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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 相机调节组件、相机组件及激光加工装置
    相机调节组件、相机组件及激光加工装置_深圳镁伽科技有限公司_202423079960.X
    本实用新型提供了一种相机调节组件、相机组件及激光加工装置。相机调节组件包括拍摄件、光路组件和调节组件。拍摄件具有拍摄侧。光路组件设置于拍摄件的拍摄侧。调节组件具有第一端和第二端，调节组件的第一端与光路组件相连接，调节组件的第二端与拍摄件相连...
    2025-11-26
  • 一种电子束光刻图形数据结构及图形曝光控制方法
    一种电子束光刻图形数据结构及图形曝光控制方法_中国电子科技集团公司第四十八研究所_202511051880.X
    本发明公开了一种电子束光刻图形数据结构及图形曝光控制方法，数据结构包括文件头，用于文件识别；剂量表，用于图形曝光剂量调整；索引块，用于提供场位置和图形索引；模块库，用于提供图形复用功能；图形段，用于提供子场图形具体定义；文件尾，用于标识文件...
    2025-11-26
  • 光圈装置和其滑动组件
    光圈装置和其滑动组件_立讯智造科技(常熟)有限公司_202423324262.1
    本申请提供一种光圈装置和其滑动组件。滑动组件包括第一组接件、第二组接件和多个滚珠。第一组接件具有第一表面和多个第一容置槽，第一表面与轴线垂直，多个第一容置槽设置于第一表面。第二组接件具有第二表面和多个第二容置槽，第二表面与轴线垂直且与第一表...
    2025-11-26
  • 衬底支撑件和光刻设备
    衬底支撑件和光刻设备_ASML荷兰有限公司_202480018569.2
    一种被配置为支撑衬底的衬底支撑件，包括上部组件、芯组件和下部组件；其中：第一开口被形成在上部组件的上表面中；与第一开口连通的第一通路被限定在上部组件和芯组件中；与第一通路连通的第一提取通道由芯组件和下部组件限定；并且第一调节通道由芯组件和下...
    2025-11-26
  • 光刻设备硅片承载台、组装方法及光刻设备
    光刻设备硅片承载台、组装方法及光刻设备_北京华卓精科科技股份有限公司_202210512915.5
    本发明提供一种光刻设备硅片承载台、及其组装方法和光刻设备，涉及光刻设备的技术领域。其中，光刻设备硅片承载台，包括短行程模块、转接结构和桥接板组件，转接结构与短行程模块固定连接，转接结构与桥接板组件可拆卸地固定连接。该光刻设备硅片承载台，通过...
    2025-11-26
  • 使用透镜偏心的具有可调角度照明的投影系统和方法
    使用透镜偏心的具有可调角度照明的投影系统和方法_杜比实验室特许公司_202180078670.3
    投影系统及其校准方法涉及被配置为响应于图像数据而发射光的光源、被配置为引导光的照明光学系统，该照明光学系统包括第一透镜组和第二透镜组，以及数字微镜器件(DMD)，包括多个微镜，分别被配置为将被引导光作为开态光反射到预定位置，或将被引导光作为...
    2025-11-26
  • 一种具有高精度对位能力的硬压硬纳米压印设备
    一种具有高精度对位能力的硬压硬纳米压印设备_璞璘科技(杭州)有限公司_202511353831.1
    本申请提供了一种具有高精度对位能力的硬压硬纳米压印设备，包括：对位视觉系统、用于安装对位视觉系统的高精度载台和用于对位视觉系统的水平度调节支撑柱，对位视觉系统包括有镜像布置的两组相机，每组相机的外端依次设有Z轴滑台、Y轴载台和X轴载台，x轴...
    2025-11-26
  • 一种多光束激光全息制造复周期光子晶体的系统及方法
    一种多光束激光全息制造复周期光子晶体的系统及方法_长春理工大学_202511299238.3
    本发明涉及光子晶体制造领域，具体涉及一种多光束激光全息制造复周期光子晶体系统及方法，次设有激光器、多光束生成元件、光束准直元件、位移台、空间光调制器、聚焦透镜、光刻胶板、多轴位移台、上位机；所述上位机用于控制位移台、空间光调制器、多轴位移台...
    2025-11-26
  • 一种垂直飞轮水重力发电机
    一种垂直飞轮水重力发电机_刘昌辉_202511454557.7
    本发明公开了一种垂直飞轮水重力发电机，属于发电设备领域。包括垂直飞轮(周向分布6组共12个封闭循环水箱)、潜水泵、导水管、支撑结构架、低速发电机、电源程序控制器；电源程序控制器根据飞轮角度，控制潜水泵在水箱290°时启动、250°时关停，通...
    2025-11-26
  • 光圈装置和其滑动组件
    光圈装置和其滑动组件_立讯智造科技(常熟)有限公司_202423324157.8
    本申请提供一种光圈装置和其滑动组件，滑动组件用于产生绕轴线旋转的滑动，滑动组件包括第一组接件、第二组接件、多个滚珠。第一组接件具有第一表面和设置于第一表面的多个第一容置槽。第二组接件具有第二表面和与多个第一容置槽分别对应设置和多个第二容置槽...
    2025-11-26
  • 光圈装置和其滑动组件
    光圈装置和其滑动组件_立讯智造科技(常熟)有限公司_202423324163.3
    本申请提供一种光圈装置和其滑动组件，滑动组件用于产生绕轴线旋转的滑动，其包括第一组装件、第二组装件和多个滑动凸体。第一组装件具有第一表面和多个滑动凸体，第一表面与轴线垂直。第二组装件具有第二表面和多个容置槽，第二表面与轴线垂直且与第一表面对...
    2025-11-26
  • 基于自平衡差分信号积分放大电路的芯片状态监控电路
    基于自平衡差分信号积分放大电路的芯片状态监控电路_无锡中微亿芯有限公司_202211180502.8
    本申请公开了一种基于自平衡差分信号积分放大电路的芯片状态监控电路，涉及芯片技术领域，该芯片状态监控电路内置在芯片中，可以感应芯片的状态信号并经过放大和模数转换后传输给芯片配置电路，以便芯片配置电路进行状态监控以及时做出反馈或响应，从而提高芯...
    2025-11-26
  • 去除光掩模保护膜残胶的装置及方法
    去除光掩模保护膜残胶的装置及方法_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410636708.X
    一种去除光掩模保护膜残胶的装置及方法，其中方法包括：移除光掩模上的保护膜以暴露所述保护膜的残胶；将所述光掩模放置于加热装置上，对所述光掩模上的残胶进行加热；提供辅助板，所述辅助板上设置有镂空部，所述镂空部与所述保护膜的形状和大小相匹配；将所...
    2025-11-26
  • 一种包装纸盒印前晒版装置
    一种包装纸盒印前晒版装置_无锡市天彩包装印刷有限公司_202423294965.4
    本实用新型公开了一种包装纸盒印前晒版装置，包括壳体和灯座，所述壳体的顶部活动插接有连接架，所述壳体的顶部外壁固定连接有气缸，且气缸活塞杆的一端与连接架相固定，所述连接架的底端固定连接有连接板，连接板两端的底部均固定连接有半球体，所述连接板的...
    2025-11-26
  • 沉浸式投影系统
    沉浸式投影系统_香港理工大学_202480023815.3
    本发明公开了一种用于安装在沉浸式房间(150)的沉浸式投影系统(130)。沉浸式房间(150)包括具有开口和地板的天花板。沉浸式投影系统(130)包括：图像生成器(110)，其被配置为渲染要显示的图像；投影扭曲系统(120)，其被配置为对从...
    2025-11-26
  • 基于外差干涉结构的大量程光学加速度传感器及测量方法
    基于外差干涉结构的大量程光学加速度传感器及测量方法_中北大学_202511510005.3
    本发明涉及光学加速度传感器技术领域，具体是一种基于外差干涉结构的大量程光学加速度传感器及测量方法，该传感器包括窄线宽激光器、隔离器、1×2耦合器、第一声光调制器、第二声光调制器、第一1×3耦合器、第二1×3耦合器、第一环形器、第二环形器、第...
    2025-11-26
  • 一种竖直式幕布辅助展开结构
    一种竖直式幕布辅助展开结构_苏州黑白画映影视器材有限公司_202423178900.3
    本实用新型属于竖直式幕布技术领域，具体的说是一种竖直式幕布辅助展开结构，包括两个底座；所述底座顶部固接有第一支撑杆；所述第一支撑杆中部滑动连接有第二支撑杆；所述第二支撑杆设置在第一支撑杆外部；所述第二支撑杆侧壁安装有紧固螺栓；所述第二支撑杆...
    2025-11-26
  • 拍摄组件及激光加工装置
    拍摄组件及激光加工装置_深圳镁伽科技有限公司_202423062218.8
    本实用新型提供了一种拍摄组件及激光加工装置。拍摄组件包括发光件、拍摄件和光路组件。发光件沿第一路径发射光束，拍摄件具有拍摄光轴，光路组件具有反射件和角度调节结构，反射件设置在第一路径上对光束进行反射形成反射光束，角度调节结构与反射件相连接以...
    2025-11-26
  • 选择器单元、环形振荡器及测试结构
    选择器单元、环形振荡器及测试结构_广州增芯科技有限公司_202511103069.1
    本申请公开了一种用于标准单元动态切换的选择器单元、环形振荡器及测试结构。其中选择器单元通过并联不同阈值电压、驱动能力及逻辑功能的标准单元，并配合第一开关控制电路，实现差异化标准单元的灵活切换，突破传统测试电路的静态架构限制；环形振荡器通过将...
    2025-11-26
  • 一种基于硼硅酸玻璃晶圆的刻蚀深槽的方法
    一种基于硼硅酸玻璃晶圆的刻蚀深槽的方法_安徽华鑫微纳集成电路有限公司_202511139055.5
    本发明属于硼硅酸玻璃深槽技术领域，尤其是一种基于硼硅酸玻璃晶圆的刻蚀深槽的方法。本发明包括以下步骤：S1、在透明衬底的非刻蚀面蒸发一层钛金属膜；S2、在透明衬底的刻蚀面溅射一层0.6～1um的金属掩膜；S3、使用光刻和刻蚀形成图形化的掩膜，...
    2025-11-26
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