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最新专利技术
  • 加热板和制造加热板的方法
    加热板和制造加热板的方法_细美事有限公司_202411972466.8
    本发明公开了一种加热板和制造加热板的方法。具体公开的用于支承和加热基板的加热板包括：基部层，在该基部层上安设基板；结合层，该结合层结合到基部层的下表面；结合力降低体，该结合力降低体设置在基部层与结合层之间、以降低在结合层与基部层之间的界面结...
    2025-09-23
  • 用于提供对多个表面进行低能量除霜和加热的系统、方法和装置
    用于提供对多个表面进行低能量除霜和加热的系统、方法和装置_倍得除霜技术公司_202411964616.0
    提供了用于从多个表面检测和移除冻结积聚物的系统、方法和装置。所述系统包括：连接到所述多个表面的多个传导元件；传导地连接到所述多个传导元件中的每个传导元件的供电单元，所述供电单元被配置成加热所述多个传导元件中的每个传导元件；以及连接到所述供电...
    2025-09-23
  • 用于达成高带宽和低延迟的双带仪器通信
    用于达成高带宽和低延迟的双带仪器通信_基思利仪器有限责任公司_202411966867.2
    公开了用于达成高带宽和低延迟的双带仪器通信。系统和方法实现了测试与测量仪器之间的通信。在测试与测量系统中可以包括第一测试与测量仪器和第二测试与测量仪器。双带通信链路被耦合在第一测试与测量仪器和第二测试与测量仪器之间。双带通信链路包括具有第一...
    2025-09-23
  • 在牢固安装的声学谐振器中的蚀刻区域配置
    在牢固安装的声学谐振器中的蚀刻区域配置_株式会社村田制作所_202411971011.4
    提供了一种声学谐振器，该声学谐振器包括基板、压电层、设置在基板和压电层之间的布拉格反射层、以及压电层表面的IDT，该表面面向布拉格反射层。IDT包括从第一母线和第二母线延伸的多个交错指状物。此外，蚀刻区域延伸到压电层的至少一部分中，该蚀刻区...
    2025-09-23
  • 一种绝缘性能优良的连接器
    一种绝缘性能优良的连接器_乐清昌德成电子有限公司_202411971278.3
    本申请提供了一种绝缘性能优良的连接器，涉及线束连接器技术领域，包括连接器插头A、连接器插头B、两个密封件和两个密封棉垫，密封件的内部加工有多个走线槽口，密封棉垫的内壁处成型有多个延伸棉，连接器插头A和连接器插头B的顶部和底部均设置有同向传动...
    2025-09-23
  • 用于操作燃料电池系统的系统和方法
    用于操作燃料电池系统的系统和方法_沃尔沃卡车集团_202411967886.7
    本申请涉及用于操作燃料电池系统的系统和方法，尤其是一种用于控制燃料电池系统的操作的系统和方法，所述燃料电池系统包括：燃料电池单元，所述燃料电池单元包括燃料电池堆，所述燃料电池堆包括阴极和阳极；以及阴极再循环通道，所述阴极再循环通道被配置成将...
    2025-09-23
  • 球栅阵列封装
    球栅阵列封装_LG伊诺特有限公司_202411964710.6
    本实施例涉及一种球栅阵列封装。根据一个方面的球栅阵列封装包括：衬底；IC芯片，设置在衬底上；球，电连接衬底和IC芯片；以及加强部，设置在IC芯片上。
    2025-09-23
  • 用于处理基板的装置
    用于处理基板的装置_细美事有限公司_202411971792.7
    本发明提供了用于处理基板的装置。用于处理基板的该装置包括第一处理槽、第二处理槽、支承单元和升降器单元，该第一处理槽具有第一容纳空间，第一处理液容纳在该第一容纳空间中，并且该第一处理槽对多片基板执行液体处理，该第二处理槽具有第二容纳空间，第二...
    2025-09-23
  • 加工基板的装置和方法
    加工基板的装置和方法_细美事有限公司_202411969830.5
    本发明提供了加工基板的装置和方法。加工基板的装置包括：夹持单元，该加持单元在两侧夹持多个基板；本体，该本体支承夹持单元；致动单元，该致动单元相对于本体移动和旋转夹持单元；以及控制单元，该控制单元控制致动单元，其中，致动单元包括：水平致动单元...
    2025-09-23
  • 衬底处理设备
    衬底处理设备_细美事有限公司_202411966053.9
    本发明涉及一种衬底处理设备，包括：杯体，其中具有处理空间；支撑单元，用于在处理空间内支撑衬底；导向环单元，位于处理空间中、围绕放置在支撑单元上的衬底并将从衬底散落的处理液引导到杯体中；供液单元，用于向衬底供应处理液；以及驱动器；支撑单元包括...
    2025-09-23
  • 衬底处理装置
    衬底处理装置_细美事有限公司_202411962022.6
    所公开的是能够在同时驱动导引环单元和卡盘销的同时减小施加到卡盘销上的应力的衬底处理装置，其包括具有内部处理空间和开口顶部的杯状体、用于在处理空间内支撑衬底的支撑单元、用于向由支撑单元支撑的衬底供应处理液的液体供应单元以及设置成在上下方向上可...
    2025-09-23
  • 堆垛器设备和基板加工装置
    堆垛器设备和基板加工装置_细美事有限公司_202411969373.X
    本发明公开了堆垛器设备和基板加工装置，具体地，在其中水平地放置装载端口的基板加工装置的前面上设置的堆垛器设备包括：装载单元，该装载单元位于装载端口的前方并且包括配置为储存基板容纳容器的架；以及主框架，该主框架包括容器传送设备，该容器传送设备...
    2025-09-23
  • 基板处理装置
    基板处理装置_细美事有限公司_202411972534.0
    本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：容器，该容器提供密封性的处理空间；和基板支承构件，该基板支承构件定位于该容器的该处理空间中并且支承基板，其中，该容器包括：通孔，该通孔从外表面贯穿到内表面而形成，以便将工艺流体供应到该处理空间...
    2025-09-23
  • 基板加工装置和基板加工方法
    基板加工装置和基板加工方法_细美事有限公司_202411970720.0
    本发明提供了一种基板干燥方法和基板干燥装置，该基板干燥方法包括加压步骤、加工步骤和减压步骤，其中，该加压步骤包括以第一温度供应超临界流体的第一供应步骤和此后以高于第一温度的第二温度供应超临界流体的第二供应步骤。此后，在加工步骤中，通过供应与...
    2025-09-23
  • 缓冲室和包括缓冲室的衬底处理设备
    缓冲室和包括缓冲室的衬底处理设备_细美事有限公司_202411966051.X
    本发明涉及一种能够将缓冲单元的气氛保持在低湿度的缓冲室以及包括所述缓冲室的衬底处理设备。根据一个实施例，所述衬底处理设备包括：处理衬底的处理模块；以及转位模块，其将衬底从容纳衬底的容器传送到处理模块并将在处理模块中处理的衬底放入容器中，其中...
    2025-09-23
  • 衬底处理设备
    衬底处理设备_细美事有限公司_202411966050.5
    本发明涉及一种衬底处理设备，更具体地，涉及一种能够分别排放衬底处理期间产生的气体的衬底处理设备。本发明的目的在于提供一种能够同时分别排放气体与处理液体，并且能够在多个排气槽内提供均匀的压力的衬底处理设备。
    2025-09-23
  • 用于处理基板的装置
    用于处理基板的装置_细美事有限公司_202411963189.4
    本发明提供一种用于处理基板的装置。处理基板的该装置包括处理槽和支承单元，该处理槽具有容纳处理液的接收空间并且处理多个基板，该支承单元在该处理槽中支承这些基板，其中，该支承单元包括支承件和固定板，该支承件具有第一支承杆，该第一支承杆以竖直状态...
    2025-09-23
  • 处理衬底的设备和方法
    处理衬底的设备和方法_细美事有限公司_202411962017.5
    本发明公开了一种衬底处理方法和衬底处理设备，更具体地，一种通过调节供应到处理空间的气流来处理衬底的衬底处理设备。衬底处理设备包括：壳体，其具有上壁并提供内部空间；处理容器，其设置在内部空间中并提供具有敞开顶部的处理空间；支撑单元，其用于在处...
    2025-09-23
  • 衬底处理设备和衬底处理方法
    衬底处理设备和衬底处理方法_细美事有限公司_202411962013.7
    公开了一种能够恰当排放在衬底处理期间产生的杂质如烟雾的衬底处理设备和衬底处理方法，所述设备包括：壳体，设有内部空间；杯体，其设置在所述内部空间中并具有顶部开放的处理空间；支撑单元，用于在所述处理空间中支撑衬底；气流供应单元，其安装在所述壳体...
    2025-09-23
  • 处理衬底的方法
    处理衬底的方法_细美事有限公司_202411962011.8
    公开了一种处理衬底的方法，所述方法包括：衬底处理操作，在衬底上移动安装有处理部件的臂的同时用所述处理部件处理所述衬底，所述臂根据处理方案相对于所述衬底旋转；以及验证操作，在所述衬底处理操作之前验证接收的用于所述衬底处理操作的初始方案，其中所...
    2025-09-23
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