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  • 本发明公开了一种用于大引出量基板玻璃生产的牵引辊及安装、使用方法,涉及玻璃制造设备与工艺技术领域,包括拐臂、牵引辊、退火炉、拐臂支撑轴和轴承;牵引辊水平穿设于退火炉内部,且牵引辊的两端延伸至退火炉外部;牵引辊的轴端外侧套设有定位环且定位环与...
  • 本申请涉及退火设备技术领域,旨在解决已知的石英玻璃退火性能优化效果一般的技术问题,提供退火装置及退火方法。其中,退火装置用于退火处理产品,退火装置包括:退火炉,退火炉限定炉腔,退火炉包括炉壁及加热件,加热件设于炉壁,加热件用于加热炉腔;安装...
  • 本发明涉及玻璃加工技术领域,尤其涉及一种玻璃弯钢化设备用支撑装置及其应用方法,该支撑装置包括基座、风栅和升降组件,其中,基座设于风栅下方;升降组件为两组,对称布置于风栅的两侧,每组升降组件包括电机、丝杆和螺母座,其中,电机固定于基座上,螺母...
  • 一种玻璃片处理设备包括第一台架组件,其在横向机器方向上在玻璃片上延伸。所述第一台架组件包括沿着第一台架组件的长度移动的处理头,以及包括激光器,所述激光器包括定位在激光器的光束路径中的光学装备,从而提供在光学装备的光束输出侧上形成的激光束焦线...
  • 本申请实施例提供一种光纤预制棒及其制备方法、光纤、OVD工艺设备。该光纤预制棒包括由内向外依次设置的芯体、内包层、调节层和外包层;所述调节层包括与所述内包层相邻的第一调节层和与所述外包层相邻的第二调节层;所述第一调节层的相对折射率小于所述第...
  • 本发明公开了漏板模块及玄武岩纤维拉丝工艺,涉及纤维成型技术领域。漏板模块,包括漏板结构;漏板结构包括耐热绝缘环、储存壳和成型立管;熔炉内腔、耐热绝缘环内腔、储存壳内腔和成型立管内腔顺序连通;储存壳包括立筒和第一底板;立筒外侧壁顶端连接有接线...
  • 本发明涉及陶瓷釉坯的制备技术领域,尤其涉及一种用于陶瓷釉坯的水解CMC流变性调节方法,包括:制备水解CMC溶液,并将水解CMC溶液和釉料浆体以预设比例混合得到混合釉浆;基于光通路的连续性指数确定混合釉浆的悬浮性是否合格,以调节预设比例;将所...
  • 本申请涉及玻璃领域。本申请提供一种原材玻璃、微晶玻璃、化学强化玻璃、玻璃盖板、显示屏、电子设备和结构件。本申请可以通过合理调控原材玻璃、微晶玻璃组分中的各氧化物的摩尔配比,使用ZrO2替换Al2O3,形成了性能优异的MgO‑ZrO2‑SiO...
  • 本发明公开了一种玻璃熔石及其制作方法,属于玻璃制品技术领域,玻璃熔石的组成按重量百分比计包括:氧化铝3~7%、氧化硅62~70%、氧化钙4~8%、氧化镁1~4%、氧化钠12~16%、氧化钡1~4%、氧化硼1~5%、氧化钾0~5%。通过优化组...
  • 本申请提供一种玻璃及其制备方法、玻璃组件及应用,以质量百分比计,该玻璃的化学组成包括:55%~75%的SiO2、0%~10%的Al2O3、0%~5%的TiO2、5%~15%的Na2O、2%~10%的K2O、0%~5%的ZnO、0%~10%的...
  • 本发明提供一种抗菌性陶瓷球及其制备方法,涉及抗菌材料技术领域。本发明将含有无机抗菌剂的抗菌性玻璃分散在陶瓷中,既能提供抗菌成分的缓释性能,能持久的释放有效杀菌浓度的银离子,又能避免银离子因为光照等原因的变色。
  • 本发明涉及陶瓷上釉领域,更具体的说是一种陶瓷釉料及其加工方法。一种陶瓷釉料的加工方法,包括以下步骤:步骤一:将二氧化硅、氧化钙、氧化镁和氧化纳混合研磨;步骤二:将研磨后的混合物加水搅拌形成陶瓷釉料;步骤三:将陶瓷釉料装入料桶中,将素陶放置在...
  • 本发明公开了一种低温制备深棕色釉的方法,通过锰渣与氧化铬的使用,辅以二氧化钛、磷酸钙和碳酸锶,构建了K‑Na‑Ca‑Mg‑Fe‑Sr‑P的多元低温共熔体系,实现了氧化气氛下1150~1180℃温度的烧成,通过形成铁铬尖晶石与锰铬尖晶石晶相及...
  • 本发明涉及陶瓷釉料技术领域,且公开了一种抗釉裂抗菌陶瓷釉料及制备方法,本发明将聚乙烯亚胺和4‑羟基邻苯二甲酸酐进行反应,得到改性聚乙烯亚胺,然后以纳米二氧化钛作为光催化抗菌剂,与长石、硅微粉、方解石等球磨共混,上釉、高温烧成,得到抗釉裂抗菌...
  • 本发明公开了一种无铅金属光泽釉的制备方法,通过引入硼酸钙熔块等无铅原料、并回收利用钢渣而构建配方体系,促使着色离子(Co2+、Fe3+、Mn2+等)在网络结构中均匀分布,从而赋予釉层环保、高光泽度以及色彩稳定特性。本发明不仅有效降低了生产成...
  • 本发明涉及微晶玻璃技术领域,具体地说,涉及一种含二氧化硅的微晶玻璃晶圆基板及其制备方法。其包括以下步骤:称取三氧化二铝、羟乙基尿素、二氧化铬、氧化锂、氧化镁、二氧化钛、澄清剂、增韧剂和二氧化硅;将羟乙基尿素制成水溶液,将粉体和澄清剂、增韧剂...
  • 本发明公开一种微晶玻璃及其制备方法,该微晶玻璃由70‑80wt%的结晶相和20‑30wt%的玻璃相组成,所述结晶相为二硅酸锂和透锂长石。本发明通过合理的晶化工艺来严格控制材料中所析出二硅酸锂及透锂长石的晶体含量及比例,通过生产工艺的合理调整...
  • 本发明公开了一种高阈值高增透的激光窗口及其制造方法,属于微纳光学加工领域。该方法摒弃传统贵金属及高温退火工艺,采用低熔点软金属作为蒸发膜料。通过在真空环境中,将光学基底加热至80‑200℃并维持在该温度,利用电子束蒸发技术进行至少两次循环沉...
  • 本发明公开了一种玻璃选择性环保蚀刻液及其专用设备,属于微电子制造与先进封装技术领域。所述蚀刻液包含氢氧化钾、碳酸钾、复合润湿渗透剂及多机制阻垢分散剂,能够在20℃左右的室温下实现对玻璃的激光改性区域进行高效、高选择性蚀刻,并有效抑制副产物沉...
  • 本发明提供一种低闪点盖板AG玻璃的制备方法及AG玻璃。本发明在现有设备基础上采用两步法化学蚀刻工艺,第一步在玻璃表面蒙砂蚀刻形成一定的初级凹坑结构,奠定基础颗粒尺寸,第二步对上述粗糙的表面进行二次蒙砂蚀刻,对粗糙表面细化处理,形成较为精细的...
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