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最新专利技术
  • 层叠部件、钟表以及层叠部件的制造方法
    层叠部件、钟表以及层叠部件的制造方法_卡西欧计算机株式会社_202511104247.2
    本发明提供一种层叠部件，具备：基材，其由包含金属的第一材料构成，且在表面以规定的间距形成有多个槽；以及保护膜，其层叠在所述基材上，且具有仿照所述基材表面的表面形状，所述保护膜由与所述第一材料的金属氧化膜不同且与所述第一材料的金属氮化膜也不同...
    2026-03-18
  • 一种不锈钢表面高温制备碳化钛涂层的方法
    一种不锈钢表面高温制备碳化钛涂层的方法_浙江大学杭州国际科创中心_202511475590.8
    本发明涉及一种不锈钢表面高温制备碳化钛涂层的方法，包括以下步骤：S1、将不锈钢基体进行表面预处理，然后沉积金属钛层，得到镀钛工件；S2、将S1所得镀钛工件进行真空热处理，使得不锈钢基体中的碳原子向金属钛层中扩散并在界面处发生原位反应，形成冶...
    2026-03-18
  • 一种显著提升TiAlSiCrN涂层耐磨性的方法
    一种显著提升TiAlSiCrN涂层耐磨性的方法_西南科技大学_202511689654.4
    本发明公开了一种显著提升TiAlSiCrN涂层耐磨性的方法，包括如下步骤：S1、首先准备Ti靶和TiAlSiCr合金靶；S2、对基体样品进行预处理以去除基体样品表面的油污和灰尘，之后将清洗干净的基体样品安装在样品盘上；S3、启动磁控溅射镀膜...
    2026-03-18
  • 一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管
    一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管_松山湖材料实验室_202511751582.1
    本申请涉及微电子工艺技术领域。具体涉及一种介电薄膜的制造方法及介电薄膜、场效应晶体管。介电薄膜制造方法包括以下步骤：提供生长基底；干燥介电薄膜原材料粉末；介电薄膜原材料粉末为卤化铋粉末；将干燥后的介电薄膜粉末置于第一石英舟中，放入初始温度的...
    2026-03-18
  • 硒化锌3-12μm增透膜系制备方法
    硒化锌3-12μm增透膜系制备方法_安徽光智科技有限公司_202511768665.1
    一种硒化锌3‑12μm增透膜系制备方法包括步骤：S0，将陪镀片和产品的表面进行清洁处理，其中，陪镀片和产品作为镜片且均为硒化锌基底；S1，镜片放入烤箱烘烤；S2，装入工装夹具，工装夹具挂入真空镀膜机腔体内；S3，真空镀膜机启动抽真空，霍尔离...
    2026-03-18
  • 一种基于CVD的铝带表面强化工艺
    一种基于CVD的铝带表面强化工艺_苏州利来工业智造股份有限公司_202610019288.X
    本发明属于铝带表面处理技术领域，具体涉及一种基于CVD的铝带表面强化工艺。本发明旨在解决现有的铝带表面强化方法难以提高铝带在高盐雾环境下耐久性的问题。本发明首先对铝带进行矫直活化处理，处理完成后，将铝带送入沉积室进行磁控溅射沉积，具体包括金...
    2026-03-18
  • 荫罩装置、设备、制造方法及AMOLED阵列
    荫罩装置、设备、制造方法及AMOLED阵列_潍坊歌尔微电子有限公司_202411080621.5
    公开了一种荫罩装置、设备、制造方法及AMOLED阵列。该荫罩装置包括：荫罩框；支撑件；挡板，包括多个挡板通孔；以及荫罩元件，设置在挡板的上方，其中，挡板通过支撑件能移动地被设置在荫罩框中，其中，支撑件能被设置在至少两个稳定状态，从而使得挡板...
    2026-03-18
  • 成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法
    成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法_佳能特机株式会社_202511099704.3
    本发明提供能够实现成膜精度的提高的成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。成膜装置(10)具备：静电吸附单元(300)，静电吸附基板(S)；以及蒸发源(210)，构成为能够相对于静电吸附单元(300)相对地移动，且经由相对于基板(S)被实施...
    2026-03-18
  • 一种KB/Mo2C/CNT薄膜的制备方法及在锂硫电池中间层的应用
    一种KB/Mo2C/CNT薄膜的制备方法及在锂硫电池中间层的应用_合肥工业大学_202511644008.6
    本发明公开了一种KB/Mo22C/CNT薄膜的制备方法及在锂硫电池中间层的应用，属于锂硫电池技术领域。本发明通过将金属氧化钼靶材以纳米颗粒的形式镀在CNT基底上，然后再进行KB负载和PVP滴涂，最后再通过焦耳热将MoO33碳热还原为Mo22...
    2026-03-18
  • 一种真空微蒸发镀覆装置及其使用方法
    一种真空微蒸发镀覆装置及其使用方法_湖南工业大学_202512042018.9
    本发明公开了一种真空微蒸发镀覆装置，其包括：镀覆管和气动阀：镀覆管为一端有敞口的半封闭容器，镀覆管内设置有反应腔；气动阀包括调节盖、端盖和阀芯，调节盖和端盖连接，调节盖与端盖之间形成有容纳腔，容纳腔与外部环境相连通，阀芯设置在容纳腔中，端盖...
    2026-03-18
  • 一种用于电子束蒸镀工艺的金属预融方法及装置
    一种用于电子束蒸镀工艺的金属预融方法及装置_物元半导体技术(青岛)有限公司_202511688195.8
    本申请提供一种用于电子束蒸镀工艺的金属预融方法及装置。该用于电子束蒸镀工艺的金属预融方法在真空环境下，将电子枪发射的电子束对蒸发源中的待蒸镀金属材料进行预融，包括以下步骤：第一阶段，以第一预设功率使待蒸镀金属材料初步熔化，第一预设功率低于使...
    2026-03-18
  • 一种具有原位电子束改性功能的电弧离子镀系统
    一种具有原位电子束改性功能的电弧离子镀系统_江苏大学_202511493549.3
    本发明提出的一种具有原位电子束改性功能的电弧离子镀系统，包括：真空腔体、电弧离子源及脉冲电子束发射装置；真空腔体内部设置有工件支撑台；电弧离子源与脉冲电子束发射装置均集成安装于真空腔体内部，其中电弧离子源被配置为在工件表面沉积金属或合金镀层...
    2026-03-18
  • 多功能等离子加工装置及多功能等离子加工系统
    多功能等离子加工装置及多功能等离子加工系统_深圳市力远行科技有限公司_202511674609.1
    本发明涉及多功能等离子加工装置及多功能等离子加工系统，包括外壳体，外壳体中设置有容纳腔；外壳体包括外壳主体、以及与外壳主体的底部可拆卸连接的负极底板，容纳腔中靠近负极底板的位置处设置有陶瓷绝缘件，陶瓷绝缘件的上侧设置有正极片，陶瓷绝缘件与负...
    2026-03-18
  • 工艺腔室及半导体工艺设备
    工艺腔室及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202411096741.4
    本申请提供一种工艺腔室及半导体工艺设备，工艺腔室包括监测装置、控制装置、加热装置、进气装置以及主调整机构，监测装置用于确定晶圆径向上各位置的发射率；主调整机构包括温度场调整机构和/或气流场调整机构，温度场调整机构与加热装置相连，控制装置控制...
    2026-03-18
  • 一种防蓝光抗黄变镜片真空镀膜工艺
    一种防蓝光抗黄变镜片真空镀膜工艺_视悦光学有限公司_202511463719.3
    本发明公开了一种防蓝光抗黄变镜片及其真空镀膜工艺，属于光学镜片制造技术领域，旨在解决现有技术中防蓝光率固定、抗黄变寿命短、工艺不环保及膜层稳定性差的问题。工艺核心包括基材预处理、空气等离子体活化、附着力促进层沉积、动态防蓝光层沉积、MXen...
    2026-03-18
  • 一种磁控阴极的磁场设计方法及磁场测量装置
    一种磁控阴极的磁场设计方法及磁场测量装置_中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司_202511563313.2
    本发明属于真空磁控溅射镀膜技术领域，具体地说是一种磁控阴极的磁场设计方法及磁场测量装置，将磁钢分为中心磁钢和外环磁钢，通过磁场测量装置测量磁控阴极组件的磁场分布，根据测量结果调整中心磁钢和外环磁钢的相对位置，获得磁钢的最优布置，使磁控阴极组...
    2026-03-18
  • 一种垂直各向异性倾斜磁性层的辅助装置及制备方法
    一种垂直各向异性倾斜磁性层的辅助装置及制备方法_山东大学_202511595720.1
    本发明提出了一种垂直各向异性倾斜磁性层的辅助装置及制备方法，属于磁性存储技术领域，包括遮挡单元、第一溅射靶枪、第二溅射靶枪、移动滑轨、固定夹具、基片托盘、步进电机及控制器；所述遮挡单元包括遮挡板、连接杆和固定卡扣；所述遮挡单元通过固定卡扣固...
    2026-03-18
  • 一种感温变色镀膜及制备方法
    一种感温变色镀膜及制备方法_杭州鑫铂光学材料有限公司_202511660885.2
    本发明公开了一种感温变色镀膜及制备方法，涉及复合膜相关领域。本发明通过在VO22基热致变色层两侧分别设置介质匹配层与保护层，实现了热致变色性能、光学干涉效应及环境稳定性的协同优化，其中，介质匹配层可精确调控膜系折射率匹配与反射干涉，实现高色...
    2026-03-18
  • 一种用于固体氧化物电池金属连接体的防护涂层的制备方法
    一种用于固体氧化物电池金属连接体的防护涂层的制备方法_北京理工大学_202511690753.4
    本发明属于表面工程技术领域，涉及一种用于固体氧化物电池金属连接体的防护涂层的制备方法。本发明首先采用反应溅射模式在金属基底上沉积致密的过渡金属氧化物内层，再采用金属溅射模式沉积过渡金属合金外层，形成过渡金属氧化物/过渡金属合金复合涂层，经退...
    2026-03-18
  • 一种用于光学元件的耐磨AR镀膜及其制备方法
    一种用于光学元件的耐磨AR镀膜及其制备方法_深圳市悦目光学器件有限公司_202610004902.5
    本发明公开了一种用于光学元件的耐磨AR镀膜及其制备方法，属于光学元件技术领域，包括基材预处理、打底层沉积、硬度层制备、干涉层沉积、防污层沉积以及后处理。本发明通过优化多层膜结构设计及各层制备工艺，使镀膜同时具备高硬度与高透光性能，膜层厚度处...
    2026-03-18
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