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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 用于YIELDSTAR的第二照射模式选择器（IMS）
    用于YIELDSTAR的第二照射模式选择器（IMS）_ASML荷兰有限公司_202480010303.3
    本文所公开的实施例涉及使用并行传感器概念并行测量多个标记的量测装置和方法，该并行传感器概念在空间中几何布置传感器，以允许并行获取。选择器可以被配置为阻挡标记的象限，以便生成图像。可以比较所获取的图像之间的强度差并将其平衡，使得非相干内部串扰...
    2025-09-18
  • 一种直写式光刻系统
    一种直写式光刻系统_苏州源卓光电科技有限公司_202111466602.2
    本发明提出一种直写式光刻系统，包括：光源模块，配置为产生曝光用光束，运动平台模块，配置为吸附工件并带动其运动至所需位置，对位检测模块，配置为用于工件对准和系统异常判断，光刻镜头模块，配置为产上图形光束，控制模块，配置为控制前述多个模块，其中...
    2025-09-18
  • 一种基于相关性的主接位移传感器三选二控制方法
    一种基于相关性的主接位移传感器三选二控制方法_中国长江电力股份有限公司_202510711429.X
    本发明提供一种基于相关性的主接位移传感器三选二控制方法，包括：Step1、实时采集3根传感器1#、2#和3#输出的码值
    2025-09-18
  • 探测微振动的微型面外加速度传感器和加速度探测方法
    探测微振动的微型面外加速度传感器和加速度探测方法_华中科技大学_202510753033.1
    本发明涉及振动探测技术领域，提供了一种探测微振动的微型面外加速度传感器和加速度探测方法。加速度传感器包括光纤和相对设置在光纤一端的弹性组件；所述弹性组件包括边框、中心质量块、四个边缘质量块、四个第一悬臂梁和四个第二悬臂梁；各边缘质量块环绕分...
    2025-09-18
  • 晶圆套刻精度测试方法、存储介质以及终端
    晶圆套刻精度测试方法、存储介质以及终端_中芯国际集成电路制造(上海)有限公司_202410276241.2
    一种晶圆套刻精度测试方法、存储介质以及终端，用于对待处理批次的晶圆进行套刻精度测试，所述待处理批次的晶圆包括X片待处理晶圆，X为自然数，其中方法包括：获取所述X片待处理晶圆的对准数据和调平数据；基于X片待处理晶圆的对准数据和调平数据，将X片...
    2025-09-18
  • 促进粘附的光致抗蚀剂底层组合物
    促进粘附的光致抗蚀剂底层组合物_杜邦电子材料国际有限责任公司_202510498273.1
    促进粘附的光致抗蚀剂底层组合物。公开了一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：衍生自包含两个或更多个环戊二烯酮部分的第一化合物和包含芳基部分和两个或更多炔基团的第二化合物的聚(亚芳基醚)；具有式(15)的添加剂以及溶剂： 2025-09-18
  • 套刻误差的测量装置及其测量方法
    套刻误差的测量装置及其测量方法_芯恩(青岛)集成电路有限公司_202510990858.5
    本发明提供一种套刻误差的测量装置及其测量方法。其中，所述套刻误差的测量方法是利用超构透镜的色散原理，采用不同波长的入射光经过同一所述超构透镜后，分别聚焦于不同焦平面上。且经过调节所述超透透镜的位置以及部分所述入射光的波长，可使得不同波长的所...
    2025-09-18
  • 一种密闭腔体的制冷模块的控制方法及系统
    一种密闭腔体的制冷模块的控制方法及系统_东莞先导先进科技有限公司_202510956884.6
    本发明涉及了影像设备技术领域，公开了一种密闭腔体的制冷模块的控制方法及系统，其中方法包括：实时获取制冷模块温度、制冷模块温度检测设备误差、发热端温度、腔体温度以及腔体湿度；根据腔体温度、腔体湿度、制冷模块温度检测设备误差、发热端温度和腔体温...
    2025-09-18
  • 一种多台面曝光装置
    一种多台面曝光装置_迪盛微(江苏)装备科技有限公司_202422815762.9
    本实用新型提供了一种多台面曝光装置，属于曝光装置技术领域。该曝光装置包括：工作台、多个台面、多个驱动机构、曝光组件、运动组件及光幕检测组件。工作台包括上下料位及曝光位，将待曝光工件放置在台面上，在驱动机构的驱动作用下移动到曝光位，通过曝光组...
    2025-09-18
  • 一种纳米光学加速度计及其制备方法
    一种纳米光学加速度计及其制备方法_中国人民解放军国防科技大学_202510860741.5
    本发明属于加速度计领域，具体涉及一种纳米光学加速度计及其制备方法，包括在硅片的两面沉积氮化硅薄膜，在一面的氮化硅薄膜采用光刻工艺在顶部氮化硅薄膜上形成目标图形，采用刻蚀法在目标图形处刻蚀氮化硅薄膜形成目标图形的孔，然后采用刻蚀法刻蚀硅片，释...
    2025-09-18
  • 一种基于SOC架构双余度的AD控制系统
    一种基于SOC架构双余度的AD控制系统_陕西千山航空电子有限责任公司_202510923042.0
    本申请提供了一种基于SOC架构双余度的AD控制系统，属于电子控制的技术领域，具体包括：两个SOC芯片，分别对应连接一个AD芯片；两个SOC芯片均设有心跳监测模块，两个SOC芯片通过IO硬件直接，两块SOC芯片通过心跳监测模块互相监测对端SO...
    2025-09-18
  • 可变增益放大器
    可变增益放大器_山东芯慧微电子科技有限公司_202510763325.3
    本发明涉及一种可变增益放大器，包括：第一差分共源管对、第二差分共源管对、第一共栅管对、第二共栅管对、第三共栅管对和控制电压产生电路；第一差分共源管对的栅级分别连接输入正和输入负；第一差分共源管的源极分别通过退化电阻连接第一电流源，第一差分共...
    2025-09-18
  • 光刻设备、增加等离子体浓度的方法和制造器件的方法
    光刻设备、增加等离子体浓度的方法和制造器件的方法_ASML荷兰有限公司_202480013411.6
    一种光刻设备（100）包括：限定环境（401）的外壳（400），其中该环境包围表面（402），其中外壳被配置为容纳等离子体；微波发生器（410），被配置为将微波辐射（411）提供到外壳中；磁源（420），被配置为生成邻近表面的磁场，该磁场与...
    2025-09-18
  • 一种可调预紧力的形状记忆合金往复致动器
    一种可调预紧力的形状记忆合金往复致动器_上海工程技术大学_202311029522.X
    本发明公开了一种可调预紧力的形状记忆合金往复致动器，包括壳体、位移台、位移台限位凸起、弹簧、可调预紧装置、形状记忆合金丝和限位机构；壳体包括上底板、下底板和筒体，上底板和下底板均水平布置；位移台包括板部，板部水平布置且位于壳体内；位移台限位...
    2025-09-18
  • 一种新型倒扣挤压式纳米压印光刻方法
    一种新型倒扣挤压式纳米压印光刻方法_吉林工业职业技术学院_202511110591.2
    本发明涉及半导体芯片方法领域，公开了一种新型倒扣挤压式纳米压印光刻方法，本发明致力于研究倒扣挤压式纳米压印光刻方法，该方法的特点在于光刻胶不是直接匀胶到衬底上，而是先匀胶在纳米压印膜的图形区，接下来倒扣到衬底上，通过外力将多余的光刻胶挤压出...
    2025-09-18
  • 基于MEMS产品优化接近式光刻机对准标记方法
    基于MEMS产品优化接近式光刻机对准标记方法_安徽华鑫微纳集成电路有限公司_202510941834.0
    本发明涉及半导体制造装备技术领域，尤其是一种基于MEMS产品优化接近式光刻机对准标记方法。本发明对晶圆对准标记进行优化，晶圆对准标记由中部标记和外部标记构成，中部标记采用正方形标记，外部标记设有多个并均匀分布在中部标记外周，外部标记围绕中部...
    2025-09-18
  • 一种掩膜板多维调整平台
    一种掩膜板多维调整平台_无锡富创得精密设备有限公司_202422821577.0
    本实用新型涉及半导体加工设备，具体为一种掩膜板多维调整平台，包括安装在调整架上的平移调整组件、装配在平移调整组件上的旋转马达，以及安装在旋转马达输出端用于放置掩膜板的承载组件；需要校准及调整掩膜板的放置位置时，平移调整组件进行驱动旋转马达进...
    2025-09-18
  • 光源模组和投影设备
    光源模组和投影设备_深圳市当智科技有限公司_202211048147.9
    本发明公开一种光源模组和投影设备，第一光源发射的第一光束部分作为第一出光光束、另一部分作为引发光束，引发光束可被第二光源转换为第二出光光束。第一二向色镜越靠近第二二向色镜，则对第一光束的反射面积越大，即引发光束越多，第二出光光束越多，第一出...
    2025-09-18
  • 一种多档位增益调整方法及装置
    一种多档位增益调整方法及装置_北京国科天迅科技有限公司_202111200005.5
    本发明实施例提供一种多档位增益调整方法及装置，其中方法包括：构建包括P端和N端的非对称增益结构；其中，P端和N端的输入口分别并联接有n个输入跨导管，并将所述输入跨导管分别通过若干开关对应接到N端的输出口和P端的输出口，同时N端的输出口和P端...
    2025-09-18
  • 投影仪
    投影仪_精工爱普生株式会社_202510274058.3
    提供投影仪，抑制光利用效率降低，且防止连接光源的发光元件与电极的线的断线、光源中的短路产生。投影仪具有：第1光源，其具有射出第1波段的第1光的第1发光元件、向所述第1发光元件供电的第1通电线、支承第1发光元件和第1通电线的基材；第1导光元件...
    2025-09-18
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