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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置
    邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置_铠侠股份有限公司_202110941662.9
    实施方式提供一种不管衬底的表面形状如何均能够适当修正邻近效应的邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置。实施方式的邻近效应修正方法中，根据从外部输入的描绘信息及从外部输入的衬底的表面形状信息，算出因电子束在衬底中背向散射而产生的背向散射束的能量...
    2025-09-26
  • 光刻胶废液再生装置
    光刻胶废液再生装置_福建钰融科技有限公司_202210146600.3
    一种光刻胶废液再生装置，用于回收光刻胶废液，包括精馏组件、第一回收罐、第一再沸器、吹扫器、第二回收罐和增压器，精馏组件和第一回收罐通过第一管道连通，精馏组件还和第一再沸器通过第一回流管连通，第一回收罐和第二回收罐通过第一出气管连通，增压器分...
    2025-09-26
  • 一种轨道式重力储能动力站
    一种轨道式重力储能动力站_湖南中矿金禾机器人研究院有限公司_202423034995.1
    本实用新型公开了一种轨道式重力储能动力站，所述动力站设置于轨道处，列车底部两侧设置有驱动板，动力站包括支撑座、摩擦轮、传动件、永磁同步电机、PLC控制柜、蓄电池储能控制柜，列车经过动力站时，摩擦轮与列车驱动板摩擦连接，永磁同步电机通过第一通...
    2025-09-26
  • 一种掩模版的布局方法及相关产品
    一种掩模版的布局方法及相关产品_深圳晶源信息技术有限公司_202511084280.3
    本发明提供了一种掩模版的布局方法及相关产品。布局方法包括在掩模版上划分出多个芯片框架区域，各芯片框架区域用于设置对应芯片的芯片版图，在各芯片框架区域之间具有切割道；构建量测布局框架，量测布局框架用于设置一种或多种量测链接标签，每种量测链接标...
    2025-09-26
  • 磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用
    磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用_上海新阳半导体材料股份有限公司_202111444525.0
    本发明公开了一种磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用。具体地，本发明公开了一种如式Ⅰ所示的磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用，以式Ⅰ所示的磺酸亚胺类化合物作为产酸剂制备得到的光刻胶组合物形成的胶膜矩形性佳。
    2025-09-26
  • 适用于多种构型一体式飞行汽车的跨域集成容错控制方法
    适用于多种构型一体式飞行汽车的跨域集成容错控制方法_东南大学_202510690358.X
    本申请适用于智能底盘控制与飞控技术领域，提供了一种适用于多种构型一体式飞行汽车的跨域集成容错控制方法，包括：构建整车坐标系下的飞行汽车通用动力学方程，其状态量为整车的三个平移速度及三个旋转速度，飞行汽车的具体控制输入为虚拟整车控制输入，虚拟...
    2025-09-26
  • 套刻补偿方法及装置、存储介质、电子设备
    套刻补偿方法及装置、存储介质、电子设备_中芯南方集成电路制造有限公司_202310477742.2
    一种套刻补偿方法及装置、存储介质、电子设备。所述方法包括：获取第一初始层对应的初始前馈补偿数据及反馈补偿数据；获取所述第一初始层的对准信息，并基于所述第一初始层的对准信息，确定对准方式；所述第一初始层的对准信息包括：对准层的标识信息；当对准...
    2025-09-26
  • 光刻胶去除方法及半导体器件制造方法
    光刻胶去除方法及半导体器件制造方法_青岛澳柯玛云联信息技术有限公司_202410284617.4
    本发明提供一种光刻胶去胶方法及半导体器件制造方法，在需要去除衬底上的光刻胶时，先在等离子体处理腔室中通入相应的无氧气体并进行等离子体激发，以产生相应的射线并作用在光刻胶表面，使光刻胶表面发生重融，进而去除光刻胶表面的硬壳，由此可以有效提高后...
    2025-09-26
  • 可变增益布置
    可变增益布置_恩智浦有限公司_202510268309.7
    本发明涉及一种接收器路径的可变增益布置，所述接收器路径被配置成接收输入信号并且将增益施加到所述输入信号以提供输出信号，所述可变增益布置包括：输入电容器布置，所述输入电容器布置包括第一输入电容器；反馈电容器，所述反馈电容器与所述输入电容器布置...
    2025-09-26
  • 用于半导体微影的对位系统及对位方法
    用于半导体微影的对位系统及对位方法_利易达半导体设备股份有限公司_202510253588.X
    本发明引入了一种用于半导体微影的对位系统及对位方法，显著提升了半导体制造中晶圆对位的精度。该对位系统包括一个用于粗略对位的第一对位模块，具有一比较宽泛容许范围；一个配备双摄影机系统、用于基于晶圆标记进行中间细化的第二对位模块；以及一个用于利...
    2025-09-26
  • 光学邻近修正方法
    光学邻近修正方法_中芯国际集成电路制造(天津)有限公司_202210108869.2
    一种光学邻近修正方法，包括：获取初始版图，所述初始版图包括若干初始图形；对所述初始版图进行缺陷检测，确定缺陷位置；在所述缺陷位置形成第一缺陷标记，所述第一缺陷标记包括可偏移的边界；根据所述缺陷位置，确定缺陷初始图形、对应所述缺陷初始图形的指...
    2025-09-26
  • 用于数字光刻的图像稳定化
    用于数字光刻的图像稳定化_应用材料公司_202080099720.1
    本公开内容提供当存在包括子像素交叉扫描振动的交叉扫描振动时，用于校正从空间光调制器(SLM)到基板的图像的投射的方法和系统。这些方法和系统包括：偏移相对于基板上的横向扫描行进方向旋转的SLM上的掩模图案，沿着SLM的轴偏移以对交叉扫描振动进...
    2025-09-26
  • 还款调整的处理方法、装置、设备、存储介质和程序产品
    还款调整的处理方法、装置、设备、存储介质和程序产品_兴业消费金融股份公司_202510564609.X
    本申请涉及一种还款调整的处理方法、装置、设备、存储介质和程序产品。所述方法包括：接收目标用户终端发起的还款计划调整请求；对所述还款计划调整请求进行审核；在所述还款计划调整请求符合预设的突发因素的情况下，调取所述目标用户的原始还款计划；根据所...
    2025-09-26
  • 一种基于二维振镜的DMD无掩模光刻系统及拼接光刻方法
    一种基于二维振镜的DMD无掩模光刻系统及拼接光刻方法_电子科技大学_202410761179.6
    本发明公开了一种基于二维振镜的DMD无掩膜光刻系统及拼接光刻方法，该系统包括依次设置的光源系统、DMD、偏转系统、投影系统、观察系统和样品台；曝光光源匀光准直整形照射在物面DMD上，DMD生成数字掩膜并反射携带图形信息的光束进入偏转系统，由...
    2025-09-26
  • 一种便携柔光罩
    一种便携柔光罩_深圳市纽尔科技有限公司_202421630856.2
    本实用新型涉及摄影设备技术领域，具体涉及一种便携柔光罩。该便携柔光罩，包括：本体，所述本体的两侧分别设置有固定件，所述本体的两侧通过所述固定件可拆卸连接并使所述本体构造为锥形结构，拍摄物位于所述锥形结构内，所述锥形结构的顶部具有开口，摄影设...
    2025-09-26
  • 光掩模坯、光掩模、光掩模坯的制造方法、光掩模的制造方法及器件的制造方法
    光掩模坯、光掩模、光掩模坯的制造方法、光掩模的制造方法及器件的制造方法_株式会社尼康_202480011539.9
    一种光掩模坯，其是在基板上具有第1层和第2层的光掩模坯，在所述基板上具有所述第1层，在所述第1层上具有所述第2层，所述第1层以原子组成百分率(原子％)计为60％以上99.5％以下的百分率包含锆。
    2025-09-26
  • 光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备
    光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备_上海微电子装备(集团)股份有限公司_202111266434.2
    本发明提供了一种光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备，所述光刻设备的垂向控制方法包括：在扫描曝光过程中，使用基板调焦调平系统实时测量基板上表面形位置，并通过计算外推点位置把基板面形外推到物镜下方，从而获得当前时刻物镜视场下方基板面形测量值，所...
    2025-09-26
  • 用于光刻装置的图案化设备环境的流体喷嘴
    用于光刻装置的图案化设备环境的流体喷嘴_ASML荷兰有限公司_202480011632.X
    一种用于光刻装置的图案化设备环境的流体喷嘴包括具有上表面和下表面的细长结构、设置在细长结构的下表面中的至少一个下部开口、以及连接到至少一个下部开口的导管，至少一个下部开口被配置为提供经由导管输送的流体流。
    2025-09-26
  • 基于大数据模型的信贷场景风险识别方法、设备及介质
    基于大数据模型的信贷场景风险识别方法、设备及介质_深圳大合创智科技有限公司_202510849192.1
    本发明公开了基于大数据模型的信贷场景风险识别方法、设备及介质，涉及风险识别技术领域，包括：基于安全信贷网站的历史借贷数据获取安全信贷特征；使用安全信贷分析法获取风险数据特征；建立信贷分析模型；基于信贷分析模型进行风险识别；本发明用于解决现有...
    2025-09-26
  • 条件设定辅助方法、存储介质和条件设定辅助装置
    条件设定辅助方法、存储介质和条件设定辅助装置_东京毅力科创株式会社_202510247624.1
    本发明涉及条件设定辅助方法和装置、以及存储介质，能够掌握伴随显影处理而向基片面内供给的显影液的供给量的分布。条件设定辅助方法包括：获取表示显影处理的条件的处理信息的步骤，显影处理包括一边使喷嘴沿基片的表面移动，一边从喷嘴对基片的表面供给显影...
    2025-09-26
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