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电解或电泳工艺的制造及其应用技术
  • 本实用新型涉及一种浓密机的絮凝剂二次稀释添加装置,包括中心布料筒、进料管、絮凝剂稀释水进口、絮凝剂原液进口、管道混合器、絮凝剂稀释后液管、絮凝剂加药阀、絮凝剂加药软管、絮凝剂加药进液管和接液漏斗;所述的进料管安装于中心布料筒的侧壁上,絮凝剂...
  • 本发明公开了一种四乙酰基植物鞘氨醇的提取纯化方法,属于化学纯化技术领域。本发明的四乙酰基植物鞘氨醇的提取具体是:在发酵液中加入无水甲醇,搅拌静置,抽滤,浓缩;采用水和乙酸乙酯的混合体系进行萃取,收集乙酸乙酯相,旋蒸浓缩;然后在浓缩液中加入正...
  • 本发明公开了一种960MPa级非调质型易焊接高强度中厚板及其制造方法,其成分重量百分比为C:0.05~0.20%,Si:0.15~0.95%,Mn:0.80~1.80%,Al≤0.20%,P≤0.02%,S≤0.02%,Ti:0.01~0....
  • 本发明属于喷涂技术领域,具体而言,涉及一种基于增压装置改善小粒径喷涂粉末流动性的方法,公开了一种基于增压装置改善小粒径喷涂粉末流动性的方法,旨在解决小粒径喷涂粉末流动性差,易堵塞且送粉流量不稳定,导致涂层孔隙率高、沉积效率低及重复性差等问题...
  • 本发明提供了一种高性能钛合金及其制备方法,其中,所述高性能钛合金中各构成元素及其各自所占重量百分比满足下述要求:V:3.6~4.5%,Al:4~4.9%,Y:0.15~0.35%,Eu:0.25~0.45%,Nb:1~2%,Sn:1.5~2...
  • 一种基于Tarkall‑C合金的稀土元素掺杂及多组元微合金化缸套铸铁及其制备方法,它属于船舶低速发动机领域。本发明要解决灰铸铁在高缸温、高负荷、低速度的工况下,容易出现磨损加剧、表面疲劳损伤的问题。基于Tarkall‑C合金的稀土元素掺杂及...
  • 本发明涉及啤酒酿造领域,具体涉及一种低糖型红曲甘蔗啤酒及其制备方法。该方法是以麦芽汁与甘蔗糖汁为原料,红曲活米为辅料,采用酵母与红曲霉共酵技术,及前发酵添加甘蔗汁与红曲活米、后发酵添加红曲米汁工艺,获得一款色泽鲜艳、口感独特的低糖型产品。本...
  • 本发明提供一种玻璃强化方法、强化玻璃以及保护膜,所述玻璃为锂铝硅玻璃,所述玻璃强化方法包括以下步骤:(1)对开料后的玻璃进行CNC边角打磨;(2)在CNC边角打磨之后进行扫光以抛光玻璃表面;(3)在扫光之后进行第一次蚀刻处理;(4)在第一次...
  • 本实用新型公开了一种用于盐浴氮化的气体分散搅拌装置,包括:盐浴槽,位于盐浴槽内的通气组件,以及与通气组件连通的扰动组件;通气组件包括:若干通气管,连通若干通气管的连接管;若干通气管环环相套设置,通气管开设若干出气口;扰动组件包括若干排气管,...
  • 本发明公开一种制备高致密度及均匀分布晶粒的高温合金棒材的方法,属于高温合金棒材加工技术领域。本发明通过研究Thermo‑Span低膨胀高温合金热变形参数,找到孔洞闭合区间,通过高温大变形使孔洞闭合,通过多火次自由锻造使棒材发生完全再结晶,获...
  • 基于晶界弱连接特性的电子器件结构及制备方法,属于电子信息材料与元器件领域。包括与高阻区一端连接的第一电极区以及与高阻区另一端连接的第二电极区;第一电极区和第二电极区中,至少有一个电极区通过低阻区连接到高阻区;所述低阻区、高阻区、第一电极区和...
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种气体喷射系统及半导体工艺设备。本发明提供的气体喷射系统,包括:气体供应模块,用于提供工艺气体;分区控制模块,用于接收所述工艺气体并分配至多个独立控制区域;喷嘴模块,包括多个喷头单元,多个喷头...
  • 本发明提供了一种锌锅均匀镀锌生产线,属于热镀锌锌锅技术领域,包括基座台面,基座台面的下方设置有锅体,锅体的上方设置有上支架,上支架与外部整体支架结构固定连接,上支架的底部固定连接有多个下支架,下支架的底部转动连接有主轴,还包括:压杆组件,压...
  • 一种金属钼膜的选择性沉积方法、沉积设备,方法包括:处理件具有暴露的活性表面和惰性表面,且活性表面和惰性表面之间具有沉积选择比;将处理件置于反应腔室内,进行多次沉积处理步骤,沉积处理步骤包括:载气携带不含氧元素的卤化钼前驱体进入反应腔室,与活...
  • 本发明涉及化工分离技术领域,具体涉及一种以鱼油或藻油为原料提取二十碳五烯酸和二十二碳六烯酸的方法。具体,对以粗酯型鱼油或粗酯型微藻油为原料获得的脂肪酸混合物采用金属离子溶液‑低共熔溶剂组成的三元双体系复配溶剂为萃取剂,进行萃取获得二十碳五烯...
  • 通过对包含斜方晶系的YF33晶相、不含斜方晶系以外的YF33晶相的喷涂粉进行等离子体喷涂,制造包含斜方晶系的YF33晶相、不含斜方晶系以外的YF33晶相、维氏硬度为350以上的氟化钇系喷涂被膜。能够提供被膜硬度高、暴露于卤素系气体等离子体时...
  • 本发明涉及磁控溅射技术领域,具体地说,涉及一种可调磁控溅射环装置。其包括基座和基座顶部密封安装的密封罩,所述基座与密封罩内腔之间形成真空环境,其特征在于:所述基座顶部设置有磁体腔,所述磁体腔内部形成有中心磁区和延伸磁区。本发明通过液压推杆驱...
  • 本发明涉及一种动态磁场调控系统及调控方法。该系统 : 信号采集模块,其被配置为采集磁控溅射镀膜过程中的工艺信号;信号分析与决策模块,其被配置为对所述工艺信号进行特征提取与分析,并根据分析结果选择磁场运动模式后发出对应模式指令;轨迹规划与执行...
  • 公开了用于快速调节衬底温度的反应器系统和方法。示例性反应器系统可以包括联接到反应器的反应室的一个或多个温度调节气体源。另外或可替代地,示例性反应器系统可包括升降销组件,其可以在处理期间移动衬底远离基座表面。
  • 本发明公开了一种3, 4‑二乙酰氧基‑1‑丁烯的制备方法,属于化工技术领域。包括:所述方法包括以下步骤:将含有1, 4‑二乙酰氧基‑2‑丁烯、催化剂和助剂的原料混合、加热,经过重排反应得到3, 4‑二乙酰氧基‑1‑丁烯;所述催化剂选自过渡金...
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