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最新专利技术
  • 一种钛合金表面高硬度复合涂层的制备方法
    一种钛合金表面高硬度复合涂层的制备方法_桂林电子科技大学_202511445967.5
    本发明涉及一种钛合金表面高硬度复合涂层的制备方法，对钛合金基材进行预处理去除表面氧化层，得到处理后的钛合金基材；将所配制好的高熵合金粉末进行干燥，均匀铺设在所述处理后的钛合金基材表面，得到铺粉后的钛合金基材；在保护气气氛下对所述铺粉后的钛合...
    2026-03-22
  • 油气输送管件用抗冲蚀涂层及其制备方法
    油气输送管件用抗冲蚀涂层及其制备方法_中国石油天然气集团有限公司_202411011637.0
    本发明公开的油气输送管件用抗冲蚀涂层及其制备方法，包括Ti22AlC5％～30％、Ti22AlN 2％～20％，余量为Ni基合金。本发明采用强韧性Ni基合金为基体，保证涂层的强韧性和耐磨性；选择三元MAX相Ti22AlC、Ti22AlN为增...
    2026-03-22
  • 一种用于回转零件表面耐磨/耐蚀强化的装置及工艺方法
    一种用于回转零件表面耐磨/耐蚀强化的装置及工艺方法_浙江工业大学_202511738684.X
    本发明公开了一种用于回转零件表面耐磨/耐蚀强化的装置及工艺方法，方法包括：S1、设备开机自检；S2、根据回转零件尺寸及材质，夹紧回转零件并设置回转零件转速；S3、根据回转零件转速对预处理模块进行相应参数设置；S4、根据回转零件材质选择喷涂粉...
    2026-03-22
  • 压铸加工的可阳极氧化铝合金及其制备方法
    压铸加工的可阳极氧化铝合金及其制备方法_东莞市桦研新材料科技有限公司_202511609174.2
    本发明涉及铝合金技术领域，尤其涉及一种压铸加工的可阳极氧化铝合金及其制备方法，包括：步骤S1，对压铸铝合金的粗坯进行表面处理和表面特征检测，确定压铸表面高度差数据和第一缺陷特征数据；步骤S2，基于检测数据确定待处理表面厚度；步骤S3，根据待...
    2026-03-22
  • 一种铝合金散热器及表面冷喷铜工艺
    一种铝合金散热器及表面冷喷铜工艺_安徽新富新能源科技股份有限公司_202511568627.1
    本发明公开了一种铝合金散热器及表面冷喷铜工艺，属于散热器加工技术领域。通过选用高纯度球形铜粉，经表面粗化预处理后，在惰性气体保护下，利用400‑600℃的加热气体将铜粉以300‑800m/s速度高速撞击基体，经3‑8次分层喷涂形成0.1‑0...
    2026-03-22
  • 热镀锌工艺钝化液智能闭环控制系统
    热镀锌工艺钝化液智能闭环控制系统_天津市友发德众钢管有限公司_202511352522.2
    本发明公开了热镀锌工艺钝化液智能闭环控制系统，具体涉及工业过程自动控制技术领域，用于解决现有钝化液控制方式滞后于间歇式生产节拍变化导致参数波动大的问题；是通过信号监测模块识别生产节拍周期并计算预估补偿值，熵权生成模块基于符号序列信息熵生成权...
    2026-03-22
  • 一种基于植酸制备的金属防锈蚀处理液的制备方法
    一种基于植酸制备的金属防锈蚀处理液的制备方法_蚌埠学院_202511601621.X
    本发明公开了一种基于植酸制备的金属防锈蚀处理液的制备方法，涉及植物化工与天然产物提取领域。该液体通过植酸与金属离子络合、加入防腐剂和稳定剂，并使用水或水/乙醇作为溶剂，形成均匀致密的保护膜，能有效隔绝腐蚀介质如水分、氧气等。本发明处理液对碳...
    2026-03-22
  • 一种低成本简单工艺制备高熵氧化物陶瓷涂层的方法及应用
    一种低成本简单工艺制备高熵氧化物陶瓷涂层的方法及应用_中国科学院兰州化学物理研究所_202511613034.2
    本发明公开了一种低成本简单工艺制备高熵氧化物陶瓷涂层的制备方法和应用，属于宽温域耐磨防护领域。具体采用溶胶‑凝胶法制备以(Mg0.25(1‑x)0.25(1‑x)Co0.25(1‑x)0.25(1‑x)Ni0.25(1‑x)0.25(1‑x...
    2026-03-22
  • 一种ALD设备的温度控制方法、装置及电子设备
    一种ALD设备的温度控制方法、装置及电子设备_青岛思锐智能科技股份有限公司_202511635579.3
    本申请提供了一种ALD设备的温度控制方法、装置及电子设备，涉及一般控制或调节系统技术领域，在针对下一时刻的ALD设备内的加热装置的功率控制进而控制ALD设备反应腔室内的温度时，通过递推最小二乘算法根据当前时刻的温度实测值、上一时刻的控制输出...
    2026-03-22
  • 一种板式PECVD设备进气与射频系统
    一种板式PECVD设备进气与射频系统_福建省金石能源股份有限公司_202511758908.3
    本发明涉及光伏设备领域，公开了一种板式PECVD设备进气与射频系统，设置于设备的腔盖上，其包括九个特气进气口、四个远程等离子体源进气口以及与特气入口在数量和空间分布上相协同的射频电源馈入系统、具备主动调节能力的多级分流气体管路系统。九个特气...
    2026-03-22
  • 成膜方法、保护膜以及基板处理装置
    成膜方法、保护膜以及基板处理装置_东京毅力科创株式会社_202510956018.7
    本公开提供一种成膜方法、保护膜以及基板处理装置，抑制微粒的产生。一种成膜方法，是在等离子体处理装置中在处理室内的构件的表面形成保护膜的成膜方法，其中，向所述处理室内供给包含第一含硅气体和第一含氧气体的处理气体，并向上部电极供给用于生成等离子...
    2026-03-22
  • 一种PECVD无遮挡全面镀膜工艺结构
    一种PECVD无遮挡全面镀膜工艺结构_无锡爱尔华光电科技有限公司_202511896563.8
    本发明涉及镀膜技术领域，具体为一种PECVD无遮挡全面镀膜工艺结构，其能够保障成膜均匀性，提高基板利用率和生产良率，降低成本，其包括下部电极和遮挡框，所述下部电极上开设有氩气通孔，所述氩气通孔连通氩气进气管，所述电极的上表面边缘设置有绝缘框...
    2026-03-22
  • 一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置
    一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置_江苏协鑫特种材料科技有限公司_202511789640.X
    本申请涉及化学气相沉积设备技术领域，且公开了一种半导体高纯碳化硅涂层用化学气相沉积装置，包括活动设置在反应箱内的载板，且载板由设置在反应箱内的电机驱动旋转，载板的外边缘固定安装有若干圆周阵列分布的载片装置，所述载片装置包括倾斜设置的基座，基...
    2026-03-22
  • 转盘结构及镀膜设备
    转盘结构及镀膜设备_常州捷佳创精密机械有限公司_202511712602.4
    本发明公开了一种转盘结构及镀膜设备，包括：设置在炉体外的驱动装置，其输出端连接有传动轴，传动轴部分伸入炉体内并连接有第一齿轮组，第一齿轮组连接有基座，基座沿周向并间隔设置有多个电极座，每个电极座或任意两个相邻的电极座之间均与对应的载具电连接...
    2026-03-22
  • 沉积装置
    沉积装置_三星显示有限公司_202510977725.4
    本公开涉及包括衬底支承台的沉积装置。根据实施方式的用于沉积的衬底支承台包括：基础部分；边缘夹持部分，位于基础部分的侧壁的侧表面上；以及加热器，位于边缘夹持部分上。边缘夹持部分包括主部分、第一突出部分和第二突出部分，第一突出部分和第二突出部分...
    2026-03-22
  • 一种用于PECVD设备的转动架装置
    一种用于PECVD设备的转动架装置_深圳蓝海源科技有限公司_202410372410.2
    本发明涉及PECVD生产设备领域，尤其是指一种用于PECVD设备的转动架装置，其包括转动架机构、公自转驱动机构以及浮动承载机构，转动架机构可转动地设置在浮动承载机构上，公自转驱动机构与转动架机构驱动连接；转动架机构包括固定支架以及多个转架组...
    2026-03-22
  • 一种原子层薄膜沉积工艺设备
    一种原子层薄膜沉积工艺设备_北京中科聚微半导体设备有限公司_202511990121.X
    本发明公开了一种原子层薄膜沉积工艺设备，涉及原子层薄膜沉积技术领域，包括箱体和调节组件，所述箱体的后侧安置有喷气头，且箱体的下部固定有排气管，所述箱体的内部设置有隔板，所述调节组件贯穿于箱体的内部，且调节组件包括电缸。本发明通过隔板和密封板...
    2026-03-22
  • 一种薄膜沉积设备用喷淋头气体混合结构
    一种薄膜沉积设备用喷淋头气体混合结构_无锡金源半导体科技有限公司_202511982740.4
    本发明公开了一种薄膜沉积设备用喷淋头气体混合结构，属于半导体生产技术领域，包括两个用于调节输入气体压力的调压机构，调压机构上设置有用于调节输入气体流速的调速机构，调速机构上设置有用于将多种气体进行混合的混合机构；本发明设置的调压机构能够实时...
    2026-03-22
  • 一种光学镜片表面多层复合增透膜的制备方法
    一种光学镜片表面多层复合增透膜的制备方法_中国科学院山西煤炭化学研究所_202511677078.1
    本发明属于光学薄膜设计及制备技术领域，具体涉及一种光学镜片表面多层复合增透膜的制备方法。制备方法包括：在光学镜片表面依次进行原子层沉积形成过渡层、高折射率层、低折射率层、高折射率层和封装层。本发明所述的原子层沉积方法，能够在不同曲率半径的非...
    2026-03-22
  • 一种基于ALD半导体设备的气体喷淋装置
    一种基于ALD半导体设备的气体喷淋装置_靖江嘉昇和真空技术有限公司_202511593803.7
    本发明涉及半导体工艺设备技术领域，具体涉及一种基于ALD半导体设备的气体喷淋装置，包括盘架，盘架还包括进气腔室、转运腔室和出口板架，进气腔室内设有筒状支撑件，转运腔室内具有多个输气管道，所述筒状支撑件顶部固定安装有混匀件，混匀件内具有气室腔...
    2026-03-22
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