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  • 本发明提供了一种直线导轨磨床的开关门机构,属于磨床设备技术领域。它解决了现有技术占用空间大等技术问题。本直线导轨磨床的开关门机构,包括第一门板,所述的第一门板一侧设有截面呈L形的第二门板,所述的第一门板内侧与第二门板内侧相邻但不接触且通过第...
  • 本公开提供了一种磨床动平衡的控制方法、系统、设备、介质及其程序产品。该控制方法包括:获取磨削单元的原始幅值;基于预设的初始角度步长控制动平衡组件行首次校正移动,并获取首次校正移动后磨削单元的首次校正幅值;基于首次校正幅值与原始幅值确定校正离...
  • 本发明涉及半导体制造设备校准领域,公开了一种晶圆倒角设备上的stage定位精度校准装置及方法。本发明中,包括stage组件、高精度校准靶标、高精度视觉系统及数据处理与控制系统,stage组件安装在晶圆倒角设备内,且包括X轴直线运动模块、Y轴...
  • 提供能够自动决定最适合晶片等工件的膜厚推定方案的工件的膜厚推定方法及研磨装置。工件的膜厚推定方法在多个参照工件的研磨中生成来自多个参照工件的反射光的多个参照光谱,制作包含多个参照光谱和表示对多个参照工件分别决定的多个膜厚推定方案的多个方案标...
  • 本发明涉及陶瓷劈刀加工设备技术领域,尤其是一种陶瓷劈刀坯料料盘,包括框体以及多个放置盘,放置盘上具有多个放置坯料的放置孔,所述框体的另外两个相对的面均固定设置有用于外接固定结构的连接轴,所述连接轴内均通过密封旋转接头连接有导气管,所述框体内...
  • 本发明涉及一种皮带轮抛光工艺自动上下料装置,包括设置在自动化机械手侧边的底座和用于对皮带轮进行输送的输送带,所述底座的内腔设置有用于对皮带轮进行上下料的输送机构和用于对皮带轮进行定位的定位机构;本发明涉及自动上下料技术领域。该一种皮带轮抛光...
  • 本发明公开了一种微球研磨保持架和一种微球研磨组件,微球研磨保持架包括保持架主体,保持架主体适于设置在两个研磨盘之间;保持架主体上形成有多个研磨兜孔,研磨兜孔适于收容微球的部分;保持架主体的一侧端面形成有多个滚珠卡槽,滚珠卡槽内设置有滚珠,滚...
  • 本发明公开了一种复合型抛光垫沟槽及沟槽加工方法,涉及抛光垫技术领域。一种复合型抛光垫沟槽,所述抛光垫的抛光工作面设置有:主沟槽,包括若干条同心圆分布的环状沟槽和均匀分布的径向沟槽,径向沟槽依次连通环状沟槽,与环状沟槽交织分布;次沟槽,为内接...
  • 本发明公开了一种抛光垫,抛光垫包括抛光层,抛光层由包括热塑性聚氨酯树脂和聚氯乙烯类树脂的混合浆料固化而成,相对于100质量份的热塑性聚氨酯树脂,混合浆料包括30~99质量份的聚氯乙烯类树脂,聚氯乙烯类树脂包括聚氯乙烯、氯乙烯与醋酸乙烯的共聚...
  • 本申请公开了多功能终点检测窗口,具体涉及一种用于化学机械抛光的抛光垫,该抛光垫包括:抛光层,该抛光层具有抛光表面和与抛光表面相反的抛光层界面表面,抛光层包括抛光材料;子垫层,该子垫层具有与抛光层界面表面相邻的子垫界面表面和与子垫界面表面相反...
  • 本发明公开了一种金刚石研磨盘装置及其系统,涉及金刚石、研磨加工技术领域。本发明中:包括用于研磨金刚石原料的研磨盘、放置待加工金刚石原料的治具环、驱动齿轮和外齿环,外齿环上配置有光电探头、研磨冷却液喷头和气液混合喷头。本发明还设有控制系统,可...
  • 本发明涉及抛光设备技术领域,具体为一种多工位的平面抛光设备,其包括设备主体,所述设备主体包括抛光工作区,所述抛光工作区包括上端开口的抛光筒,所述抛光筒内部可转动设有抛光台,所述抛光台呈内部镂空的圆柱状壳体且内腔用于填充抛光液,所述抛光台上端...
  • 本发明涉及晶圆抛光技术领域,提出了一种碳化硅晶圆电化学机械抛光装置,包括机体、抛光头和抛光台,抛光头和抛光台均可转动设置在机体上,还包括喷洒组件和调温机构,喷洒组件用于向抛光台上喷洒抛光液,喷洒组件包括喷洒管,喷洒管位于抛光台的上方,喷洒管...
  • 本申请涉及磨削抛光技术领域,具体公开了一种晶圆抛光研磨设备及其研磨方法。安装台设置的码放工位可实现待更换研磨抛光垫的有序存放,配合研磨抛光台与研磨抛光头的基础布局,在安装座上集成转运机构、吸附机构及贴合机构,使设备具备全自动更换研磨抛光垫的...
  • 本发明涉及一种硅片研磨设备的定盘清洁与维护方法,所属硅片加工技术领域,包括如下操作步骤:第一步:采用清洁工具对定盘进行清理。第二步:在设备预热阶段,温度为30±2℃进行执行清洁程序;采用干式清洁和湿式清洁的两阶段清洁法,清洁后通过在线监测单...
  • 本发明公开了一种基于双面抛光的高面形精度薄片光学元件加工方法,包括以下步骤:加工两片具有相同厚度且径厚比大于10的第一光学薄片;在每片第一光学薄片的一个表面上制备一层牺牲层;将两片第一光学薄片通过牺牲层形成复合键合体;对复合键合体外表面进行...
  • 本发明公开了一种石英喷嘴研磨机,属于精密研磨加工设备领域,该设备在机架上集成设置了主旋转台、显微镜测量架、往复机构和研磨臂组件。其核心改进在于增设了一套真空检测系统,该系统通过气管将真空泵、电接点负压表和导气滑环串联,并与主旋转台中装夹工件...
  • 本发明提出了一种磨粒有序化排布珩磨油石及其制造方法,属于油石技术领域。将合金粉、陶瓷粉、镀硅/钨金刚石、聚晶立方氮化硼和乙醇混合球磨,超声分散均匀,热压烧结,制得基体,经过前处理、表面活化、电沉积、后处理工艺,制得磨粒有序化排布珩磨油石。本...
  • 本发明公开一种多能场耦合的三相磨粒流抛光装置、加工控制方法及仿真方法。该装置包括流道板及循环系统、超声电磁复合系统、七自由度机械测量系统以及计算机数控系统。所述流道板及循环系统用于实现介质的连续输送与能量均匀分布。超声电磁复合系统通过程控电...
  • 本申请公开了一种复合抛光装置,包括:机械抛光机构,用于对工件进行化学机械抛光;电解抛光机构,包括电解槽,电解槽内部装填有电解液,电解槽设置有电源、阳极支架和阴极;光催化机构,包括智能紫外线光源、光路传输组件,光路传输组件包括光纤和微透镜阵列...
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