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最新专利技术
  • 一种旋转阴极磁场均匀保障装置
    一种旋转阴极磁场均匀保障装置_季华实验室_202511668203.2
    本发明涉及真空镀膜设备领域，本发明公开了一种旋转阴极磁场均匀保障装置，包括：靶筒，靶筒包括内腔，内腔包括主冷水口；磁棒，磁棒沿轴向设置在内腔之内；冷水管，冷水管沿轴向设置在内腔内，冷水管包括进水口和出水口，出水口与主冷水口连通；第一喷管，第...
    2026-03-06
  • 一种曲面光学元件镀膜定位装置
    一种曲面光学元件镀膜定位装置_伯恩光学(惠州)有限公司_202511158771.8
    本发明公开了一种曲面光学元件镀膜定位装置，包括基座模块，包括通过几何定位部连接的支撑基座和角度调节部；覆盖模块，包括具有功能孔区的承载框架以及至少两个装配式弹性压紧组件；所述弹性压紧组件包括螺纹调距连接件以及弹性力源产生部；基座模块与覆盖模...
    2026-03-06
  • 工件镀膜工装
    工件镀膜工装_烟台先进材料与绿色制造山东省实验室_202511320030.5
    本发明公开了一种工件镀膜工装，涉及真空镀膜技术，包括固定支架、背板、旋转机构，固定支架设置于真空腔室内；背板上设有夹持机构，能够将工件固定夹持于所述背板一侧；旋转机构安装于所述固定支架上，其一端与所述背板远离工件一侧固定连接，另一端连接有驱...
    2026-03-06
  • 一种磁控溅射用在线调整磁场强度的方法、装置、设备及介质
    一种磁控溅射用在线调整磁场强度的方法、装置、设备及介质_浙江景昇薄膜科技有限公司_202511295530.8
    本发明提供一种磁控溅射用在线调整磁场强度的方法、装置、设备及介质，所述方法包括：在计算机中输入设定的磁场强度参数，而后将指令发送至磁控溅射装置中的硬件调控组件；根据所述硬件调控组件中接收的指令，驱动磁棒调整组件调整磁场强度；第一实时监测磁控...
    2026-03-06
  • 一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法
    一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法_哈尔滨工业大学_202511678279.3
    本发明提供了一种多光谱伪装红外波长选择薄膜及其制备方法，属于光谱热辐射管理技术领域，包括：根据薄膜材料在3‑25μm波段内的光学常数，筛选在8‑14μm波段具有定向发射的材料作为定向发射层材料；将定向发射层材料与无损介质材料和金属材料进行组...
    2026-03-06
  • 一种真空腔体
    一种真空腔体_苏州迈为科技股份有限公司_202511272708.7
    本发明涉及一种真空腔体。真空腔体包括腔体本体和腔盖，腔盖盖设于腔体本体上，真空腔体还包括至少一个第一破真空机构和/或至少一个第二破真空机构，第一破真空机构设置于腔盖上，第一破真空机构与腔盖上的第一进气口连通，第一破真空机构包括第一进气板和第...
    2026-03-06
  • 一种用于柔性透明导电膜的镀膜装置及方法
    一种用于柔性透明导电膜的镀膜装置及方法_湖北省御鼎新材料科技有限公司_202511308149.0
    本发明涉及柔性透明导电膜镀膜技术领域，提出了一种用于柔性透明导电膜的镀膜装置及方法，包括基座、加工座、侧架、滑筒、张紧轮组、调控部件、镀膜机体和镀膜溅射源，其中，加工座设置在所述基座上，用于在竖直方向上支撑卷材；侧架设置在所述加工座的一侧。...
    2026-03-06
  • 一种基于组合膜层性能差异的光学特性区域可控方法以及光学元件
    一种基于组合膜层性能差异的光学特性区域可控方法以及光学元件_超丰微纳科技(宁波)有限公司_202511255668.5
    本发明公开了一种基于组合膜层性能差异的光学特性区域可控方法以及光学元件，本方法包括以下步骤：提供一基底；在所述基底表面沉积一复合膜层结构；所述复合膜层结构至少包括一第一膜层和一第二膜层；所述第二膜层沉积于所述第一膜层之上；所述第一膜层单独存...
    2026-03-06
  • 一种FeNi-C-CNTs-碳纤维复合材料及其制备方法和应用
    一种FeNi-C-CNTs-碳纤维复合材料及其制备方法和应用_湖南工程学院_202511680921.1
    本发明公开了一种FeNi‑C‑CNTs‑碳纤维复合材料及其制备方法和应用，包括下述的步骤：(1)将碳纤维切割成短纤维并分散成纤维束，然后将纤维束进行固定并进行静电分散；(2)在分散的碳纤维表面喷涂粘合剂，使碳纤维表面形成粘合剂层，然后进行粘...
    2026-03-06
  • 一种用于蓝宝石镀膜原子气室的制备方法和系统
    一种用于蓝宝石镀膜原子气室的制备方法和系统_中国人民解放军国防科技大学_202511656463.8
    本发明涉及一种用于蓝宝石镀膜原子气室的制备方法和系统，其中，制备方法包括：S1.将清洗后的原子气室放置于反应室的加热基台上，向反应室充入置换气以排出其中的残留气体；S2.向反应室充入铝源气体，在原子气室的壁面发生化学吸附以形成第一膜层；S3...
    2026-03-06
  • 一种基于金属单质溶液的TMDs薄膜的制备方法
    一种基于金属单质溶液的TMDs薄膜的制备方法_南京师范大学_202511023902.1
    本发明公开了一种基于金属单质溶液的TMDs薄膜的制备方法。制备金属单质溶液，同时对生长基材进行预处理，接旋涂金属单质溶液沉积金属膜，再进行硫化/硒化，制备方法简单，材料产出稳定，能够生长出连续、均匀的TMDs薄膜。另外，本发明所制备的TMD...
    2026-03-06
  • 一种大面积二硫化钒薄膜的制备方法、光电探测器及应用
    一种大面积二硫化钒薄膜的制备方法、光电探测器及应用_大连交通大学_202511163145.8
    一种大面积二硫化钒薄膜的制备方法、光电探测器及应用，所述制备方法包括如下步骤：步骤1，高温退火预处理：将蓝宝石衬底材料置于氩气与氧气的混合气氛中进行高温退火处理，得预处理后的衬底；步骤2，低压化学气相沉积：以硫粉、五氧化二钒粉末为前驱体在步...
    2026-03-06
  • 碳化钽涂层及其制备方法、碳化钽涂层制品
    碳化钽涂层及其制备方法、碳化钽涂层制品_甬江实验室_202511189185.X
    本申请公开了一种碳化钽涂层及其制备方法、碳化钽涂层制品，其中，所述碳化钽涂层的制备方法包括以下步骤：以固态钽源和含卤素元素和碳元素的气体为原料进行化学气相沉积，得到碳化钽涂层；所述固态钽源在2000℃的饱和蒸气压为10Pa以下。本申请通过以...
    2026-03-06
  • 一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法
    一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法_上海晶丰同创半导体技术有限公司_202511291084.3
    本发明涉及一种化学气相沉积的加强穹顶及其制备方法，具体涉及气相沉积技术领域，包括：穹顶本体，设置于所述穹顶本体上的至少3个加强筋；所述加强筋的分布方式包括：放射分布、同心圆分布或网状分布中的一种或至少两种的组合；所述加强筋的高度与宽度的比例...
    2026-03-06
  • 一种炉门控制结构及镀膜设备
    一种炉门控制结构及镀膜设备_深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司_202511490355.8
    本发明公开了一种炉门控制结构及镀膜设备，包括控制炉门相对炉口移动的炉门开合组件，从而使得炉口被打开或关闭；所述炉门开合组件与炉门通过炉门的多个微调组件连接，所述微调组件包括与炉门连接的转动件及与所述炉门开合组件连接的定位件，所述定位件与所述...
    2026-03-06
  • 高效稳定加热式固态前驱体源瓶
    高效稳定加热式固态前驱体源瓶_浙江陶特容器科技股份有限公司_202511634550.3
    本发明公开了高效稳定加热式固态前驱体源瓶，涉及半导体制造技术领域，包括腔体模块，腔体模块由左腔体和右腔体构成，且腔体模块内部配备排气模块，该排气模块可使输入的载气以覆盖式流动，从而均匀地与左腔体内部的固态前驱体接触，左腔体专门用于固态前驱体...
    2026-03-06
  • 具有氧化镓层的基板及其制造方法
    具有氧化镓层的基板及其制造方法_株式会社奈瑟斯比_202510222018.4
    本发明涉及一种包括氧化镓层的基板制造方法。根据本发明的实施例的基板制造方法，在包括利用包含气体供应组件及液体供应组件中的至少一个的沉积装置的氧化镓层的基板制造方法中，其特征在于，包括：基板准备步骤，将源基板布置在腔室单元的内部；缓冲层生成步...
    2026-03-06
  • 含金属材料的选择性沉积
    含金属材料的选择性沉积_ASMIP私人控股有限公司_202510750459.1
    本公开涉及用于相对于衬底的第二表面在衬底的导电表面上沉积含金属材料的选择性沉积方法。该方法包括提供包括导电表面和第二表面的衬底，使衬底与包含硅的抑制剂反应物接触以使第二表面钝化，并且使衬底与包含硅原子和羟基的活化剂反应物接触以活化导电表面。...
    2026-03-06
  • 一种OLED金属掩膜板的制作方法及掩膜板
    一种OLED金属掩膜板的制作方法及掩膜板_东莞市宏诚光学制品有限公司_202511260185.4
    本发明涉及半导体发光二极管技术领域，公开了一种OLED金属掩膜板的制作方法及掩膜板，所述制作方法包括基板预处理与图形化、蚀刻与后处理、应力监测与退火、防护层沉积、ALD监测与调整等步骤。本发明通过“MBIL混合曝光+FEA仿生结构+ALD防...
    2026-03-06
  • 晶硅片镀膜设备
    晶硅片镀膜设备_隆基绿能科技股份有限公司_202511119908.9
    本申请属于镀膜设备领域，尤其是涉及晶硅片镀膜设备。该晶硅片镀膜设备包括石墨舟；石墨舟包括至少一个石墨舟页串组，石墨舟页串组包括多个石墨舟页、多个导电块与多个绝缘块。多个石墨舟页在第一方向间隔布置；多个导电块设置在相邻石墨舟页在第二方向两端之...
    2026-03-06
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