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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种图案化组合物及其制备方法和应用
    一种图案化组合物及其制备方法和应用_珠海基石科技有限公司_202510780416.8
    本申请提供了一种图案化组合物及其制备方法和应用，所述图案化组合物包括如下质量百分含量的各组分：有机溶剂：90％‑99.9％；光敏性树脂：0.05％‑7％；离子液体：0.01％‑3％；所述离子液体中，含有乙烯基的离子液体占所述离子液体总质量的...
    2025-10-01
  • 一种避免曝光偏移的掩模曝光平台
    一种避免曝光偏移的掩模曝光平台_无锡中微掩模电子有限公司_202510943984.5
    本发明涉及掩模曝光领域，具体涉及一种避免曝光偏移的掩模曝光平台，包括曝光平台主体框架和驱动组件，所述曝光平台主体框架位于驱动组件的顶部；所述曝光平台主体框架的动力输出端转动连接有动力传动轴，所述动力传动轴的外侧套设有掩膜板承载盘，所述掩膜板...
    2025-10-01
  • 一种背投半硬幕的安装结构
    一种背投半硬幕的安装结构_锐映科技(苏州)有限公司_202422711904.7
    本实用新型涉及一种背投半硬幕的安装结构，设置于半硬幕与框架的连接处，包括：与框架固定的定位板，所述半硬幕边缘处固定连接有一锁定组件，通过缓冲结构弥补锁定组件与定位板之间产生的位移。通过缓冲结构弥补由于半硬幕导致定位板与锁定结构之间的形变位移...
    2025-10-01
  • 一种去除光刻胶的方法
    一种去除光刻胶的方法_上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司_202410330181.8
    本申请涉及半导体制造领域，公开了一种去除光刻胶的方法，包括：使用第一目标气体对硅片上的光刻胶进行干法去胶，并去除位于光刻胶上的硬层；所述第一目标气体包括氢气；当所述硬层完全去除、所述光刻胶部分去除，停止通入所述第一目标气体，并通入第二目标气...
    2025-10-01
  • 一种单片晶圆倒置双面结构显影花篮
    一种单片晶圆倒置双面结构显影花篮_天津华慧新科智能装备有限公司_202422180666.1
    本实用新型公开了一种单片晶圆倒置双面结构显影花篮，属于半导体技术领域，包括把手和托盘；其特征在于：所述托盘由圆环结构的上托盘和圆环结构的下托盘组成；所述托盘的外侧壁设置有与把手连接的凸起部；所述下托盘的内径等于上托盘的内径；在所述下托盘的下...
    2025-10-01
  • 一种图像采集装置及转辙机
    一种图像采集装置及转辙机_天津铁路信号有限责任公司_202310806913.1
    本发明公开了一种图像采集装置及转辙机，所述图像采集装置包括装置底座、上壳和器件安装底板；所述装置底座，包括水平分布的固定板、连接板和上盖板；固定板的顶部后侧，固定设置有垂直分布的连接板；连接板的顶部后侧，设置有水平分布的上盖板；上盖板的底部...
    2025-10-01
  • 审批调整信息的生成方法及装置、存储介质、电子设备
    审批调整信息的生成方法及装置、存储介质、电子设备_中国建设银行股份有限公司江苏省分行_202411832495.4
    本申请实施例提供了一种审批调整信息的生成方法及装置、存储介质、电子设备，其中，该方法包括：获取N组信贷审批数据；根据N组信贷审批数据从信贷审批系统中获取目标审批节点的目标审批日志；从目标审批日志中确定目标审批节点的审批效能数据；利用审批效能...
    2025-10-01
  • 套刻误差量测准确度评估方法
    套刻误差量测准确度评估方法_上海华力集成电路制造有限公司_202411215559.6
    本发明提供一种套刻误差量测准确度评估方法，包括：设置套刻标识；完成前层的光刻、刻蚀工艺，将前层套刻标识形成在前层上；第一次完成当层的光刻，量测当层对前层的套刻误差；根据第一次的套刻误差量测结果生成补偿值，在特殊区域生成预设的特殊补偿值；对晶...
    2025-10-01
  • 节能增力发电机
    节能增力发电机_央宗_202511104888.8
    本发明公开了节能增力发电机，涉及发电机技术领域。节能增力发电机，包括框架、惯性轮、动力提供装置、发电装置，所述框架的右边设有所述惯性轮，所述惯性轮与左下方的所述动力提供装置通过皮带连接，所述动力提供装置的另一端通过皮带连接有所述发电装置。本...
    2025-10-01
  • 曝光装置和曝光方法
    曝光装置和曝光方法_株式会社ORC制作所_202411226045.0
    本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，按照能够成为包括沿着倾斜方向的图案在内能够形成高分辨率的图案的曝光点分布的曝光间距而进行多重曝光。曝光装置以曝光区域(EA)相对于主扫描方向(X方向)倾斜了微小角度α的状态相对移动，在此期间，按照...
    2025-10-01
  • 用于全寿命周期的飞行器多模态切换方法及其相关设备
    用于全寿命周期的飞行器多模态切换方法及其相关设备_北京航天自动控制研究所_202211599662.6
    本公开的用于全寿命周期的飞行器多模态切换方法及其相关设备，通过初始化地面控制系统，利用地面控制系统的远程交互计算机接收上层切换指令；收到上层切换指令后，判断飞行器发射准备时间是否在预设时间范围之内；当所述飞行器发射准备时间不在预设时间范围之...
    2025-10-01
  • 用于选择光刻工艺的方法和半导体处理系统
    用于选择光刻工艺的方法和半导体处理系统_台湾积体电路制造股份有限公司_202210470277.5
    一种半导体处理系统包括第一光刻系统和第二光刻系统。半导体处理系统包括布局数据库，其存储表示要在晶圆中形成的特征的多个布局。半导体处理系统包括布局分析器，其分析布局并基于布局中特征的尺寸选择第一光刻系统或第二光刻系统。
    2025-10-01
  • 一种基于LDI的投影成像光刻系统及曝光方法
    一种基于LDI的投影成像光刻系统及曝光方法_优盛科技(苏州)有限公司_202511043203.3
    本申请公开了一种基于LDI的投影成像光刻系统及曝光方法。系统包括激光器、DMD控制板、DMD、光学镜头、对准相机、处理器、吸盘、运动平台和大理石基座等关键组件。通过静态投影与动态微位移的结合，本系统能够有效平滑曝光边缘，提高图形解析度，同时...
    2025-10-01
  • 一种小尺寸掩膜版拼接方法
    一种小尺寸掩膜版拼接方法_芜湖长信科技股份有限公司_202510959083.5
    本发明属于显示面板技术领域的小尺寸掩膜版拼接方法。当空白距离A≥2X+Y时，采用常规法的拼接步骤：直接在A区域内设置拼接交叠区域F；当空白距离A＜2X+Y时，采用遮挡法的拼接步骤：设置拼接交叠区域宽度F≥2X+B，B＝玻璃产品图案整体宽度，...
    2025-10-01
  • 一种工业相机用防护装置
    一种工业相机用防护装置_深圳市鸣汇科技有限公司_202422372812.0
    本实用新型涉及工业相机防护的技术领域，且公开了一种工业相机用防护装置,包括封盖组件，所述封盖组件的底部安装有防护罐组件，且其顶部安装有便捷清洁玻璃镜组件，所述防护罐组件的顶部安装有加固组件。本实用新型通过在装置上安装有便捷清洁玻璃镜组件，可...
    2025-10-01
  • 一种光刻工艺套刻误差的补偿方法、装置及光刻机
    一种光刻工艺套刻误差的补偿方法、装置及光刻机_中国科学院微电子研究所_202510642587.4
    本申请公开了一种光刻工艺套刻误差的补偿方法、装置及光刻机，可用于半导体制造领域，该方法中，首先，获取套刻误差分布数据；而后，基于套刻误差分布数据以及预先建立的用于表示套刻误差与位置坐标之间关系的三次多项式，确定三次多项式中各项系数的估计值，...
    2025-10-01
  • 分析来自凸版生产系统的数据的方法和计算装置
    分析来自凸版生产系统的数据的方法和计算装置_阿合斯印前有限公司_202480012969.2
    一种分析来自凸版生产系统(10)的数据的方法，该系统包括至少一个、优选地至少两个用于处理凸版前体以获得凸版的生产单元(20)，以及计算装置(30)，该方法包括在所述计算装置(30)处的以下步骤：接收来自至少一个生产单元(20)的数据，该数据...
    2025-10-01
  • 相机
    相机_福建鑫图光电有限公司_202423015478.X
    本申请公开一种相机，通过在外壳内设置调焦模块，调焦模块中的驱动组件与成像组件相连接，由于成像组件与外壳上的光学窗口相对，因此可以通过操控驱动组件来实现成像组件与光学窗口之间的距离调节，也即改变成像组件与镜头之间的距离调节，从而可以方便得实现...
    2025-10-01
  • 一种紫外灯用反射冷镜保护装置及方法
    一种紫外灯用反射冷镜保护装置及方法_成都高真科技有限公司_202111181057.2
    本发明公开了一种紫外灯用反射冷镜保护装置及方法，装置包括保护罩；所述保护罩设置于紫外灯下方的反射冷镜所在平面的上方，且所述保护罩的尺寸能够覆盖整个所述反射冷镜，用于在拆卸所述紫外灯时使所述反射冷镜免受所述紫外灯掉落造成损伤或损坏。本发明结构...
    2025-10-01
  • 倾斜形貌光刻层套刻的精确测量方法
    倾斜形貌光刻层套刻的精确测量方法_上海华虹宏力半导体制造有限公司_202510818455.2
    本发明公开了一种倾斜形貌光刻层套刻的精确测量方法，旨在解决厚胶套刻标记因倾斜不对称形貌导致的测量不准确问题。该方法包括：在覆盖有厚光刻胶的衬底上通过光刻曝光形成具有倾斜不对称形貌的当层套刻标记；测量该标记至少一个方向上的两条相对倾斜边的宽度...
    2025-10-01
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