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最新专利技术
  • 复合铜膜、制备方法及电子设备
    复合铜膜、制备方法及电子设备_浙江日久新材料科技有限公司_202511542736.6
    本发明公开了一种复合铜膜、制备方法及电子设备，其中复合铜膜，包括基材，以及至少形成于基材一侧的复合铜层，所述复合铜层顺次包括，以远离基层的方向观察：加硬层；打底层，厚度20‑50nm，通过多元合金反应溅射形成；功能层，为溅射形成的铜功能层，...
    2026-03-20
  • 一种超平整铜镍合金单晶晶圆的批量制备方法
    一种超平整铜镍合金单晶晶圆的批量制备方法_北京大学_202511579746.7
    本发明公开了一种超平整铜镍合金单晶晶圆的批量制备方法，属于单晶合金材料的制备领域。本发明的通过基于“先镍后铜”双层磁控溅射，配合插槽式多片退火载具的批量制备工艺，在蓝宝石衬底上实现4英寸级别的铜镍单晶晶圆的批量制备(10片以上)，具有可调控...
    2026-03-20
  • 一种镍铝合金靶材的制备方法
    一种镍铝合金靶材的制备方法_苏州六九新材料科技有限公司_202511412895.4
    本申请涉及合金靶材的技术领域，具体公开了一种镍铝合金靶材的制备方法。本申请提供的镍铝合金靶材的制备方法，包括以下步骤：将镍铝合金粉末经过SPS烧结、热等静压、机加工，得到镍铝合金靶材；SPS烧结为：在450‑550℃保温10‑30min，升...
    2026-03-20
  • 一种长距离锆合金包壳表面均匀涂层、制备方法及应用
    一种长距离锆合金包壳表面均匀涂层、制备方法及应用_国核铀业发展有限责任公司_202511396732.1
    本申请提出了一种长距离锆合金包壳表面均匀涂层、制备方法及应用，方法包括将锆合金包壳基体清洗干燥后放入磁控溅射设备内的真空室，调节真空室的真空度和气压；用偏压电源通过高速氩离子轰击锆合金包壳基体的表面进行辉光清洗；利用氩离子轰击金属靶材的表面...
    2026-03-20
  • 一种具有细柱状晶结构的Cr基防护涂层、其制备方法及应用
    一种具有细柱状晶结构的Cr基防护涂层、其制备方法及应用_宁波杭州湾新材料研究院_202511287064.9
    本发明涉及防护涂层领域，具体涉及一种具有细柱状晶结构的Cr基防护涂层、其制备方法及应用。本发明通过设计Cr100‑a‑b100‑a‑bXaaMbb组分(X＝Al/Si，M＝Y/Ce/La/Nd，0≤a≤10, 0.1≤b≤8.5)，通过控制...
    2026-03-20
  • 一种金刚石红外窗口薄膜及其制备方法
    一种金刚石红外窗口薄膜及其制备方法_天津津航技术物理研究所_202511486326.4
    本申请提供一种金刚石红外窗口薄膜及其制备方法，通过在金刚石基底表面设置稀土金属氧化物薄膜，首先，通过选用折射率介于金刚石与空气之间的稀土氧化物，利用干涉相消原理将目标波段的平均透过率显著提升，高效解决了高反射损失问题。其次，该致密的氧化物薄...
    2026-03-20
  • 一种透明超疏水薄膜及制备方法
    一种透明超疏水薄膜及制备方法_北京理工大学_202511466908.6
    本发明公开了一种透明超疏水薄膜及制备方法，包括：S1、提供透明衬底；S2、通过磁控溅射法在透明衬底沉积氧化铝层，得到薄膜；S3、将薄膜置于水中浸泡；S4、使用硅烷偶联剂的疏水改性剂制备的改性液浸泡薄膜，形成疏水防污层，得到改性薄膜；S5、将...
    2026-03-20
  • 一种TiHfAlB涂层刀具
    一种TiHfAlB涂层刀具_株洲钻石切削刀具股份有限公司_202511779229.4
    本发明公开了一种TiHfAlB涂层刀具，该涂层刀具包括刀具基体和沉积于刀具基体上的TiHfAlB涂层，所述TiHfAlB涂层为(Ti1‑x‑1‑x‑yyHfyyAlxx)B22涂层，其中0.20≤x≤0.50, 0.1≤y≤0.40, 0....
    2026-03-20
  • 一种低电阻TaN膜层的制备工艺
    一种低电阻TaN膜层的制备工艺_安徽纯源镀膜科技有限公司_202511684990.X
    本发明涉及一种低电阻TaN膜层的制备工艺，包括向真空腔室内通入Ar气对真空腔室内的工件进行离子束清洗处理；向真空腔室内通入Ar气和N22气，开启溅射电源和偏压电源对工件的表面进行溅射镀膜处理，溅射镀膜处理所用的溅射靶材为Ta靶。本发明提供的...
    2026-03-20
  • 一种碲化镉镀膜装置及防短路方法
    一种碲化镉镀膜装置及防短路方法_瑞昌中建材光电材料有限公司_202511570617.1
    本发明涉及一种碲化镉镀膜装置及防短路方法，属于碲化镉镀膜技术领域，解决现目前碲化镉镀膜时，碲化镉沉积，使电极与坩埚壁之间导通的技术问题。碲化镉镀膜装置及防短路方法包括真空容器、加热容器、盖板以及绝缘件，其中加热容器，安装于真空容器内，加热容...
    2026-03-20
  • 一种高耐磨复合PVD膜层及其制备方法
    一种高耐磨复合PVD膜层及其制备方法_深圳森丰真空镀膜有限公司_202511509777.5
    本发明公开了一种高耐磨复合PVD膜层及其制备方法，高耐磨复合PVD膜层包括：结合层，设置于基材的表面；TiN耐磨顶层，设置于结合层远离基材的一侧；颜色调节层，设置于结合层与TiN耐磨顶层之间。高耐磨复合PVD膜层的制备方法包括步骤：通入氧气...
    2026-03-20
  • 一种含氧化铬层和氮化物层的复合涂层切削刀具
    一种含氧化铬层和氮化物层的复合涂层切削刀具_株洲钻石切削刀具股份有限公司_202511338381.9
    本发明公开了一种含氧化铬层和氮化物层的复合涂层切削刀具，包括刀具基体和设于刀具基体上的复合涂层，所述复合涂层包括自刀具基体表面向外依次设置的TiAlN底层、TiAlSiN层、第一CrON过渡层、Cr22O33层、第二CrON过渡层、TiSi...
    2026-03-20
  • 用于沉积的掩模和电子装置
    用于沉积的掩模和电子装置_三星显示有限公司_202510843518.X
    本公开涉及用于沉积的掩模和电子装置。所述用于沉积的掩模包括：彼此间隔开的多个单元区域和在平面图中围绕所述单元区域的外围区域；基体层，具有第一表面和与所述第一表面背对的第二表面，所述基体层限定分别对应于所述多个单元区域的多个第一开口；图案绝缘...
    2026-03-20
  • 掩模组件
    掩模组件_三星显示有限公司_202510520189.5
    提供了一种掩模组件，该掩模组件可以包括：框架、掩模片和辅助杆。掩模片可以包括片框架和从片框架突出的突起。片框架可以具有限定片框架的开口的内表面，并且突起可以在与第一方向相交的第二方向上从片框架的内表面中的在第一方向上延伸的一个内表面朝向开口...
    2026-03-20
  • 半导体工艺腔室及半导体工艺设备
    半导体工艺腔室及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202410916923.5
    本发明公开一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备，所公开的半导体工艺腔室包括腔室本体、遮蔽件和承载装置，所述遮蔽件和所述承载装置可活动地设于所述腔室本体之内；在所述遮蔽件处于第一位置、且所述承载装置处于第三位置时，所述遮蔽件与所述承载装置相对，...
    2026-03-20
  • 一种铝铬共渗层及其制备方法与应用
    一种铝铬共渗层及其制备方法与应用_中国科学院宁波材料技术与工程研究所_202410931053.9
    本发明公开了一种铝铬共渗层及其制备方法与应用。所述制备方法包括：将铝铬共渗剂施加于金属基体表面，之后在惰性气氛中于1000～1100℃进行热处理，从而在所述金属基体表面形成铝铬共渗层；其中，所述铝铬共渗剂包括铝、氧化铬、碘化铵及氧化铝的组合...
    2026-03-20
  • 一种QPQ活塞杆的耐腐蚀处理装置及其操作方法
    一种QPQ活塞杆的耐腐蚀处理装置及其操作方法_宁波市巨华东机械有限公司_202511590378.6
    本发明涉及活塞杆处理技术领域，公开了一种QPQ活塞杆的耐腐蚀处理装置，包括框体，所述框体的左侧内部固定连接有氮化盐浴槽，所述框体的顶部固定连接有顶板，所述顶板的左侧壁设置有方位调节机构；所述方位调节机构：包括保护箱、两个第一电机、两个第一导...
    2026-03-20
  • 一种蜂蜡保护改善合金齿轮抗疲劳能力的方法
    一种蜂蜡保护改善合金齿轮抗疲劳能力的方法_陕西长羽航空装备股份有限公司_202511439572.4
    本发明公开了一种蜂蜡保护改善合金齿轮抗疲劳能力的方法，包括以下步骤：S1、涂覆蜂蜡；S2、镀铜；S3、渗氮：将所述齿部进行渗氮处理，渗氮结束后再次将齿部涂覆蜂蜡，均匀涂抹3～5层，并全覆盖整个齿部；S4、去铜：将所述齿轮本体进行去铜处理。本...
    2026-03-20
  • 一种真空低压复合热处理装置
    一种真空低压复合热处理装置_烟台隆辉金属制品有限公司_202511502477.4
    本申请涉及一种真空低压复合热处理装置，涉及金属件加工的技术领域，其包括底座，所述底座的上表面固定连接有真空炉体，所述真空炉体的左侧设置有真空组件，所述真空炉体的右侧设置有低压气体循环组件，所述真空炉体的内部设置有打散组件，所述真空炉体的内部...
    2026-03-20
  • 一种高结合强度高性能绝缘涂层的制备方法
    一种高结合强度高性能绝缘涂层的制备方法_泰尔(安徽)工业科技服务有限公司_202511569373.5
    本发明公开了一种高结合强度高性能绝缘涂层的制备方法，包括以下步骤：①基体处理：在基体表面加工细槽，采用抛光的方式去除细槽顶部尖角，进行喷砂毛化；②制备粉末：采用机械混合的方式制备喷涂粉末，混合时间2~3h；③制备涂层：采用大气等离子喷涂技术...
    2026-03-20
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