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最新专利技术
  • 电波反射装置
    电波反射装置_株式会社日本显示器_202380092985.2
    电波反射装置具有贴片电极、与贴片电极相对置且分离的公共电极、以及贴片电极与所述公共电极之间的液晶层，贴片电极及所述公共电极具有形成网眼状的图案的多个开口部，开口部的开口宽度S1相比于所述贴片电极与公共电极的间隔D的比值S1/D为1.00以下...
    2025-09-24
  • 用于处理直接存储器访问聚集和分散请求的系统、设备和/或方法
    用于处理直接存储器访问聚集和分散请求的系统、设备和/或方法_梅赛德斯-奔驰集团股份公司_202380093111.9
    公开了可全部或部分地结合直接存储器访问(DMA)技术来实现的示例方法、装置和/或制品。在一个应用中，DMA技术可通过缓冲器来增强，以实现对分散请求和聚集请求的改善的服务。
    2025-09-24
  • 用于处理信号流的系统、设备和/或方法
    用于处理信号流的系统、设备和/或方法_梅赛德斯-奔驰集团股份公司_202380093115.7
    公开了可全部或部分地结合处理信号流来实现的示例方法、装置和/或制品。在一个应用中，多个计算节点可被配置为处理来自多个源的信号流中传输的数据项。
    2025-09-24
  • 切削力系数预测装置、切削力系数预测方法和切削力系数预测程序
    切削力系数预测装置、切削力系数预测方法和切削力系数预测程序_株式会社日立解决方案_202380093327.5
    本发明提供切削力系数预测装置、切削力系数预测方法和切削力系数预测程序，其能够容易且适当地推算切削力系数。在变换用计算机(10)中，使存储资源(14)存储关于与切削处理相关的工具的多种参数的值与使用所述多种参数的值的切削处理中的工具的切削力系...
    2025-09-24
  • 阵列基板、显示面板及显示装置
    阵列基板、显示面板及显示装置_京东方科技集团股份有限公司_202380012397.3
    阵列基板(001)、显示面板及显示装置，包括衬底基板(100)；多个像素电极(101)，在衬底基板(100)上呈阵列排布，像素电极(101)之间具有沿第一方向(X)延伸的第一间隙(GPl)、以及沿第二方向(Y)延伸的第二间隙(GP2)，在第...
    2025-09-24
  • 废弃物燃烧发电装置、及废弃物燃烧发电方法
    废弃物燃烧发电装置、及废弃物燃烧发电方法_荏原环境工程株式会社_202380093363.1
    本发明涉及废弃物燃烧发电装置，其通过燃烧废弃物来产生燃烧排气，利用燃烧排气的热来获得过热蒸气，以过热蒸气来驱动蒸气涡轮。废弃物燃烧发电装置具备：燃烧炉(11)；内置有过热器(21)及高温热交换器(12)的废热锅炉(13)；独立过热器(14)...
    2025-09-24
  • 作业机械
    作业机械_株式会社小松制作所_202380092882.6
    作业机械具备：动臂；动臂缸，其具有缸底室及缸头室；动臂泵，其具有吸入口及排出口；液压油箱；动臂操作阀，其具有：经由泵流路与排出口连接的泵接口、经由缸底流路与缸底室连接的缸底接口、经由缸头流路与缸头室连接的缸头接口、经由油箱流路与液压油箱连接...
    2025-09-24
  • 导热硅酮组合物及用于制备其的方法
    导热硅酮组合物及用于制备其的方法_瓦克化学股份公司_202380091653.2
    本发明提供了用于形成固化产物的导热性硅酮组合物，其表现出高散热性能，不产生空隙，并且具有优异的可加工性。导热硅酮组合物包括：含烯基基团的有机聚硅氧烷(A)；在一个分子内具有两个或更多个氢硅烷基的直链有机聚硅氧烷(B)；仅具有‑SiRHO‑的...
    2025-09-24
  • 基于环戊烯的开环聚烯烃的类玻璃高分子
    基于环戊烯的开环聚烯烃的类玻璃高分子_埃克森美孚技术与工程公司_202380092948.1
    本公开总体上涉及基于环戊烯的开环聚烯烃的类玻璃高分子，涉及制备类玻璃高分子的方法，涉及作为交联剂的化合物(1)，涉及化合物(1)的制备方法，涉及硫化的类玻璃高分子，涉及包含类玻璃高分子或硫化的类玻璃高分子的组合物和涉及包含类玻璃高分子或硫化...
    2025-09-24
  • 用于高温溶液法制备乙烯基聚合物的催化剂组合物及使用该催化剂组合物制备乙烯基聚合物的方法
    用于高温溶液法制备乙烯基聚合物的催化剂组合物及使用该催化剂组合物制备乙烯基聚合物的方法_韩华道达尔能源有限公司_202380093872.4
    本发明涉及一种用于制备乙烯基聚合物的催化剂组合物，该催化剂组合物适用于高温溶液法，以及利用该催化剂组合物制备乙烯基聚合物的方法。根据本发明，在高温条件下进行的溶液聚合过程中，可高活性地制备具有宽分子量分布和双峰分布的低密度乙烯均聚物或乙烯‑...
    2025-09-24
  • 气体吸脱附单元及气体吸脱附装置
    气体吸脱附单元及气体吸脱附装置_日本碍子株式会社_202380091440.X
    本发明提供能够更容易地将气体吸附剂均匀地加热的气体吸脱附单元及气体吸脱附装置。本发明所涉及的气体吸脱附单元2具备：1个或多个第一蜂窝结构体20、以及电极端子21，该1个或多个第一蜂窝结构体20具备：蜂窝结构部25，其具有外周壁250和隔壁2...
    2025-09-24
  • 减少蛋白纯化中污染物的方法
    减少蛋白纯化中污染物的方法_伊莱利利公司_202380094187.3
    本文提供了从包含含有Fc的蛋白和一种或多种宿主细胞蛋白(HCP)的混合物中纯化包含Fc的蛋白的改善方法。该方法通常涉及将混合物施加到包含蛋白A色谱基质的色谱柱上，并且用辛酸钠洗涤缓冲液洗涤色谱基质。
    2025-09-24
  • 通过机器人导管组件中无菌屏障的毂感测
    通过机器人导管组件中无菌屏障的毂感测_因普瑞缇夫护理公司_202380094154.9
    机器人驱动系统，其包括：毂，其被配置成调节介入装置的轴向位置；从动磁体，其与所述毂连接；毂适配器，其被配置成基于由所述机器人控制系统的用户提供的输入而在至少一个方向上移动；驱动磁体，其与所述毂适配器连接并被配置成与所述从动磁体连接，使得所述...
    2025-09-24
  • 半导体发光元件和半导体发光元件的制造方法
    半导体发光元件和半导体发光元件的制造方法_同和电子科技有限公司_202380092281.5
    提供与以往的发光元件相比单位注入电力的发光输出功率良好、且能不产生空隙部地形成保护膜的半导体发光元件及其制造方法。本发明的半导体发光元件依次具有第1导电型包层、发光层、第2导电型包层，并以第2导电型包层为光提取侧，其中，所述发光层为III‑...
    2025-09-24
  • 电路埋入基板及其制造方法、以及电路埋入基板一体成型品
    电路埋入基板及其制造方法、以及电路埋入基板一体成型品_NISSHA株式会社_202380093604.2
    本发明的目的在于提供导电性难以降低的电路埋入基板和能够容易地制造这样的电路埋入基板的电路埋入基板的制造方法。另外，本发明的目的在于提供一种使用了导电性难以降低的电路埋入基板的电路埋入基板一体成型品。电路埋入基板具备：膜；电路，具有功能部、第...
    2025-09-24
  • 自适应均衡电路、接收器以及自适应均衡方法
    自适应均衡电路、接收器以及自适应均衡方法_NTT创新器件有限公司_202380092348.5
    自适应均衡滤波器(3)通过抽头系数的更新，自适应地补偿接收信号的偏振变动所引起的波形失真。第1抽头系数更新量计算电路(4)使用被周期性地插入接收信号并且振幅固定且已知的导频信号，计算用于更新抽头系数的第1更新量。第2抽头系数更新量计算电路(...
    2025-09-24
  • 信息处理方法、程序以及信息处理终端
    信息处理方法、程序以及信息处理终端_松下知识产权经营株式会社_202380093074.1
    一种信息处理方法，是由计算机执行的信息处理方法，在该信息处理方法中，按照载有人或配送物品的移动体(1)的运行参数，执行移动体(1)的运动的模拟、以及人或配送物品的移动需求的模拟(S102)，根据模拟的执行结果，计算模拟中的物体的状态的迁移(...
    2025-09-24
  • 通过人工智能对物体的显微照片上的缺陷进行检测和表征的方法
    通过人工智能对物体的显微照片上的缺陷进行检测和表征的方法_乐姆宝公开有限公司_202380091728.7
    描述了一种借助于电子处理来对物体上的表面缺陷进行确认和表征的方法。该方法包括以下步骤：通过显微镜采集将要对缺陷进行确认的物体或物体的一部分的至少一个显微照片或数字图像；然后将所采集的上述至少一个显微照片或数字图像提供至借助于人工智能和/或机...
    2025-09-24
  • 信息处理装置、信息处理系统和信息处理方法
    信息处理装置、信息处理系统和信息处理方法_索尼集团公司_202380091789.3
    提供一种能够抑制诸如智能手机之类的用户终端的温度上升，并检查用户终端的温度状态的构成。在其中用户非操作终端和用户操作终端可通信地连接的构成中，由执行应用的用户非操作终端生成的图像数据被发送到用户操作终端，并且图像数据基于从用户操作终端输入的...
    2025-09-24
  • 成像光学系统和成像装置
    成像光学系统和成像装置_索尼集团公司_202380093103.4
    根据本公开的成像光学系统包括：具有正折射力的第一透镜组，具有负折射力的第二透镜组，以及布置在最靠近像面侧且具有正折射力的最终透镜组。当聚焦时，第一透镜组和最终透镜组被固定，并且第二透镜组在光轴方向上移动。第一透镜组包括第一负透镜、通过将负透...
    2025-09-24
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