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最新专利技术
  • 改性蒸发舟及其制备方法
    改性蒸发舟及其制备方法_安迈特科技(北京)有限公司_202410867241.X
    本申请提供一种改性蒸发舟及其制备方法，属于蒸发舟技术领域，该改性蒸发舟包括舟体以及改性层，舟体具有蒸发槽，改性层铺设在蒸发槽的底部；其中，改性层的原材料包括钨系化合物。改性蒸发舟的制备方法包括以下步骤：配制含有钨系化合物的改性浆料；将改性浆...
    2026-03-11
  • 一种半导体激光芯片的真空蒸发镀膜方法
    一种半导体激光芯片的真空蒸发镀膜方法_深圳市星汉激光科技股份有限公司_202511789707.X
    本发明涉及半导体薄膜沉积技术领域，公开了一种半导体激光芯片的真空蒸发镀膜方法，包括：实时获取蒸发云空间分布信息，并基于该信息同步计算聚焦度特征、空间漂移特征与瞬态剧烈扰动；根据聚焦度特征与空间漂移特征，分别解耦调节电子束扫描的幅度与中心点，...
    2026-03-11
  • 一种真空等离子镀膜机
    一种真空等离子镀膜机_常州晟威机电股份有限公司_202511476841.4
    本发明公开了一种真空等离子镀膜机，其中包括第一壳体，所述第一壳体的一侧设置有真空壳体，所述真空壳体的外表面设置有操作台，所述真空壳体的一侧设置有卷绕车，所述卷绕车位于第一壳体的内部，所述真空壳体远离第一壳体的另一侧设置有蒸发车，所述真空壳体...
    2026-03-11
  • 一种半导体溅射设备及半导体薄膜的形成方法
    一种半导体溅射设备及半导体薄膜的形成方法_苏州辰华半导体技术有限公司_202511200319.3
    本发明开了一种半导体溅射设备及半导体薄膜的形成方法，属于半导体技术领域。所述半导体溅射设备至少包括：腔体；至少一个第一靶材，设置在所述腔体内的第一侧；至少一个第二靶材，设置在所述腔体内的第二侧；至少一反应气体源，以通入至少一反应气体于所述腔...
    2026-03-11
  • 一种六方金-铂纳米阵列材料及其制备方法和用途
    一种六方金-铂纳米阵列材料及其制备方法和用途_天津工业大学_202511461051.9
    本发明属于贵金属纳米材料技术领域，具体涉及一种六方金‑铂纳米阵列材料及制备方法和在光/电催化水分解产氢领域上的应用。该Au‑Pt纳米阵列的结构单元由Au纳米球和附着的Pt纳米颗粒组成，整体阵列呈六方非密排分布。本发明先制备六方非密排金(Au...
    2026-03-11
  • 一种细晶高纯铜旋转靶材的均匀化制备方法
    一种细晶高纯铜旋转靶材的均匀化制备方法_安徽纬科材料科技有限公司_202511798521.0
    本申请提供了一种细晶高纯铜旋转靶材的均匀化制备方法，涉及高纯铜旋转靶材的技术领域，通过热加工、冷加工变形及双向温度梯度退火的优化工艺，显著降低了靶材的残余应力，提高了硬度、拉伸强度和延伸率，并确保晶粒尺寸控制在≤50μm，微观结构均匀、晶界...
    2026-03-11
  • 一种光学镀膜用高纯铝旋转靶材制备方法
    一种光学镀膜用高纯铝旋转靶材制备方法_安徽纬科材料科技有限公司_202511798566.8
    本发明公开了一种光学镀膜用高纯铝旋转靶材制备方法，包括热加工、冷加工、双向温度梯度退火和表面处理步骤。通过在200‑450℃下对99.999%纯度铝锭进行大塑性变形和水淬，制备致密荒管；经多道次冷加工和中间退火，加工成外径100‑200 m...
    2026-03-11
  • 一种细晶高纯大规格铝平面靶的制备方法
    一种细晶高纯大规格铝平面靶的制备方法_安徽纬科材料科技有限公司_202511798583.1
    本发明公开了一种细晶高纯大规格铝平面靶的制备方法，包括热加工、冷轧、退火处理及表面处理。通过多道次横向和纵向轧制结合快速冷却，破碎铝锭粗大柱状晶，诱发动态再结晶并抑制二次粗化，形成内部致密铝板坯；冷轧与中间退火引入高密度位错网络，增强静态再...
    2026-03-11
  • 一种金刚石系中波红外复合窗口及其制备方法
    一种金刚石系中波红外复合窗口及其制备方法_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202410844829.3
    本发明公开了一种金刚石系中波红外复合窗口及其制备方法，该金刚石系中波红外复合窗口包括：在红外光学材料的双面分别镀上第一增透膜得到光学材料A；在金刚石光学材料的双面分别镀上第二增透膜得到光学材料B；通过面贴合叠加光学材料A和光学材料B得到光学...
    2026-03-11
  • 处理PVD设备的挡板的方法
    处理PVD设备的挡板的方法_SPTS科技有限公司_202411525590.X
    根据本发明，提供一种处理PVD设备的挡板的方法，其包括以下步骤：提供PVD设备，其包括腔室、靶材、定位在所述腔室中的衬底支撑件及在所述腔室内可部署以将所述腔室划分为其中定位所述衬底支撑件的第一隔间及其中定位所述靶材的第二隔间的挡板；提供其上...
    2026-03-11
  • 一种磁控溅射镀膜机的均匀性调整工具
    一种磁控溅射镀膜机的均匀性调整工具_湖南艾科威半导体装备有限公司_202511783412.1
    本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种磁控溅射镀膜机的均匀性调整工具，包括同轴线的工具座盘、探针节和探针头；工具座盘呈圆盘形；探针头的一端呈锥形，并通过若干探针节与工具座的中心相连；工具座盘可拆卸的安装到磁控溅射镀膜机的溅射靶头的溅射...
    2026-03-11
  • 一种C轴择优取向YAlN薄膜及其制备方法与应用
    一种C轴择优取向YAlN薄膜及其制备方法与应用_中国科学院赣江创新研究院_202511784393.4
    本发明提供了一种C轴择优取向YAlN薄膜及其制备方法与应用。所述制备方法包括：(1)将衬底置于抽真空的腔体中，加热衬底至离子注入温度；(2)向腔体中通入第一气体至腔体内的气压至第一工作压力，对衬底表面进行离子注入处理；(3)向所述腔体中通入...
    2026-03-11
  • 一种强韧氮化钼基防护涂层及其制备方法与应用
    一种强韧氮化钼基防护涂层及其制备方法与应用_广东省科学院新材料研究所_202511794630.5
    本发明公开了一种强韧氮化钼基防护涂层及其制备方法与应用，属于防护涂层技术领域。该强韧氮化钼基防护涂层包括MoXN层；按原子百分数计，MoXN层中包括60%~75%的Mo和7%~15%的X，余量为N；其中，X包括Ti、Zr、V、Nb中的至少一...
    2026-03-11
  • 一种金属氢化物表面钛基阻氢涂层结构的制备方法和应用
    一种金属氢化物表面钛基阻氢涂层结构的制备方法和应用_内蒙古工业大学_202511812360.6
    本发明公开一种金属氢化物表面钛基阻氢涂层结构的制备方法和应用，该涂层结构由金属氢化物基体和钛基阻氢层组成，钛基阻氢层覆盖在金属氢化物基体表面；钛基阻氢层的化学组成成分为氮化钛。其制备方法为：步骤(1)、将金属氢化物基材依次进行打磨处理、化学...
    2026-03-11
  • 一种边发射半导体激光器镀膜用陪条装置
    一种边发射半导体激光器镀膜用陪条装置_浙江慧目科技有限公司_202511398392.6
    本发明公开了一种边发射半导体激光器镀膜用陪条装置，其包括基座和立板，基座内开设有第一导气腔，基座背离立板的一侧设有氮气储存装置，氮气储存装置出气管与第一导气腔相连通，基座上端面设有若干陪条，陪条内开设有第二导气腔，陪条包括直板部和固定连接于...
    2026-03-11
  • 一种冷却装置、上下料方法及镀膜设备
    一种冷却装置、上下料方法及镀膜设备_江苏先导微电子科技有限公司_202511480255.7
    本申请公开了一种冷却装置、上下料方法及镀膜设备，冷却装置包括冷却盘部件、驱动机构和交接机构；冷却盘部件的表面用于接收并冷却工件；驱动机构用于驱动冷却盘部件升降；交接机构包括顶针组件和顶起组件，顶针组件用于与活动至预设位置的冷却盘部件发生接触...
    2026-03-11
  • 一种用于真空、高温和粉尘条件下的观察窗
    一种用于真空、高温和粉尘条件下的观察窗_北京北方华创真空技术有限公司_202410860268.6
    本申请提供一种用于真空、高温和粉尘条件下的观察窗，包括：工作腔体、闪频腔体和闪频组件，工作腔体一侧开设有可视狭缝，工作腔体上设置有调节器，调节器用于调整可视狭缝的尺寸；闪频腔体设置于工作腔体一侧，且闪频腔体一侧与可视狭缝连通，另一侧设置有观...
    2026-03-11
  • 一种晶圆对中寻边系统及方法
    一种晶圆对中寻边系统及方法_芯材芯(苏州)半导体科技有限公司_202311476487.6
    本发明涉及一种晶圆对中寻边系统及方法，首先采集晶圆的旋转角度数据及半径数据，并对每次采集到的该旋转角度数据及该半径数据计算晶圆的中心坐标，再剔除异常的晶圆中心坐标，然后对正常的晶圆中心坐标进行最小二乘法，确定精确的晶圆中心坐标并确定切角位置...
    2026-03-11
  • 一种基于大板模式下的玻璃镀膜控制方法
    一种基于大板模式下的玻璃镀膜控制方法_天津旗滨节能玻璃有限公司_202511386970.4
    本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，公开了一种基于大板模式下的玻璃镀膜控制方法，包括以下步骤：S1、对磁控溅射镀膜系统的硬件布局进行优化，取消清洗机出口处的过渡台二，将其缓存功能合并至进口对位台，仅保留过渡台一和进口对位台；S2、建立真空腔体提...
    2026-03-11
  • 一种优化PVD预溅射的腔体结构
    一种优化PVD预溅射的腔体结构_安徽熙泰智能科技有限公司_202511397135.0
    本发明涉及薄膜制备技术领域，公开了一种优化PVD预溅射的腔体结构，包括溅射腔室、背板、靶材、防着板、进气口和孔洞；溅射腔室的底部设有用于穿过进气口的孔洞，背板、靶材和防着板均设置在溅射腔室的内部，背板的上表面设置靶材，防着板设置在背板和靶材...
    2026-03-11
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