及连接机构。本发明的浅滩路面横向叠放展开及连接机构，包括牵引车、牵引装置和单元板支架，牵引车通过牵引装置牵引单元板支架上叠放的多层单元板链组移动，每层单元板链组均包括多个相互铰...
    2025-08-06
  • 一种新型软质路面及其牵引铺设装置
    一种新型软质路面及其牵引铺设装置_中国船舶重工集团应急预警与救援装备股份有限公司_202311865198.5
    本发明涉及轻质路面铺设技术领域，尤其涉及一种新型软质路面及其牵引铺设装置。本发明的新型软质路面，包括多个依次连接的路面板，路面板包括软质面板主体、内嵌套和加强杆，多个内嵌套沿软质面板主体的纵向依次间隔内嵌于软质面板主体，每个加强杆插设于对应...
    2025-08-06
  • 衣物处理设备的控制方法、装置和衣物处理设备
    衣物处理设备的控制方法、装置和衣物处理设备_无锡飞翎电子有限公司_202311844422.2
    本公开实施例提供一种衣物处理设备的控制方法、装置和衣物处理设备。衣物处理设备的控制方法包括：确定衣物处理设备的第一程序结束，控制驱动电机转动，以使驱动电机带动开门执行机构动作而实现门体的自动打开，其中第一程序包括洗涤程序和/或烘干程序。在衣...
    2025-08-06
  • 自动开门控制方法、装置和家电设备
    自动开门控制方法、装置和家电设备_无锡飞翎电子有限公司_202311832958.2
    本公开实施例提供一种自动开门控制方法、装置和家电设备，开门控制方法包括：确定接收到开门触发指令，控制驱动电机转动，并控制位置检测部件检测中间传动件的位置；确定中间传动件由初始位置移动至目标位置后又离开目标位置，控制驱动电机停止转动。因为目标...
    2025-08-06
  • 一种金属电镀组合物及其使用方法
    一种金属电镀组合物及其使用方法_安集微电子科技(上海)股份有限公司_202311838900.9
    本发明提供了一种金属电镀组合物，包括整平剂、铜盐、酸性电解质、卤离子源、加速剂、抑制剂和水；所述整平剂为式(I)的化合物：
    2025-08-06
  • 一种金属电镀组合物及其使用方法
    一种金属电镀组合物及其使用方法_宁波安集微电子科技有限公司_202311838842.X
    本发明提供了一种金属电镀组合物，包括整平剂，所述整平剂为式(I)的化合物：
    2025-08-06
  • 一种去除蚀刻残留物的化学组合物
    一种去除蚀刻残留物的化学组合物_宁波安集微电子科技有限公司_202311838926.3
    本发明提供了去除蚀刻残留物的化学组合物，包括：有机铵、缓蚀剂、有机溶剂、抑制剂、羟胺和去离子水，所述有机铵选自氢氧化胆碱、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙级氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、三丁基甲基氢氧化铵、苯甲基三甲基氢氧化铵、乙基三甲基氢...
    2025-08-06
  • 一种二氧化碳驱强化采油用不锈钢油套管及其制造方法
    一种二氧化碳驱强化采油用不锈钢油套管及其制造方法_中国石油天然气集团有限公司_202311838013.1
    本发明属于二氧化碳储存与利用技术领域，特别涉及一种二氧化碳驱强化采油用不锈钢油套管及其制造方法。一种二氧化碳驱强化采油用不锈钢油套管，所述不锈钢油套管的化学成分按重量百分比为：C：≤0.03%，Si：0.15%~0.3%，P：≤0.010%...
    2025-08-06
  • 用于诊断胃癌的甲基化生物标记物及其应用
    用于诊断胃癌的甲基化生物标记物及其应用_广州市基准医疗有限责任公司_202311841404.9
    本发明公开了用于诊断胃癌的甲基化生物标记物及其应用。本发明提供了一种用于诊断胃癌的甲基化生物标记物，其中，所述的甲基化生物标记物包含：等同于和/或互补于SEQ ID NO.1～6所示的靶序列和SEQ ID NO.1～6所示的靶序列的片段中的...
    2025-08-06
  • 用于制备交沙霉素的发酵培养基及其方法
    用于制备交沙霉素的发酵培养基及其方法_重庆乾泰医药研究院有限公司_202311834654.X
    本发明涉及一种用于发酵制备交沙霉素的发酵培养基，其中，所述发酵培养基包含碳源和氮源，所述碳源选自大豆油、花生油、菜籽油、橄榄油中的一种或多种；所述氮源选自玉米蛋白粉、芝麻饼粉、黄豆饼粉、棉籽饼粉、生物氮素、L‑亮氨酸中的一种或多种。利用本发...
    2025-08-06
  • 一种蚀刻残留物去除组合物
    一种蚀刻残留物去除组合物_安集微电子科技(上海)股份有限公司_202311830979.0
    本发明提供了一种铝铜蚀刻后残留物去除组合物及其应用。所述化学蚀刻组合物包括有机碱、缓蚀剂、有机溶剂、多元醇和去离子水等。采用本发明的组合物，能够有效去除蚀刻后残留物，同时避免对AlCu、TiN/Ti和氧化硅刻蚀，在半导体蚀刻工艺中具有良好的...
    2025-08-06
  • 一种高回收C3+轻烃优化瓦斯组分的方法
    一种高回收C3+轻烃优化瓦斯组分的方法_中国石油天然气股份有限公司_202311845999.5
    本发明属于轻烃回收技术领域，尤其是涉及一种高回收C3+轻烃优化瓦斯组分的方法，包括以下步骤：S1、利用焦化装置，常减压、汽油加氢、柴油精制、柴油改质装置高C3+燃料气集中收集；S2、利用液环泵将燃料送入入口分液罐，脱去其中的液相组分，气相组...
    2025-08-06
  • 一种钙钛矿量子点及制备方法、墨水及其应用
    一种钙钛矿量子点及制备方法、墨水及其应用_广东聚华印刷显示技术有限公司_202311841574.7
    本申请属于显示技术领域，涉及一种钙钛矿量子点及制备方法、墨水及其应用。所述钙钛矿量子点制备方法，包括如下步骤：提供卤素前驱体溶液；提供金属前驱体溶液；将所述金属前驱体溶液与所述卤素前驱体溶液混合，在第一温度下反应，得到钙钛矿量子点。本申请解...
    2025-08-06
  • 一种用于油田油井生产的降粘防蜡剂及其制备方法
    一种用于油田油井生产的降粘防蜡剂及其制备方法_中国石油天然气股份有限公司_202311847451.4
    本发明属于油田化学技术领域，尤其是涉及一种用于油田油井生产的降粘防蜡剂及其制备方法，包括以下质量百分比的组分：马来酸酐15.08％～17.92％、壬基酚聚氧乙烯醚18.01％～26.88％、苯甲胺溶液23.2％～25.4％、5％硫酸亚铁水溶...
    2025-08-06
  • 浸泡式介电组成物
    浸泡式介电组成物_博来得投资有限公司_202311835285.6
    一种浸泡式介电组成物，包含：30‑40重量份的全氟有机化合物；25‑30重量份的含氟聚体物；15‑20重量份的全氟己酮；7.5‑14重量份的含氟类醚；以及0.075‑0.4重量份的全氟硅氧烷。本发明提供了一种具灭火特性的绝缘、高效、环保、安...
    2025-08-06
  • 一种化学机械抛光液及其用途
    一种化学机械抛光液及其用途_安集微电子科技(上海)股份有限公司_202311839036.4
    本发明提供了一种化学机械抛光液，包括：包括：二氧化硅研磨颗粒、磺酸基化合物和含有两个及以上羟基的化合物。本发明中的化学机械抛光液具有较高的碳材料的去除速率，和较低的氮化硅去除速率，可实现较高的碳材料和氮化硅去除速率选择比。
    2025-08-06
  • 一种化学机械抛光液及其用途
    一种化学机械抛光液及其用途_安集微电子科技(上海)股份有限公司_202311838988.4
    本发明提供了一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、磺酸基化合物、唑类化合物及其衍生物和氧化剂。本发明中的化学机械抛光液能够提高氮氧化硅/铜去除速率选择比，能够对混合键合表面的碟型凹陷进行修复，满足不同的工艺需求。
    2025-08-06
  • 一种化学机械抛光液及其使用方法
    一种化学机械抛光液及其使用方法_安集微电子科技(上海)股份有限公司_202311838809.7
    本发明提供了一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒，含氮杂环化合物，有机酸，孪连阴离子表面活性剂和氧化剂。本发明的化学机械抛光液具有较高的铜的去除速率，同时能够显著降低抛光后图形晶圆上铜线区的碟型凹陷和介质层侵蚀。
    2025-08-06
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