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最新专利技术
  • 光源移动机构及影像仪
    光源移动机构及影像仪_深圳市中图仪器股份有限公司_202511949523.5
    本申请提供一种光源移动机构及影像仪，该光源移动机构，包括光源移动单元，光源移动单元包括：第一连接座，第一连接座上设置有导引孔；第一丝杠螺母副，包括第一丝杠以及套设在第一丝杠上的第一螺母，第一螺母与第一连接座连接，第一丝杠螺母副被配置为带动第...
    2026-05-02
  • 补光灯模组及电子设备
    补光灯模组及电子设备_维沃移动通信有限公司_202512013457.7
    本申请公开了一种补光灯模组及电子设备，属于光学器件技术领域，补光灯模组包括导光件和发光组件；导光件具有相背设置的第一表面和第二表面，第一表面具有第一入光面，第一入光面具有第一纹理区和第二纹理区；发光组件包括多个第一发光件和多个第二发光件，第...
    2026-05-02
  • 一种光学镜头外加热除雾结构及除雾方法
    一种光学镜头外加热除雾结构及除雾方法_中山北方晶华精密光学有限公司_202511901075.1
    本发明公开了一种光学镜头外加热除雾结构及除雾方法，包括：环形半导体制冷片，用于对镜片降温，所述铜箔导热垫与镜片接触；本发明通过环形半导体制冷片、铜箔导热垫与控制模块等结构的设计，蓝牙模块连接终端，用户可在终端上提前输入户外温湿度参数，控制模...
    2026-05-02
  • 投影仪
    投影仪_精工爱普生株式会社_202511100972.2
    投影仪。在使用光路移位器件的情况下，抑制如下状况：特别是由于红色频带的旋转效率减少而导致色调恶化、明亮度降低。投影仪具备：第1液晶面板，其对第1波段的光进行调制而生成第1图像光；第2液晶面板，其对具有比第1波段的中心波长长的中心波长的第2波...
    2026-05-02
  • 光源模组、发光装置、照明系统及显示设备
    光源模组、发光装置、照明系统及显示设备_上海鲸跃蓝途光电有限公司_202411081142.5
    本申请涉及一种光源模组、发光装置、照明系统及显示设备。第一透反组件中，第一偏振元件能够透过第一偏振态光线并反射第二偏振态光线，第一透反膜能够透过第一光线并反射第二光线和第三光线；第二透反组件中，第二偏振元件能够透过第一偏振态光线并反射第二偏...
    2026-05-02
  • 反射型空白掩膜及其制造方法
    反射型空白掩膜及其制造方法_信越化学工业株式会社_202511057825.1
    本发明提供反射型空白掩膜及其制造方法，所述反射型空白掩膜能够以较低的成本且较高的产出量制作基准标记，并能够提升检测器检测位置的精度。该反射型空白掩膜的特征在于，至少具备：基板、设置于该基板上且反射曝光光线的多层反射膜及设置于该多层反射膜上且...
    2026-05-02
  • 光罩以及检测光罩套刻精度的方法
    光罩以及检测光罩套刻精度的方法_湖北星辰技术有限公司_202511999921.8
    本申请提供了一种光罩以及检测光罩套刻精度的方法；该光罩包括：第一子光罩和第二子光罩，第一子光罩上设置有第一掩膜标识，第一掩膜标识包括沿第一方向排布的N个第一条状图形，N个第一条状图形在第二方向上的两端分别对齐；第二子光罩上设置有第二掩膜标识...
    2026-05-02
  • 掩膜、制造掩膜的方法以及制造半导体装置的方法
    掩膜、制造掩膜的方法以及制造半导体装置的方法_台湾积体电路制造股份有限公司_202511506999.1
    本发明提供一种掩膜、制造掩膜的方法以及制造半导体装置的方法。掩膜包括反射多层叠层、在反射多层叠层之上的盖层、在盖层之上的吸收层，以及以下的至少一者：在反射多层叠层与盖层之间的缓冲层，和在盖层与吸收层之间的保护层。制造掩膜的方法包括形成反射多...
    2026-05-02
  • 光掩模位置精度的补偿方法
    光掩模位置精度的补偿方法_合光光掩模科技(安徽)有限公司_202511762788.4
    本发明提供了一种光掩模位置精度的补偿方法，包括：提供一光掩模，扫描光掩模以获得光掩模的位置精度分布图，在位置精度分布图中标注畸变区、核心功能区和外围区；建立基于距离衰减的权重分配模型，给核心功能区分配第一权重值，给外围区按距离衰减分配第二权...
    2026-05-02
  • 基于相关层辅助的四色拆分方法
    基于相关层辅助的四色拆分方法_上海华力集成电路制造有限公司_202511767522.9
    本申请公开了一种基于相关层辅助的四色拆分方法，包括：S1：提供目标金属截断层的版图文件；S2：提供符合预设有的拆分规则的矩阵通解；S3：根据矩阵通解，编写脚本对目标金属截断层的版图文件进行Y方向的图像拆分，得到Y方向参考图形；S4：根据矩阵...
    2026-05-02
  • 掩模版图的双重图案化拆分方法及相关产品
    掩模版图的双重图案化拆分方法及相关产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511867451.X
    本发明提供了一种掩模版图的双重图案化拆分方法及相关产品。拆分方法包括将掩模版图分割成多个区块；将多个区块分配至多个从机，由各从机对分配到的一个或多个区块分别构建冲突图，并对各自的冲突图进行节点染色；从各从机获取冲突图并汇总，并将汇总后的冲突...
    2026-05-02
  • 面向纳米压印光刻制造深度差异结构的柔性偏摆调控装置
    面向纳米压印光刻制造深度差异结构的柔性偏摆调控装置_阿米精控科技(山东)有限公司_202511799736.4
    本发明公开了面向纳米压印光刻制造深度差异结构的柔性偏摆调控装置，涉及微纳制造技术领域，具体包括基座、固定在基座顶部的支架，所述基座的顶部分别设置有水平滑台、第一丝杠行进机构，所述第一丝杠行进机构的输出结构与水平滑台传动连接，且水平滑台的顶部...
    2026-05-02
  • 含硅的抗蚀剂膜形成用组成物、及图案形成方法
    含硅的抗蚀剂膜形成用组成物、及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511088000.6
    本发明涉及含硅的抗蚀剂膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明为一种含硅的抗蚀剂膜形成用组成物，其形成LWR及CDU优良的超微细的抗蚀剂图案，形成的抗蚀剂膜在和有机材料之间具有高蚀刻选择性，且不会发生因为图案化结束后残存的残渣导致缺陷的图案形...
    2026-05-02
  • 抗蚀干膜组合物、抗蚀干膜、抗蚀干膜层叠体、抗蚀图案及电子器件
    抗蚀干膜组合物、抗蚀干膜、抗蚀干膜层叠体、抗蚀图案及电子器件_杭州福斯特电子材料有限公司_202511483049.1
    本发明公开一种抗蚀干膜组合物、抗蚀干膜、抗蚀干膜层叠体、抗蚀图案及电子器件，涉及高分子材料技术领域。抗蚀干膜组合物包括碱溶性树脂、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物和光引发剂，氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的结构式如式I所示，其中，R11选...
    2026-05-02
  • 色阻组合物、彩色滤光层及显示面板
    色阻组合物、彩色滤光层及显示面板_TCL华星光电技术有限公司_202511725776.4
    本申请涉及一种色阻组合物、彩色滤光层及显示面板；色阻组合物包括着色材料以及功能组分，着色材料包括第一色材，第一色材包括如式(1)所示结构的化合物：；其中，M选自金属离子；R11至R1616各自独立地选自氢原子、卤素原子、取代或未被取代的脂肪...
    2026-05-02
  • 一种含自交联树脂的电子束光刻胶组合物及其制备方法和应用
    一种含自交联树脂的电子束光刻胶组合物及其制备方法和应用_国科天骥(山东)新材料有限责任公司_202511754958.4
    本发明提供一种含交联树脂的电子束光刻胶组合物及其制备方法与应用。本发明的电子束光刻胶组合物包括两种不同体系树脂的共混物，其在电子束光刻胶基底树脂基础上掺杂了一种自交联树脂材料，在不影响后期电子束光刻基本工艺的条件下改善了线条易倒塌的问题。
    2026-05-02
  • 一种低阻抗黑色矩阵光刻胶纳米分散液及其制备方法
    一种低阻抗黑色矩阵光刻胶纳米分散液及其制备方法_光卓新材料(江苏)有限公司_202511896204.2
    本发明涉及光刻胶技术领域，具体为一种低阻抗黑色矩阵光刻胶纳米分散液及其制备方法，其制备方法包括：S1.将丙二醇甲醚醋酸酯和分散剂混合，搅拌5‑8min得到分散溶剂；S2.向步骤S1得到的分散溶剂中缓慢加入改性炭黑颜料，搅拌得到初步浆料；S3...
    2026-05-02
  • 着色感光性组合物和彩色滤光片
    着色感光性组合物和彩色滤光片_阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司_202511941808.4
    本申请提供一种着色感光性组合物和彩色滤光片，着色感光性组合物包括56‑62重量份的颜料液、0.5‑1.8重量份的光聚合引发剂、1.5‑2.2重量份的光聚合单体、4‑5.8重量份的碱溶性树脂、30‑35重量份的溶剂；其中，所述颜料液包括第一颜...
    2026-05-02
  • 双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用
    双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用_大连理工大学_202610038655.0
    双配位环状六核锡氧簇化合物、光刻胶组合物及其在光刻中的应用，其属于光刻材料与半导体制造技术领域。组合物以环状六核锡氧簇为活性组分，兼容常用溶剂与涂胶工艺，具有优异的热稳定性(在260℃以上才出现显著质量损失)，可满足涂胶、预烘及曝光等工艺条...
    2026-05-02
  • 一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法
    一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法_宁波润华全芯微电子设备有限公司_202511884983.4
    本发明申请涉及一种在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法，属于半导体制造及微纳加工技术领域，在具有三维形貌的基板上涂覆光刻胶的方法包括：a)将所述基板加热并维持在一预设工艺温度；b)向加热的所述基板上施加包含第一溶剂的第一光刻胶溶液；所述第...
    2026-05-02
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