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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 曝光工件的夹持装置及曝光设备
    曝光工件的夹持装置及曝光设备_厦门高光半导体材料有限公司_202422971503.5
    本申请提供一种曝光工件的夹持装置及曝光设备。其中的夹持装置包括夹持部件、第一抬升部件、第二抬升部件和铰接部件；夹持部件具有下夹板组件和上夹板组件，上夹板组件设置于下夹板组件的上方；第一抬升部件与上夹板组件的其中一侧连接，第二抬升部件与上夹板...
    2025-09-27
  • 一种纳米压印设备及压印方法
    一种纳米压印设备及压印方法_普雨科技(苏州)有限公司_202511163937.5
    本申请提供了提高生产效率的一种纳米压印设备及压印方法，可以应用于微纳制造技术领域。该纳米压印设备包括：至少两个平台，每个平台用于放置基板；平台移动导轨，设有预定位置，并用于承载至少两个平台，使至少两个平台能沿平台移动导轨移至或移出预定位置，...
    2025-09-27
  • 一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用
    一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用_武汉锐晶激光芯片技术有限公司_202511068466.X
    本发明涉及半导体制备技术领域，提出了一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用。其中光刻胶剥离液包括如下组分：有机胺、有机溶剂和去离子水，所述有机胺包括1‑(咪唑并[1,2‑a]吡啶‑7‑基)乙胺和2‑(1‑三苯甲基‑1H‑咪唑‑4‑基)乙胺中的一...
    2025-09-27
  • 一种异质集成的快恢复响应型高功率限幅器及制备方法
    一种异质集成的快恢复响应型高功率限幅器及制备方法_山东科技大学_202510976302.0
    本发明公开了一种异质集成的快恢复响应型高功率限幅器及制备方法，属于射频/微波电路保护领域，依次包括输入端口、第一限幅单元、阻抗匹配与整流偏置网络、第二限幅单元以及输出端口；第一限幅单元采用Si基PIN二极管，用于承载高功率输入信号；阻抗匹配...
    2025-09-27
  • 基于双余度机电管理系统GJB289A总线的主备控制器切换方法
    基于双余度机电管理系统GJB289A总线的主备控制器切换方法_陕西千山航空电子有限责任公司_202510923005.X
    本发明提供了一种基于双余度机电管理系统GJB289A总线的主备控制器切换方法，所述双余度机电管理系统包括两台机电管理计算机，其中一台所述机电管理计算机作为主控制器，另一台作为备控制器，还包括两台ECU控制器和三台作为RT的RIU单元，两台所...
    2025-09-27
  • 一种降低先进封装中铝垫腐蚀的显影液及其制备方法
    一种降低先进封装中铝垫腐蚀的显影液及其制备方法_镇江润晶高纯化工科技股份有限公司_202510970667.2
    本发明属于显影液领域，具体的涉及一种降低先进封装中铝垫腐蚀的显影液及其制备方法。本发明中显影液的制备原料按照质量份数计，包括：1‑5份季铵碱，0.1‑3份表面活性剂，1‑10份多元醇，0.01‑0.3份消泡剂和80‑100份去离子水。本发明...
    2025-09-27
  • 一种一次性纸碗
    一种一次性纸碗_成都奇鼎包装容器有限公司_202423090236.7
    本实用新型涉及纸碗技术领域，具体涉及一种一次性纸碗，其包括外层碗体，外层碗体内部设置有内层碗体，两个碗体之间连接有伸缩层。伸缩层设置为弯折纸片。外层碗体的碗沿内设置有延展层，延展层的延展端连接内层碗体的碗沿。外层碗体外壁套接有紧固件。本实用...
    2025-09-27
  • 收集器流动环
    收集器流动环_ASML荷兰有限公司_202511108265.8
    提供了用于收集器流动环(CFR)壳体的系统、设备和方法，收集器流动环(CFR)壳体被配置为减轻燃料碎屑在极紫外(EUV)辐射系统中的积聚。示例CFR壳体可以包括多个喷头流动通道出口，该多个喷头流动通道出口被配置为在CFR壳体的等离子体面向的...
    2025-09-27
  • 一种光刻机硅片传控方法及光刻机
    一种光刻机硅片传控方法及光刻机_新毅东(上海)科技有限公司_202311246496.6
    本发明提供了一种光刻机硅片传控方法及光刻机，该方法包括：获取光刻机所包含不同工作位分别对应的作业动作与作业顺序，基于作业动作实时监测不同工作位对应的作业状态，作业状态包括忙状态与闲状态；当监测到工作位对应的作业状态为闲状态时，根据作业顺序从...
    2025-09-27
  • 激光直写设备的数据处理方法、数据处理系统及相关设备
    激光直写设备的数据处理方法、数据处理系统及相关设备_深圳市先地图像科技有限公司_202310387956.0
    本申请实施例提供了激光直写设备的数据处理方法、数据处理系统及相关设备，预先在栅格图像中的竖直线的左向扫描行像素点和右向扫描行像素点之间设置像素偏移距离，使得在扫描成像过程中产生的位置延迟可以与预先设置的像素偏移距离抵消，从而可以通过检测左、...
    2025-09-27
  • 一种承载装置及光刻机
    一种承载装置及光刻机_成都辰显光电有限公司_202410309318.1
    本申请涉及显示基板制造技术领域，具体涉及一种承载装置及光刻机，提供一种承载装置，包括载台、限位机构和对位件，载台的承载面包括目标区域，目标区域用于放置目标工件；限位机构设置在目标区域的外围且与目标工件的边缘抵接；对位件设置在目标区域的外围且...
    2025-09-27
  • 拓扑优化对准标记
    拓扑优化对准标记_ASML荷兰有限公司_202480010958.0
    公开了一种用于拓扑优化的对准标记的逆设计方法。产生用于衬底上的第一对准标记，使得第一对准标记具有至少两个具有不同特性的像素的拓扑。确定至少两个像素中的每个像素的一个或多个特性。基于至少两个像素的一个或多个特性来优化第一对准标记的拓扑。基于对...
    2025-09-27
  • 一种大面积纳米光刻模块、装置和方法
    一种大面积纳米光刻模块、装置和方法_中国科学院光电技术研究所_202511118861.4
    本发明提供了一种大面积纳米光刻模块、装置和方法，光刻模块包括检焦对准系统和大面积控焦和对准偏差矫正模块；检焦对准系统用于测量焦面信息G与位置偏差信息P；大面积控焦和对准偏差矫正模块包括承片台和形变调控模块F。该光刻模块能兼容不同版图尺寸的掩...
    2025-09-27
  • 一种光强的计算方法、装置、设备及介质
    一种光强的计算方法、装置、设备及介质_上海集成电路制造创新中心有限公司_202411063287.2
    本发明提供了一种光强的计算方法、装置、设备及介质，利用阿贝成像原理结合光学薄膜叠层的折射和反射效应对光的偏振进行计算，得到光源单点对像平面电场强度的关系式；基于所述关系式利用光源的偏振对电场强度在光源范围内进行积分，并利用霍普金斯成像公式对...
    2025-09-27
  • 一种用于FPC天线显影生产线的快拆式显影液喷淋机构
    一种用于FPC天线显影生产线的快拆式显影液喷淋机构_东莞市永夏电子科技有限公司_202422981735.9
    本实用新型公开了一种用于FPC天线显影生产线的快拆式显影液喷淋机构，涉及FPC天线显影生产领域，包括壳体以及壳体左右两侧设置的输送带，且输送带穿过壳体内部设置，并且壳体的内部嵌套设置有过滤板，所述壳体的底部后端贯穿安装有输送管道，且输送管道...
    2025-09-27
  • 基于投影仪的新型冷却机构
    基于投影仪的新型冷却机构_深圳市投美科技有限公司_202421964851.3
    本实用新型涉及热管理技术领域，公开了基于投影仪的新型冷却机构，包括安装板，所述安装板的下表面固定连接有连接轴，所述连接轴设置在安装板的下表面两侧，所述连接轴的下表面固定连接有导热铝支架，所述导热铝支架的下表面固定连接有双面进风风扇，所述双面...
    2025-09-27
  • 一种单目式旋转相机镜头智能防摔方法
    一种单目式旋转相机镜头智能防摔方法_南京泓众电子科技有限公司_202511148441.0
    本发明公开了一种单目式旋转相机镜头智能防摔方法，包括以下步骤：S1、实时获取相机中姿态传感器的加速度信号和旋转角速度信号，加速度信号包括由加速度计检测到的分别沿X、Y、Z轴的运动速度，旋转角速度信号包括由陀螺仪检测到的分别绕X、Y、Z轴旋转...
    2025-09-27
  • 用于使用自动阈值化标识图案的中心的方法和系统
    用于使用自动阈值化标识图案的中心的方法和系统_ASML荷兰有限公司_202480012094.6
    本文描述了一种用于选择用于处理图像的阈值以确定图案的特性的方法。该方法包括访问图案的图像表示以及使用不同的阈值生成图案的特征的多个二维(2D)轮廓，其中2D轮廓中的每个2D轮廓对应于相应的阈值。2D轮廓被评估以确定2D轮廓的KPI值，并且来...
    2025-09-27
  • 用于以基于缺陷的过程窗口为基础的校准模拟过程的方法
    用于以基于缺陷的过程窗口为基础的校准模拟过程的方法_ASML荷兰有限公司_202511033466.6
    本文中描述关于改善与芯片的制造相关联的模拟过程和解决方案（例如，重定目标图案）的方法。方法包括获得多个剂量‑焦距设置、和基于与所述多个剂量‑焦距设置中的每个设置相关联的被印制的图案的特性的测量值的参考分布。所述方法还包括基于调整模型和所述多...
    2025-09-27
  • 套刻误差补偿方法
    套刻误差补偿方法_长鑫存储技术有限公司_202310290970.9
    本公开提供一种套刻误差补偿方法、装置与电子设备。套刻误差补偿方法包括：获取目标晶圆的第一套刻标记在当层的第一坐标与在前层的第二坐标；根据所述第一坐标和所述第二坐标获取所述第一套刻标记对应的实测套刻误差；根据多个所述第一套刻标记的所述实测套刻...
    2025-09-27
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