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  • 本发明公开了一种细晶高密度高纯钨靶材的制备方法,属于靶材制备技术领域,包括以下步骤:将钨粉压制成坯料;将坯料放置于镂空的托板上,在持续流动供应的氢气气氛下将坯料烧结为钨多孔件,坯料位于托板沿氢气供应方向的上游一侧,部分覆盖镂空穿孔,上游氢气...
  • 本发明公开了一种PVD镀膜装置,包括靶材,用于受轰击后释放带正电的靶材料颗粒;旋转平台,其上设置有受镀基板,并沿固定旋转方向匀速转动;受镀基板;以及负电压板,设置于旋转平台内部,所述负电压板为与受镀基板表面适配的环形结构。本发明通过带负电的...
  • 本发明公开了一种具有高(110)取向的难熔金属钨涂层及其制备方法,该钨涂层采用电弧离子镀工艺制备,呈现(110)择优取向且该取向织构系数不低于2,该制备方法包括:一、基体预处理;二、利用高能钨离子流轰击清洗基体;三、在清洗后的基体上沉积过渡...
  • 本发明属于材料表面改性技术领域,具体涉及耐腐蚀TiN/AlSiN纳米多层涂层及其制备方法和应用。本发明的耐腐蚀TiN/AlSiN纳米多层涂层按照如下步骤制备:旋转衬底,在旋转过程中交替间歇式靠近Ti靶和AlSi靶,采用多弧离子镀法,于衬底上...
  • 本发明涉及卷对卷真空蒸镀技术领域,具体为一种改善卷对卷真空蒸镀膜面爆筋的方法,步骤包括:步骤1将基膜装载至卷对卷真空蒸镀机的放卷轴,调整基膜走向,固定于收卷轴,抽真空,降低蒸发室本底真空度;步骤2蒸镀前,对基膜进行低温等离子体活化处理;步骤...
  • 本发明属于热整形炉技术领域,公开了一种热整形装置。该热整形装置包括炉体和炉盖。炉体竖直放置,且炉体的顶端设有开口。炉盖能够封堵于炉体的顶端开口,炉盖上间隔设有第一通孔和两个第二通孔,第一通孔位于两个第二通孔之间,第一通孔与第一加工件的第一管...
  • 提供一种用于在由处理滚筒(170)支撑的柔性基板(160)上沉积材料的蒸发设备(100)。所述蒸发设备包括第一组蒸发坩埚(110)和气体供应管(130)。第一组蒸发坩埚(110)沿第一方向排列在第一线(120)中,以产生将沉积于柔性基板(1...
  • 本发明属于真空处理技术领域,公开了一种真空处理装置。该真空处理装置包括壳体、工件装载组件和驱动组件,通过将壳体分为顶部壳体、中间主壳体和底部壳体三部分,将真空处理源设置在底部壳体内,将中间主壳体叠设在底部壳体上,将工件装载组件至少部分设置在...
  • 本发明涉及电池集流体技术领域,具体涉及一种抗疲劳Cu‑Zr成分梯度合金薄膜及其制备方法和应用。抗疲劳Cu‑Zr成分梯度合金薄膜由基体和两个梯度膜制成,两个梯度膜对称沉积于基体的两侧,任一梯度膜沿厚度方向自表面至基体,由表面层、中间层、过渡层...
  • 本发明公开了一种抗疲劳梯度Ag多层结构金属薄膜及其制备方法和应用,属于电池集流体技术领域。本发明的抗疲劳梯度Ag多层结构金属薄膜由基体和两个梯度Ag膜制成,两个梯度Ag膜对称沉积于基体的两侧,每个梯度Ag膜均由若干相同厚度的Ag层组成,各A...
  • 本发明公开了一种改善金属件边缘异色的镀膜方法,包括步骤:施加第一偏压P1,开启Cr靶电源,设定第一功率W1,溅射第一时间T1形成过渡层;通入氩气和氮气,调节气压为第一气压值p1,设定第二偏压P2,开启Si靶电源,设定第二功率W2,溅射第二时...
  • 本发明属于金属材料表面涂层技术领域,具体涉及一种应用于镁合金生物材料表面的涂层结构及其制备方法。为解决医用镁合金材料腐蚀快的问题,本发明提出在镁合金基体表面先后涂覆聚四氟乙烯和铁基材料,实现镁合金材料腐蚀速率调控,提高医用镁合金植入物的医学...
  • 纳米粉末包含纳米粒子,该纳米粒子具有带有薄膜涂层的核心粒子。核心粒子与薄膜涂层独立地由含稀土金属氧化物、含稀土金属氟化物、含稀土金属氟氧化物或其组合中的至少一个所形成。可使用诸如原子层沉积(ALD)的非直视性技术形成薄膜涂层。本文也公开由纳...
  • 本发明公开了一种耐高温耐腐蚀抗冲击超厚碳化硼涂层及其制备方法与应用。所述耐高温耐腐蚀抗冲击超厚碳化硼涂层包括在其厚度方向上于基体表面设置的多周期交替结构,所述多周期交替结构包括层叠设置的多个周期单元,每一所述周期单元包括金属过渡层和碳化硼层...
  • 本发明提出一种多功能镓基半导体薄膜及其制备方法与应用。本发明方法是基于“诱导契合生长”方法的镓基半导体薄膜的制备技术,通过在衬底上首先制备一个镓薄膜,利用其富镓的特性诱导镓基半导体薄膜的生长,生长过程不依赖于严格的衬底晶格匹配,能够在各种基...
  • 本发明实施例提供了纳米级调平支撑装置和蒸镀设备。所述纳米级调平支撑装置包括:支撑结构,具有支撑放置面,用于支撑掩膜板,所述支撑结构上设置有安装槽;调平结构,固定于所述安装槽上,所述调平结构包括促动器和支撑部,所述促动器用于驱动所述支撑部以纳...
  • 本公开涉及沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置。所述沉积掩模包括:掩模框架,具有多个单元开口并且包括限定所述多个单元开口的肋区;以及隔膜,所述隔膜包括:多个单元区,分别设置在所述多个单元开口上方并且各自具有多个像素开口;和栅格区,设置在所...
  • 本发明公开了一种耐磨且抗腐蚀的不锈钢表面加工的制备方法。属于金属材料表面处理技术领域。该方法通过对不锈钢基材进行预处理、电化学改性、磁控溅射镀膜及后处理等步骤,在不锈钢表面形成具有优异耐磨和抗腐蚀性能的复合改性层。本发明通过优化各工艺参数,...
  • 本发明公开了一种提高红外膜透过率的镀膜方法及其应用。提高红外膜透过率的镀膜方法包括:先对基板进行离子源清洁处理,再在所述基板上制作形成红外膜,所述红外膜包括交替堆叠设置的高折射率层和低折射率层,其中,所述离子源清洁处理采用的电压为100V~...
  • 本发明属于热电材料领域,具体涉及一种用于抑制热电材料或热电器件氧化和升华的防护涂层的制备方法。针对热电器件高温端材料的氧化和升华问题,本发明提供一种用于抑制热电材料或热电器件氧化和升华的防护涂层的制备方法,包括:先将热电材料或热电器件包埋于...
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