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  • 本发明公开一种基于油库的安全预警系统,利用视频监控模块对油库内的信息进行采集,获取现场实时数据,采集的数据包括油库人员操作信息;利用气象监测模块用于监测油库现场的空气温湿度,风速以及大气压力等气象因素进行监测;利用雷电预警模块采集户外信息进...
  • 一种显示装置包括:显示面板,包括包含透射区域的显示区域以及与显示区域相邻的非显示区域;以及输入传感器,在显示面板上,并且包括多个导电图案,其中多个导电图案包括:第一感测电极,包括沿着第一方向布置的多个第一感测图案以及被配置为将多个第一感测图...
  • 本公开提供一种多层电子组件。多层电子组件包括:主体,包括介电层以及交替设置的第一内电极和第二内电极且介电层介于第一内电极和第二内电极之间,并包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分;第一外电极和第二外电极,分别设置在第一部分和第二部分上并...
  • 本发明提供了加工基板的装置和加工基板的方法。加工基板的该装置包括:提供处理空间的腔室;设置在该处理空间中的基板支承单元;将气体引入该处理空间中的气体供应单元;提供能量的等离子体源,该等离子体源利用等离子体激发引入该处理空间的该气体;将该处理...
  • 本发明涉及一种分离离子的方法,以及一种捕获离子迁移率分离器。该捕获离子迁移率分离器具有在闭合环路中延伸的离子导向器,其包含有离子所穿过的、基本上静止的气体。设置作用于离子的轴向力,该轴向力由电场势垒引起,该电场势垒具有围绕离子导向器移动的电...
  • 公开了一种处理衬底的方法,所述方法包括:衬底处理操作,在衬底上移动安装有处理部件的臂的同时用所述处理部件处理所述衬底,所述臂根据处理方案相对于所述衬底旋转;以及验证操作,在所述衬底处理操作之前验证接收的用于所述衬底处理操作的初始方案,其中所...
  • 公开了一种能够恰当排放在衬底处理期间产生的杂质如烟雾的衬底处理设备和衬底处理方法,所述设备包括:壳体,设有内部空间;杯体,其设置在所述内部空间中并具有顶部开放的处理空间;支撑单元,用于在所述处理空间中支撑衬底;气流供应单元,其安装在所述壳体...
  • 本发明公开了一种衬底处理方法和衬底处理设备,更具体地,一种通过调节供应到处理空间的气流来处理衬底的衬底处理设备。衬底处理设备包括:壳体,其具有上壁并提供内部空间;处理容器,其设置在内部空间中并提供具有敞开顶部的处理空间;支撑单元,其用于在处...
  • 本发明提供一种用于处理基板的装置。处理基板的该装置包括处理槽和支承单元,该处理槽具有容纳处理液的接收空间并且处理多个基板,该支承单元在该处理槽中支承这些基板,其中,该支承单元包括支承件和固定板,该支承件具有第一支承杆,该第一支承杆以竖直状态...
  • 本发明涉及一种衬底处理设备,更具体地,涉及一种能够分别排放衬底处理期间产生的气体的衬底处理设备。本发明的目的在于提供一种能够同时分别排放气体与处理液体,并且能够在多个排气槽内提供均匀的压力的衬底处理设备。
  • 本发明涉及一种能够将缓冲单元的气氛保持在低湿度的缓冲室以及包括所述缓冲室的衬底处理设备。根据一个实施例,所述衬底处理设备包括:处理衬底的处理模块;以及转位模块,其将衬底从容纳衬底的容器传送到处理模块并将在处理模块中处理的衬底放入容器中,其中...
  • 本发明提供了一种基板干燥方法和基板干燥装置,该基板干燥方法包括加压步骤、加工步骤和减压步骤,其中,该加压步骤包括以第一温度供应超临界流体的第一供应步骤和此后以高于第一温度的第二温度供应超临界流体的第二供应步骤。此后,在加工步骤中,通过供应与...
  • 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括:容器,该容器提供密封性的处理空间;和基板支承构件,该基板支承构件定位于该容器的该处理空间中并且支承基板,其中,该容器包括:通孔,该通孔从外表面贯穿到内表面而形成,以便将工艺流体供应到该处理空间...
  • 本发明公开了堆垛器设备和基板加工装置,具体地,在其中水平地放置装载端口的基板加工装置的前面上设置的堆垛器设备包括:装载单元,该装载单元位于装载端口的前方并且包括配置为储存基板容纳容器的架;以及主框架,该主框架包括容器传送设备,该容器传送设备...
  • 所公开的是能够在同时驱动导引环单元和卡盘销的同时减小施加到卡盘销上的应力的衬底处理装置,其包括具有内部处理空间和开口顶部的杯状体、用于在处理空间内支撑衬底的支撑单元、用于向由支撑单元支撑的衬底供应处理液的液体供应单元以及设置成在上下方向上可...
  • 本发明涉及一种衬底处理设备,包括:杯体,其中具有处理空间;支撑单元,用于在处理空间内支撑衬底;导向环单元,位于处理空间中、围绕放置在支撑单元上的衬底并将从衬底散落的处理液引导到杯体中;供液单元,用于向衬底供应处理液;以及驱动器;支撑单元包括...
  • 本发明提供了加工基板的装置和方法。加工基板的装置包括:夹持单元,该加持单元在两侧夹持多个基板;本体,该本体支承夹持单元;致动单元,该致动单元相对于本体移动和旋转夹持单元;以及控制单元,该控制单元控制致动单元,其中,致动单元包括:水平致动单元...
  • 本发明提供了用于处理基板的装置。用于处理基板的该装置包括第一处理槽、第二处理槽、支承单元和升降器单元,该第一处理槽具有第一容纳空间,第一处理液容纳在该第一容纳空间中,并且该第一处理槽对多片基板执行液体处理,该第二处理槽具有第二容纳空间,第二...
  • 本实施例涉及一种球栅阵列封装。根据一个方面的球栅阵列封装包括:衬底;IC芯片,设置在衬底上;球,电连接衬底和IC芯片;以及加强部,设置在IC芯片上。
  • 本申请涉及用于操作燃料电池系统的系统和方法,尤其是一种用于控制燃料电池系统的操作的系统和方法,所述燃料电池系统包括:燃料电池单元,所述燃料电池单元包括燃料电池堆,所述燃料电池堆包括阴极和阳极;以及阴极再循环通道,所述阴极再循环通道被配置成将...
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