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  • 本发明涉及磁控技术,尤其涉及一种带有波浪环的磁控溅射靶装置。包括相互隔离的调节室和隔离室、励磁装置。所述励磁装置通过基础永磁体与分散式永磁体阵列形成约束电子的磁势阱。通过位于所述隔离室内的微动电机经一传动系统,带动位于所述调节室内的波浪环产...
  • 本发明公开了一种复合涂层、其制备方法及其在玻璃模压模具中的应用。沿厚度方向,该复合涂层依次包括Cr层和C‑Pt纳米复合层;通过在基体表面依次沉积Cr层,在Cr层表面沉积C‑Pt纳米复合层,制得复合涂层。本发明显著弱化甚至消除了复合涂层中团簇...
  • 本发明公开了一种管道内壁阻氢涂层及其制备方法,涉及管道涂层技术领域,制备方法包括以下步骤:(1)对待处理工件进行清洗、烘烤后安装入炉并抽真空加热、保温;(2)开启金属靶材的磁控溅射镀膜电源,在真空室中产生等离子体,外接负压电源,金属靶材接正...
  • 本发明提供一种用于刀具前刀面的复合润滑减摩涂层的制备方法,包括以下步骤:将预处理的刀具基体置于真空室的基片架上;加热刀具基体至预设沉积温度;采用非平衡磁控共溅射工艺,同时溅射至少一个硬质相靶材和至少一个润滑相复合靶材以沉积涂层;通过对刀具基...
  • 本发明公开了一种具备翻转夹持功能的汽车配件用镀铝工装,涉及镀膜工装技术领域,包括:驱动组件、固定外框和若干翻转夹持组件,所述翻转夹持组件包含:偏转连杆、伸缩杆、工件夹头和导向套杆;驱动组件升降时,通过第一铰接轴带动偏转连杆偏转,迫使伸缩杆沿...
  • 本发明提供一种稳定抗震光学镜片真空镀膜架,涉及真空镀膜架技术领域,包括支架本体,所述支架本体的内部固定安装有承托板,所述承托板的顶端固定安装有多个辅助架,每个所述辅助架的内部均滑动安装有导轨移板,每个所述导轨移板的顶端均固定安装有水平悬架,...
  • 本发明公开一种镜片镀膜夹装系统,涉及镜片镀膜加工技术领域;包括镀膜箱,镀膜箱的顶部设置有抽真空设备,在镀膜箱的外侧设置料口,且在料口处设置有支架;在镀膜箱的外侧设置有用于运输镜片的运输设备,支架上设置有转移组件,用于将镜片运输设备上转移至镀...
  • 本发明提供一种中空玻璃镀膜装置及镀膜工艺,涉及玻璃镀膜技术领域,包括:支架用于承载待镀膜玻璃;镀膜机构包括移动组件、固定架、更换组件和底座;支架与底座转动连接,更换组件与固定架滑动连接,更换组件与移动组件固定连接;送料机构安装在支架上,用于...
  • 本发明涉及光学元件处理技术领域,具体公开了一种针对金属、陶瓷的光学遮光圈内孔的消光方法,先采用超声波清洗,内孔区域辅以旋转式喷淋清洗;再用去离子水进行内外高压冲洗,最后在烘箱中烘干;将经过表面预处理的遮光圈放入VCD反应炉内;通入碳源气体,...
  • 本发明公开了一种铜催化辅助制备二维转角WS2的方法,属于无机纳米半导体材料领域,包括:将装载硫粉的第一刚玉舟放在多温区管式炉的上游低温区;将氧化钨粉与铜粉混合后的混合粉末放在第二刚玉舟内的前端,将沉积衬底放在第二刚玉舟内的末端,第二刚玉舟入...
  • 本发明涉及材料表面改性技术领域,且公开了一种在石墨基体上实现快速CVD碳化硅涂层的方法,该在石墨基体上实现快速CVD碳化硅涂层的方法,包括以下步骤:S1、石墨基体预处理,对石墨基体进行表面粗糙化处理,依次包括混合酸蚀刻和低温等离子体活化;S...
  • 本发明公开了一种带有多层纳米涂层的刀具及其制备方法,刀具包括刀具基体和设置在刀具基体表面的多层纳米涂层,所述多层纳米涂层从内向外依次包括过渡层、功能层和保护层;所述功能层包括交替设置的耐磨层和润滑层,所述功能层中的最上层和最下层为耐磨层。制...
  • 本申请提出的立式炉管,包括:工艺管,底部内侧设有基座;多个气体喷射器,包括流体连通的进气管和喷射管,所述进气管的一端与工艺气体的供应源连接,另一端水平插设在所述基座内;所述喷射管设置在所述工艺管内部,且竖直插设在所述基座内;所述喷射管靠近底...
  • 本公开提供一种基于区域选择性原子层沉积的图形制备方法,包括:在衬底上形成第一金属增强层;在第一金属增强层上形成具有光敏性的自组装单分子层;在具有光敏性的自组装单分子层上形成第二金属增强层;利用深紫外光对具有光敏性的自组装单分子层进行曝光并显...
  • 本发明公开一种半导体加工设备及其进气单元,其中,所述半导体加工设备包括金属盖体,所述进气单元包括:进气部件,所述进气部件设置有第一气体通道,所述第一气体通道用于引入第一工艺气体;绝缘材质的连接部件,包括第一筒体和第二筒体,所述第一筒体位于所...
  • 本发明涉及一种基于多维电场矢量调控的原子层沉积装置及工艺,包括反应腔组件、气体分布组件、电场发生组件、衬底旋转机构和多维电场控制系统,所述反应腔组件包括上腔体和下腔体,所述上腔体设置有反应源一入口、反应源二入口和载气入口,所述下腔体设置有尾...
  • 本发明公开了一种镀膜系统及镀膜方法,属于镀膜技术领域。镀膜系统包括反应腔体和进气装置,进气装置具有两个分支分配管,两管上分别设有多个沿腔体高度方向对应分布的腔体进气管,且两管内气体流向相反;各分支分配管上的腔体进气管管径沿气体流向逐渐增大,...
  • 本发明涉及芯片制造技术领域,具体为在LPCVD制备工艺中的高稳定性石英硅舟平台结构及方法,包括制备仓,所述制备仓的内壁固定连接有控制座,所述控制座的顶部设置有伞状支架,所述伞状支架的内壁环形阵列活动连接有多个石英舟板,多个所述石英舟板的内壁...
  • 本申请涉及热平衡技术领域,公开一种热平衡装置,设置于加热器与被加热材料之间,包括:多个温控单元,采用在热量从加热器传递到被加热材料的方向上具有负热膨胀系数的材料制成;约束架,至少部分地包围所述多个温控单元而设置,用于将所述多个温控单元约束在...
  • 本申请涉及一种用于保证石英舟化学气象沉积反应温度的保温桶,属于半导体制造设备技术领域,该保温桶的结构包括:包括固定支架,固定支架上纵向设置有多组中空连接杆,中空连接杆的顶部设置有安装保温板,安装保温板下部的中空连接杆上设置有多组保温玻璃层,...
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